EHチューナの反射を抑える効果をシミュレーションで確認。長さを調整することにより反射率を50%から0.96%までの改善。
当社の「PHOTO-WAVEjω」を使用し、反射波を 減少させることができるか検証した実績をご紹介します。 反射を想定して、主となる導波管の出口において、 インピーダンスを不整合させます。そして、反射波を生じさせます。 分岐した導波管の長さを調節します。調整することにより、 反射率を適切に抑えられることが確認できました。 【事例概要】 ■解析目的：EHチューナの電磁波解析 ■周波数：5GHz ■解析モジュール：PHOTO-WAVEjω ■評価項目：ポートのS11(絶対値)を用いて評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【その他の事例概要】 ■ポートの指定を行うことによって、インピーダンスなどの量を簡単に求めることができる ■インピーダンス境界が用意されているので、無反射境界の設定が簡単 ■出力される解析結果の種類を制御することができる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【適用分野】 ■電子レンジ ■空洞共振器 ■モード変換素子 ■EMI関連 ■RFID関連など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
フォトンでは、電磁現象を利用した製品、部品などをコンピュータ上でモデル化し、 シミュレーションする「電磁場解析用ソフトウェア」を開発しています。 従来の設計や開発の現場においては技術者の方の経験に基づく試作と、試作品による実験をループにした試行錯誤が中心でした。 しかし、実際に試作品を使った実験を行いその結果を検討するには多大な時間とコストを要します。 今後は、実験・試作ベースから解析ベースの設計への移行が生産性向上において重要課題であり、解析ベースの設計技術の中核となるシミュレーション技術の確立が課題となります。 このような状況の下、フォトンでは、電磁場を中心に、熱、振動についての「解析ソフトウェア」を開発し提供させていただいております。フォトンのソフトを活用して頂くことで、各種工業製品の開発・設計を効率よく行うことが出来ます。このようにして、フォトンは、ユーザー様の製造現場において、試作の回数や開発費用の低減、開発期間の短縮を実現し、ひいてはユーザー様の競争力強化を支援していきたいと考えています。
