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【考古学向け】遮光リング/マスク

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最終更新日:2026年02月04日

株式会社ニチベイパーツ
株式会社ニチベイパーツ
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遺物の鮮明な記録に貢献!ゴースト・フレアを軽減

考古学の分野では、遺物の詳細な記録と分析が重要です。特に、写真撮影においては、光の乱反射によるゴーストやフレアの発生が、遺物の細部を不明瞭にし、正確な記録を妨げる可能性があります。当社の遮光リング/マスクは、カメラレンズの層間に使用することで、これらの問題を軽減し、よりクリアな撮影を可能にします。 【活用シーン】 ・遺物の写真撮影 ・博物館展示物の記録 ・学術研究における資料作成 【導入の効果】 ・ゴースト、フレアの軽減による鮮明な画像取得 ・遺物の詳細な記録と分析の精度向上 ・学術資料としての質の向上

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【考古学向け】遮光リング/マスク

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  • ニチベイパーツ - 遮光リング/マスク
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基本情報

【特長】 ・高遮光性によるゴースト・フレアの大幅軽減 ・内径テーパー加工による高い軽減効果 ・最小角度30°を実現 ・角度公差±5° ・製品寸法公差±0.01mm 【当社の強み】 お客様のニーズに最適な納期・品質・コストで応えるため、高度な加工技術と一貫した生産体制でお客様のご要望にお応えします。

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【使用例】 交換レンズ、デジタルカメラ、車載カメラ、ドローン、AIロボット搭載カメラ、双眼鏡 など

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【クリアな撮影を助ける】遮光リング/マスク

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わたしたちパーツメーカーの使命は、お客様のニーズに最適な納期・品質・コストでお応えすること。 そのためには高度な加工技術を取り揃えるとともに、 お客様のニーズ・ご要望の「その先」をも見据えてお応えできる体制づくりが不可欠です。 ニチベイパーツは、多彩な加工技術の蓄積と一貫した生産体制で、 お客様のご要望により深く・広くお応し先見性を重視したソリューションを提供いたします。

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