Advanced NIL Materials for AR/MR, Photonics Integration
次世代光学材料として AR/MRディスプレイ センサー メタオプティクス シリコンフォトニクス など DOE MLA WLO Waveguide などインプリント技術を利用し作成できます。
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基本情報
❖Exceptionally-high refractive index (up to 1.93) for DOE ❖Exceptionally-low refractive index (up to 1.29) for Advanced optics ❖Adjustable refractive index (nD = 1.29 – 1.93) ❖High optical transparency and durability ❖Compatible with NIL and spin coating processes 詳しくは、パンフレットPDFをご覧いただくか、問い合わせくださいませ。
価格帯
納期
用途／実績例
❖AR/MR waveguides and couplers ❖DOE / MLA / WLO for imaging and sensing ❖Photonic chip encapsulation and bonding ❖Meta optics and hybrid optical packaging
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企業情報
新中村化学工業株式会社は、1938年に創業以来、植物性染料の 製造・販売を行う企業として、アクリル系樹脂を中心とした化学品の 製造・販売事業を展開しています。 研究開発・製造・営業・品質保証の緊密な連携で、お客様のニーズに すばやくお応えしますので、ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
