【NL-N93X】High RI Imprint Resin
【NL-N93X】Nanoimprint Resin for Meta-Optics, Photonics and DOE
メタオプティクス・フォトニクス向け高屈折率(nD 1.93)インプリント材料
高屈折率(nD 1.93)インプリント材料 メタオプティクス・フォトニクス向けのnD 1.93 高屈折率UVインプリント材料 ・メタレンズ、メタサーフェスなどメタオプティクスへ ・DOE ・シリコンフォトニクス ・AR / XR
この製品へのお問い合わせ
基本情報
屈折率1.93 @589 nm フィラーTiO2(rutile) particles 粒子径~10 nm (average) 充填量~65 vol% 硬化収縮 (linear)~3% コート方法Spin coating 成膜膜厚~ 50 nm – ~1 μm 硬化光源365 / 385 / 405 nm 推奨レプリカ Hard epoxy replica 前項戦透過率94% (1μm film) ヘーズ< 0.1% (1μm film)
価格帯
納期
用途／実績例
・メタレンズ、メタサーフェスなどメタオプティクスへ ・DOE ・シリコンフォトニクス ・AR / XR
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
新中村化学工業株式会社は、1938年に創業以来、植物性染料の 製造・販売を行う企業として、アクリル系樹脂を中心とした化学品の 製造・販売事業を展開しています。 研究開発・製造・営業・品質保証の緊密な連携で、お客様のニーズに すばやくお応えしますので、ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
