光電融合デバイスの特性評価に最適なソリューション特集
TSL-570/MPM-220/SPA-110/OTF-980/WSS-2000/OSX-100/OPM-200/SLS-200
SiPh/PIC開発を加速させる評価ソリューション
本製品群は、シリコンフォトニクス(SiPh)やフォトニック集積回路(PIC)などの開発における特性評価と不具合解析を、高速かつ高精度に実現する測定ソリューションです。 光電融合デバイス開発において重要なのは、「測定結果をいかに迅速に開発へフィードバックできるか」ということです。 各種光学特性を正確に評価し、課題を素早く特定することで、開発効率の向上に貢献します。 WDL特性やPDL特性だけでなく、OFDR技術を利用することによりデバイス内部の反射位置を測定し、損失発生箇所を特定することも可能です。
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基本情報
各測定ソリューションに必要な機器例 1.挿入損失 (IL)/波長依存損失 (WDL)/偏波依存損失 (PDL)測定 ・波長可変光源 TSL-775 or TSL-570 ・偏光制御ユニット PCU-110 ・マルチポート光パワーメータ MPM-220 2.反射点/導波路伝搬損失測定 ・波長可変光源 TSL-775 or TSL-570 ・波長掃引フォトニクスアナライザ SPA-110 詳細はこちら "https://youtu.be/tNUDoUE6300?si=9oP0MdVVeY9O_GeK" 3.多ポート測定 (1)１x N デバイス ・波長可変光源 TSL-775 or TSL-570 ・マルチポート光パワーメータ MPM-220 (2)N x M デバイス ・安定化光源 SLS-200 ・光スイッチ OSX-100 ・マルチポート光パワーメータOPM-200 4.ROADMネットワークのエミュレーション ・光フィルタ OTF-980 or WSS-2000
価格帯
納期
用途／実績例
本ソリューションは、研究開発/設計検証/製造用途として幅広く活用されています。 ・SiPhチップや有機デバイスの導波路内部構造解析 ・SiPhリング共振器のQ値評価 ・カプラやフィルタのWDL/PDL/波形評価や試験 ・WSS等の多チャンネル同時測定 (同一条件下での一括測定により、設計ばらつきを高精度に評価可能) など
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企業情報
santecは光産業において40年以上にわたり、お客様からの品質に対する厳格な要求にお応えしながら、光コンポーネント、レーザー製品及び光測定器を製造してまいりました。 また、常に革新を求め、お客様からの御要望にお応えすることを通じて、santecは、数々の新しい光関連製品を世に送りだしてまいりました。私共の経営理念である光の理想郷「OPTOPIA」の創造への歩みは、製品のコンセプトから商用化までのタイムスケジュールを最小限にする歩みでもあります。
