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UV-NILレジストです。 スピンコート特性に優れています。 NIL特性に優れています。 高い耐エッチング性を持っています。 ❖No need for a primer treatment before coating. ❖Easily forms a thin film with superior thickness uniformity by spin coating. ❖Low volatility during vacuum defoaming on wafer. ❖Low volatility during hot-air drying on wafer. 詳細はパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。
インプリント技術を活用してμm～nmオーダーまで、微細光学素子を作成するのに適した無溶剤光硬化樹脂です。 無溶剤でインプリントに適した材料です。 溶剤希釈しnmオーダーの薄膜にも対応できます スピンコート適性に優れます 低硬化収縮 高耐熱 (ハンダリフロー耐性) 高透明 nD 1.46 - 1.68 で調製できます 詳しくは、パンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。
❖Solvent free. low shrinkage UV-curable resins ❖High Tg and excellent heat resistance (up to 300˚C/572˚F reflow compatible) ❖Adjustable refractive index (nD = 1.5 – 1.6) ❖High optical transparency and durability ❖Spin-coatable, imprintable formulations suitable for sub-100 nm patterns 詳しくはパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。
Designed for low-loss waveguides, high-index contrast structures, and for photonic applications, including telecom wavelengths (1310 / 1550 nm).
高屈折率(nD 1.93)インプリント材料 メタオプティクス・フォトニクス向けのnD 1.93 高屈折率UVインプリント材料 ・メタレンズ、メタサーフェスなどメタオプティクスへ ・DOE ・シリコンフォトニクス ・AR / XR
無溶剤で粘度が約3000mPa・s(25℃)で厚塗りにも対応。 nD1.69 高屈折率。 WLOやMLA、AR/MR waveguide、メタマテリアルにどうぞ。
