物理的洗浄の原理・応用・課題と解決策！半導体の構造、静電気障害対策から先端の洗浄法までに関わる国際会議の動向についても紹介
当社は「半導体デバイスの物理的洗浄手法」のオンラインセミナーを開催します。 本講座では、半導体製造プロセスにおける洗浄、特に物理的洗浄手法に焦点を当て、 その基礎から最新の動向までを網羅的に解説します。半導体デバイスの基本的な構造から 説き起こし、製造プロセス全体における洗浄の必要性を丁寧に説明します。現在の製造現 場で広く用いられている高圧スプレー洗浄、二流体スプレー洗浄、メガソニック洗浄、 ブラシ洗浄といった主要な物理的洗浄手法について、その原理と応用を深く掘り下げて いきます。さらに、講師が長年専門としてきたテーマである、洗浄時に発生する静電気 障害とそのメカニズム、そして具体的な対策方法について詳しく解説します。 【開催概要】 ■日時：2026年3月26日（木） 13：00～16：00 ※開催当日12：00まで申込受付 ■受講料：33,000円（テキスト代、録画視聴、税込、1名分） ■主催：日刊工業新聞社 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【プログラム】 ■半導体デバイス製造の基礎 ■ウエット物理洗浄 ■純水スプレー洗浄時の静電気障害 ■近年の学会情報 ■まとめ・質疑応答 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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用途／実績例
【受講対象】 ■半導体製造工程における洗浄プロセスの最適化と、製品歩留まりの飛躍的な向上を目指す生産技術者 ■微細化に伴い深刻化する洗浄時の静電気障害（ESD）の原因を特定し、実効性のある対策を講じたい品質・プロセスエンジニア ■スプレー、メガソニック、ブラシ洗浄などの物理的洗浄手法の原理を深く理解し、現場の課題解決に活かしたい実務担当者 ■UCPSSやSCSTなどの主要国際会議の最新動向から、次世代の洗浄技術や将来のビジネスチャンスを探る研究開発・新規事業担当者 ■半導体製造装置や関連部材のビジネスに携わり、最先端の洗浄ニーズと技術トレンドを把握しておきたい営業・マーケティング部門 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、新聞を中核に、出版・電子メディア・イベント(企画・催事)・教育などの 様々な事業を通じて、ビジネスに役立つ情報の発信に日々努めています。 日刊工業新聞社は新たな歩みを始めています。2015年11月に創刊100周年という 記念すべき節目を迎え「100年企業」の仲間入りを果たしました。 創業の理念「工業立国」「技術立国」を胸に一貫して日本の産業界とともに歩み、 日本の科学技術の発展や産業競争力の強化、中小企業振興に努めてまいりました。
