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ITWジャパン株式会社

住所東京都江東区北砂1-4-4
電話03-5633-7100
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最終更新日:2025/02/26
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精密流体測定および制御なら当社におまかせください

当社は、重工業、石油・ガス精製、化学や石油化学の研究、薬品薬剤や生物医薬品の生産、また、太陽電池、LED、薄膜、光ファイバー、半導体の製造装置など、さまざまな分野でご利用いただく製品をご提供しております。 プロセスの制御、正確な測定を行える環境設定に貢献することで、お客様側のプロセスの精度が高まり、常にお客様が競争力を発揮できるよう寄り添い切磋琢磨しながら、ビジネスの発展と成長を遂げてまいりました。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。

事業内容

【取扱製品】 ■マスフローメータ / マスフローコントローラ ■面積式流量計(ローターメータ) ■圧力/真空製品 ■気化器製品 ■半導体製品 超高純度半導体産業向け製品 ■アクセサリーとソフトウェア(ケーブル、バルブ等)

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製品・サービス (25)

流量、圧力、蒸気および真空製品「総合カタログ」※流量計等を掲載! 製品画像
流量、圧力、蒸気および真空製品「総合カタログ」※流量計等を掲載!
マスフローコントローラ/メータ『GF40シリーズ』など2製品 製品画像
マスフローコントローラ/メータ『GF40シリーズ』など2製品
薄膜技術の基礎知識『薄膜技術とは?』 ※資料進呈 製品画像
薄膜技術の基礎知識『薄膜技術とは?』 ※資料進呈
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コリオリ式マスフローと高温用マスフロー【※新製品 パネル資料】

コリオリ式マスフローと高温用マスフロー【※新製品 パネル資料】

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【パネル資料】スケールアップとオートメーション化に貢献

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微小流量 コリオリ質量流量計 液体・ガス用メータ/コントローラ『Quantim(R) QMCシリーズ』

微小流量 コリオリ質量流量計 液体・ガス用メータ/コントローラ『Quantim(R) QMCシリーズ』

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薄膜技術の基礎知識『PVDとCVDの技術』 ※資料進呈

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ニュース(70)

ITW_BXWlSn3Q_I.png

【動画】コリオリ式マスフローコントローラ/メータ『Quantim QMC』動作原理

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Quantim QMC コリオリ式流量計(第3世代)で採用されている動作原理を動画で解説しております。(英語) https://www.youtube.com/watch?v=_BXWlSn3Q_I 動画チャプター 00:00 Brooks Instrumentについて 00:16 コリオリ質量流量計の動作原理 00:27 運動量保存の法則 00:40 角運動量保存の法則 00:52 コリオリ質量流量計の基本構造 01:07 電源の投入方法 01:23 高い安定性を誇るセンサー構造 01:40 自然周波数で振動するセンサーチューブ 02:14 センサーチューブの位相差検出 02:59 電子回路による信号処理 03:08 プロセス流量の測定方法 03:47 回路基板の役割 03:58 高度なアラームと診断機能とは 04:22 校正について <コリオリ式流量計がもたらす主な利点> ■プロセスの品質、歩留まり、生産性を向上 ■研究室からパイロットプラント、さらに製造ラインへのスケールアップ時間を短縮 ■総所有コスト(TCO)の削減

2025年07月10日

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【製品情報】コリオリ式マスフローコントローラ/メータ『Quantim QMC』

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新しいQuantim QMC コリオリ式流量計(第3世代)は、微少流量の気体や液体の測定と制御のアプリケーションに最適です Quantim(R) QMC コリオリ式マスフローコントローラとメータは、微少流量の気体や液体に対して極めて正確で安定した、再現性のある測定と制御を実現します。この第3世代の新しいQuantim QMC コリオリ式マスフローコントローラとメータは、プロセスの品質、生産の歩留まり、スループットを高めることで、ラボからパイロットプラント、生産までのスケールアップ期間の短縮に貢献します。 新しいQuantim QMC コリオリ式マスフローのシリーズは、ブルックスインスツルメントのQuantim 旧モデルと取付寸法、機能面で互換性があります。 用途 ■ 触媒研究 ■ 化学パイロットプラントにおけるマスバランス計算 ■ 気化機へのプリカーサ供給 ■ 精密コーティング ■ 高精度充填ステーション ■ 定量ポンプのフィードバック/制御ループ ■ 真空プロセス ■ 半導体ウェーハプロセス

2025年07月10日

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【製品情報】メタルシールマスフローコントローラ/メータ『GF100シリーズ』

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モデル GF100 / GF101 / GF120 / GF120XSL / GF120XSD / GF121 / GF125 / GF126 『優れた応答速度や繰り返し性で、高清浄度・超高清浄度のプロセスガス供給を実現』 半導体、MOCVD、その他のガス流量コントロール用アプリケーションを想定して作られたGF100シリーズは、高い繰り返し性と安定性能を確保し、業界標準を超える信頼性を提供します。標準のMultiFlo(TM) テクノロジーにより、ガスラインから切り離したり、精度を犠牲にすることなく、数千種類ものガスタイプとレンジの組み合わせをサポートします。 業界最高レベルのガス清浄度を実現するとともに、プロセスの柔軟性と効率性を向上し、収率と生産性を最大限に拡大することができます。 用途 ■ 半導体エッチングツール ■ 薄膜化学蒸着(CVD)システム(CVD、MOCVD、PECVD、ALD) ■ 物理蒸着(PVD)システム ■ エピタキシャルプロセスシステム

2025年07月03日

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企業名 ITWジャパン株式会社
連絡先〒136-0073 東京都江東区北砂1-4-4地図で見る TEL:03-5633-7100 FAX:03-5633-7101
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