Resists for UV-NIL (via RIE)
UV-NILレジストです。 スピンコート特性に優れています。 NIL特性に優れています。 高い耐エッチング性を持っています。 ❖No need for a primer treatment before coating. ❖Easily forms a thin film with superior thickness uniformity by spin coating. ❖Low volatility during vacuum defoaming on wafer. ❖Low volatility during hot-air drying on wafer. 詳細はパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。
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基本情報
UV-NILレジストです。 スピンコート特性に優れています。 NIL特性に優れています。 高い耐エッチング性を持っています。 ❖No need for a primer treatment before coating. ❖Easily forms a thin film with superior thickness uniformity by spin coating. ❖Low volatility during vacuum defoaming on wafer. ❖Low volatility during hot-air drying on wafer. 選択比 Al2O3: 1.0 TiO2: 0.6 詳細はパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
MEMS PSS など
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企業情報
新中村化学工業株式会社は、1938年に創業以来、植物性染料の 製造・販売を行う企業として、アクリル系樹脂を中心とした化学品の 製造・販売事業を展開しています。 研究開発・製造・営業・品質保証の緊密な連携で、お客様のニーズに すばやくお応えしますので、ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
