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半導体洗浄でなぜ不良が出るのか? パーティクル・歩留まり不良対策

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最終更新日:2026年05月07日

株式会社日刊工業新聞社 
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物理洗浄の原理とESDリスクまで体系理解

当社は「生産技術者が知るべき、物理的洗浄の原理・応用・課題と解決策 半導体洗浄でなぜ不良が出るのか?パーティクル・歩留まり不良の原因と対策 ~物理洗浄の原理とESDリスクまで体系理解~」の オンラインセミナーを開催します。 本講座では、現場課題の解決に直結する視点から、物理洗浄の原理を体系的に 整理します。DLVO理論に基づくパーティクル付着・除去メカニズム、水流・音響・ 接触による各洗浄手法の作用原理を踏まえ、「なぜ除去できるのか/できないのか」を 理解し、プロセス条件設計に活かすための考え方を解説します。 さらに、見落とされがちな要因として、洗浄時に発生する静電気障害(ESD)にも 焦点を当てます。 【開催概要】 ■日時:2026年7月29日(水) 13:00~16:00 ※開催当日12:00まで申込受付 ■受講料:33,000円(テキスト代、録画視聴、税込、1名分) ■主催:日刊工業新聞社 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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半導体洗浄でなぜ不良が出るのか? パーティクル・歩留まり不良対策

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基本情報

【プログラム】 ■半導体洗浄における不良発生の構造理解 ■パーティクル付着・除去メカニズムと物理洗浄の本質 ■洗浄プロセスで見落とされる静電気障害と歩留まり不良 ■次世代洗浄技術とプロセス最適化の方向性 ■国際会議動向と今後の技術トレンド ■まとめと質疑応答 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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用途/実績例

【受講対象】 ■パーティクル残存や歩留まり不良の原因を科学的に特定し、根本対策を講じたい生産技術者 ■洗浄条件の安定化・再現性確保に課題を抱え、属人化から脱却したい担当者 ■静電気障害(ESD)が歩留まりに与える影響を理解し、未然防止策を構築したい方 ■次世代洗浄技術の動向を把握し、先端デバイス対応のプロセス最適化を進めたい方 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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当社は、新聞を中核に、出版・電子メディア・イベント(企画・催事)・教育などの 様々な事業を通じて、ビジネスに役立つ情報の発信に日々努めています。 日刊工業新聞社は新たな歩みを始めています。2015年11月に創刊100周年という 記念すべき節目を迎え「100年企業」の仲間入りを果たしました。 創業の理念「工業立国」「技術立国」を胸に一貫して日本の産業界とともに歩み、 日本の科学技術の発展や産業競争力の強化、中小企業振興に努めてまいりました。

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