PFAS規制対応と先端材料性能を両立し、材料開発の選択肢を広げる
「PFAS規制への対応を進めたい。しかし、性能は妥協したくない。」 そんな材料開発でお困りではありませんか？ 当社の電解フッ素化技術、有機合成技術および高純度化技術を活用したEF・ARシリーズは、PFAS系材料から非PFAS系材料まで幅広い選択肢を提供する機能性材料シリーズです。 EFシリーズは、PFAS系アニオンをラインアップし、先端フォトレジスト用光酸発生剤（PAG）や界面活性剤向け材料開発を支援します。 ARシリーズ（非PFAS）は、フォトレジスト用PAGや各種添加剤向けとして非PFAS化を支援します。 また、高純度化・低不純物化の要求をはじめ、お客様の処方や要求特性に応じた材料設計・カスタム提案にも対応しています。長年培った電解フッ素化技術、有機合成技術および高純度化技術を活用し、PFAS規制への対応と要求性能の両立を支援し、評価テーマの早期立上げや将来の調達リスク・規制リスク低減に貢献します。 フォトレジスト材料、PAG関連材料、各種機能性添加剤の開発をご検討の際は、 三菱マテリアル公式サイトをご確認いただき、お問い合わせフォームよりご相談ください。
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基本情報
〇 PFAS規制対応と要求性能の両立を支援 〇 PFAS系材料から非PFAS系材料まで幅広くラインアップ 〇 光酸発生剤（PAG）・各種添加剤向け非PFAS材料を展開（ARシリーズ） 〇 光酸発生剤（PAG）・界面活性剤向けPFAS系アニオン原料を展開（EFシリーズ） 〇 カスタム提案・受託開発に対応 〇 少量多品種生産に対応 〇 電解フッ素化技術・有機合成技術・高純度化技術を活用
価格情報
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納期
※数量によって納期は変動しますので、三菱マテリアル公式サイトからお問い合わせください。
用途／実績例
■半導体用添加剤 ・PFAS規制対応と要求性能の両立を支援 ・濡れ性、表面張力、界面制御などの機能付与に貢献 ・プロセス品質や歩留まり向上をサポート ■光酸発生剤（PAG）・フォトレジスト材料 ・PFAS系アニオンから非PFAS系材料まで幅広く提案 ・先端レジスト材料の開発を支援 ・PFAS規制リスクおよび調達リスク低減に貢献 ■機能性材料・各種添加剤 ・お客様の要求特性に応じた材料設計を支援 ・カスタム提案および少量多品種対応 ・高純度化ニーズを含む材料開発サポート
詳細情報
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●EFシリーズ ・先端フォトレジスト用光酸発生剤（PAG） ・界面活性剤
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●ARシリーズ ・PFAS規制に対応した構造設計（非PFAS・低懸念物質を指向） ・スルホン酸誘導体・スルホンイミドへ展開可能 ・用途に応じた分子設計が可能（置換基・カチオン設計など） ・半導体・電子材料向けの高機能アニオン材料を提供
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●導入によるメリット ・環境対応 ・開発効率 ・安定供給
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●用途例 ・半導体用添加剤 ・光酸発生剤（PAG）・フォトレジスト
企業情報
高機能製品事業では、低アルファ線はんだ、フォトレジスト用反射防止材などの半導体関連部材、精密実装材料の高機能・高品質製品をグローバルマーケットで製造・販売しています。 また、環境技術型製品として、未来に新しいコンセプトを提案すべく、独創性と実用性の両面から新製品の開発を進めており、ｘEVに搭載される温度センサや雷害・静電気対策部品、自動車や建築物の窓ガラスに使用される熱線カット塗料、高耐熱性で低抵抗、高熱伝導率の実装材料など国内外から高く評価されており、今後が大いに期待されています。
