高効率OHラジカル生成、省スペース設計、水銀レスUV-C LED搭載
半導体業界の精密洗浄工程では、微細加工技術の進歩に伴い、より高い洗浄精度と、環境負荷の低減が求められています。特に、有機汚染物やフォトレジスト残渣の完全除去、金属汚染の抑制は、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。ラジカル洗浄ユニットは、高純度洗浄を実現し、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・SPMレスなフォトレジスト除去プロセス ・有機・金属汚染の抑制 ・金属膜酸化防止プロセス 【導入の効果】 ・洗浄効率の向上 ・環境負荷の低減 ・製品品質の向上
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基本情報
【特長】 ・コンパクトサイズで省スペースに設置 ・リニアな発光制御が可能 ・環境負荷を抑えつつ高効率な洗浄が可能 ・半導体製造、医療機器、食品加工など応用分野が広い ・ユニット内部の分割制御により、劣化時のフィードバック設定が可能 【当社の強み】 当社は、半導体業界のお客様のニーズに応えるため、顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化し、設計、開発、組立て、検査、据付、保守に至るまで製品のライフサイクルをトータルにサポートしています。
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企業情報
当社は、半導体業界、フォトマスク業界、ディスク業界及びレンズ業界に対し、 お客様の用途、製造ライン等に対応した各種装置の開発・設計・製造及び販売 などを行っている会社です。 顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化し、設計、開発、組立て、検査、 据付、保守に至るまで製品のライフサイクルをトータルにサポート。 すべての工程で顧客と密接な関係を構築することで直接、顧客の考える問題点や 技術トレンドを感じ取り、それに応じた開発にいち早く着手しています。
