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最終更新日:2026年09月10日

ゼストロンジャパン株式会社
ゼストロンジャパン株式会社
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剥離×溶解作用で難溶性物質も洗浄可能!洗浄性・安全性を両立する水系洗浄剤

当社で取り扱っている「フラックス洗浄剤」について ご紹介いたします。 フラックス残渣を選択的に除去し、電子デバイスの 品質・信頼性を支える水系の洗浄剤。 一般的な溶剤系洗浄剤は溶解作用を主体としてフラックス 残渣を落としますが、当製品は独自の洗浄技術により、剥離と 溶解の2つの作用を同時に発揮します。 【特長】 ■独自の洗浄技術による高い洗浄性 ■洗浄と同時に酸化膜除去+再酸化防止 ■洗浄することで接合強度アップ ■水系洗浄剤のため高い安全性 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

    プリント基板その他半導体洗浄剤
フラックス洗浄剤.png

フラックス洗浄剤 洗浄と同時に酸化膜除去+再酸化防止

フラックス洗浄剤.png
フラックス洗浄剤.png 洗浄剤2.png 洗浄剤3.png
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基本情報

【プリント基板向けフラックス洗浄剤の特長】 ■超高密度実装に対応可能(低スタンドオフ洗浄10μmも洗浄可) ■無洗浄タイプのフラックス(ポリマー・アミド含有)や水溶性フラックスの洗浄にも対応 ■各洗浄方式(スプレー・超音波・噴流)にて使用可 ■リンス性に優れる(fA/フェムトアンペアレベルのリーク電流抑制が求められる高精度洗浄でも対応可) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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中性フラックス洗浄剤『VIGON PE 305N』

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「フラックス洗浄剤」のページを追加しました。

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当社は「フラックス洗浄剤」のページを追加しました。 本製品は、フラックス残渣を選択的に除去し、電子デバイスの 品質・信頼性を支える水系の洗浄剤。 一般的な溶剤系洗浄剤は溶解作用を主体としてフラックス 残渣を落としますが、当製品は独自の洗浄技術により、剥離と 溶解の2つの作用を同時に発揮します。 【特長】 ■独自の洗浄技術による高い洗浄性 ■洗浄と同時に酸化膜除去+再酸化防止 ■洗浄することで接合強度アップ ■水系洗浄剤のため高い安全性

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ゼストロンはドイツ本社を拠点に世界8拠点を展開する、グローバル基準の『フラックス洗浄剤メーカー』です。 弊社洗浄剤は、高い洗浄性を持ちながらも、有機溶剤・VOCの削減、また使用量低減によるコスト削減を可能とする、 洗浄性と安全性を両立した地球環境に優しい水系洗浄剤を主力としています。 神奈川のテクニカルセンターでは、インライン・バッチ式のスプレー洗浄装置 や噴流、超音波装置の中からお客様のご希望に沿った装置をお選びいただき、 生産現場と同等条件のもとワーク洗浄をお試し頂けます。 また、洗浄テストと並行しながら分析センターにて清浄度を分析いたします。 デジタル顕微鏡、FT-IR、イオンクロマトグラフィー、SEM-EDX/EDSなどを駆使し 外観のみでは見逃しやすいフラックス残渣の検知も可能です。 テスト終了後には、推奨プロセスなどの詳細を記載したテクニカルレポートを、エンジニアより提出させて頂きます。 ※弊社は洗浄工程の問題に対するサポート対応を基本的には無償で行っております。  フラックス洗浄に関するご要望・課題がございましたら、ぜひお問い合わせ下さい。

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