圧力ベースMFCで成膜プロセスの安定化と歩留まり向上を実現
半導体製造における成膜プロセスでは、ガス流量のわずかな変動が膜厚や膜質に大きな影響を与えます。特にCVD・PVD・ALD工程では、高精度かつ再現性の高い流量制御が、デバイス性能と歩留まりを左右する重要な要素です。GP200シリーズは、差圧センサーと最適化されたコントロールバルブ設計により、高精度な流量計測と優れた再現性を実現。安定したプロセス制御を支援し、高品質な薄膜形成に貢献します。 【活用シーン】 ・CVD（化学気相成長）プロセス ・PVD（物理気相成長）プロセス ・ALD（原子層堆積）プロセス 【導入メリット】 ・膜厚均一性の向上 ・組成制御精度の向上 ・プロセス安定化による歩留まり改善 ・ガス供給の再現性向上
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基本情報
【特長】 ・差圧センサー採用による測定誤差の低減 ・幅広いプロセス条件下で安定した流量制御を実現 ・高精度・高応答なマスフロー制御性能 ・バルブリークを従来比1/100に低減 ・半導体製造プロセスに求められる高い安定性と再現性に対応 【当社の強み】 当社は、精密流体測定・制御分野において長年培った技術と実績をもとに、半導体製造プロセス向けソリューションを提供しています。 お客様のプロセス条件や要求仕様に応じた最適なマスフローコントローラをご提案し、安定稼働と生産性向上を提供します。ご要望の際は、お気軽にご相談ください。
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企業情報
当社は、重工業、石油・ガス精製、化学や石油化学の研究、薬品薬剤や生物医薬品の生産、また、太陽電池、LED、薄膜、光ファイバー、半導体の製造装置など、さまざまな分野でご利用いただく製品をご提供しております。 プロセスの制御、正確な測定を行える環境設定に貢献することで、お客様側のプロセスの精度が高まり、常にお客様が競争力を発揮できるよう寄り添い切磋琢磨しながら、ビジネスの発展と成長を遂げてまいりました。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。
