NL-Rseries (NIL Resists)

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Resists for UV-NIL (via RIE)

最終更新日：2026年03月16日

公式サイト

Resists for UV-NIL (via RIE)

UV-NILレジストです。スピンコート特性に優れています。 NIL特性に優れています。高い耐エッチング性を持っています。 ❖No need for a primer treatment before coating. ❖Easily forms a thin film with superior thickness uniformity by spin coating. ❖Low volatility during vacuum defoaming on wafer. ❖Low volatility during hot-air drying on wafer. 詳細はパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。

関連リンク - https://www.shin-nakamura.com/products

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基本情報

UV-NILレジストです。スピンコート特性に優れています。 NIL特性に優れています。高い耐エッチング性を持っています。 ❖No need for a primer treatment before coating. ❖Easily forms a thin film with superior thickness uniformity by spin coating. ❖Low volatility during vacuum defoaming on wafer. ❖Low volatility during hot-air drying on wafer. 選択比 Al2O3: 1.0 TiO2: 0.6 詳細はパンフレットをご覧いただくか、問い合わせください。