温度・流量・圧力・排気を同期記録し、触媒活性化条件を見える化
当社では、触媒活性化や反応挙動評価に適した「管状炉」を取り扱っております。 触媒処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気切替のわずかな違いが活性や再現性に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の分析に留まり、反応開始・終了やガス発生挙動を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、温度・流量・圧力・排気データを同期ロギングできます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気分析ラインを設計可能 ■ 触媒活性化条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
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基本情報
【仕様】 ■ 加熱ゾーン：120mmφ×500mmL ■ 管サイズ：70mmφ×1000mmL ■ 雰囲気：不活性ガス、真空、H2など各種ガス ■ 必要計装：MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングライン等 【対応できること】 ■ 温度・流量・圧力の同期ロギング ■ 排気ガス分析ライン、サンプリングポートの追加 ■ 入口・出口へのバイパスライン、ドレン、凝縮トラップ設計 ■ 触媒活性化、還元処理、前処理条件の比較評価 ※各仕様は用途に応じてカスタム可能です。
価格情報
※装置仕様によって価格が変動するため、詳しくはお気軽にお問合せください。
納期
※※装置仕様によって納期が変動するため、詳しくはお気軽にお問合せください。
用途／実績例
【用途】 ■ 触媒の活性化、還元処理、前処理条件の検討 ■ H2、N2、Ar、NH3、加湿ガス等での雰囲気処理 ■ 反応中のガス発生、圧力変化、物温変化の確認 ■ 排ガス分析を伴う小スケール反応試験 ■ 昇温速度、保持時間、流量条件の比較評価 【このような課題に】 ■ 焼成前後の分析だけでは反応開始・終了が分からない ■ 流量、圧力、物温、排気データを同時に記録したい ■ 外付け計装では校正・同期が崩れ、再現性が出にくい ■ サンプリングポートや背圧制御を含めて設計したい 条件が未確定の段階でも、触媒・ガス種・温度条件に応じた炉構成をご相談いただけます。
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企業情報
当社は、「電気」「設備」「化学」の三つの技術を独自のノウハウで 融合させ、革新的な加熱炉、その他設備を開発している会社です。 独自の高温電気炉技術を活かしカーボン炉やマルチ雰囲気炉、メタル炉、 塩素炉など様々な電気炉(加熱炉)を取り扱っております。 単なる設備メーカーではなく、10年先のスタンダードを見据え、お客様と 共にモノづくりを革新的な熱でサポートする、戦略的開発パートナーです。
