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X線光電子分光分析『XPS』

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最終更新日:2026年10月30日

川重テクノロジー株式会社
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極表面の構成元素および化学結合状態を分析する手法をご紹介!

『XPS』は、軟X線を試料表面に照射することで放出される 光電子のスペクトルを解析する手法です。 極表面(数nm程度)の構成元素および化学結合状態の分析が可能です。 当社では、高速イオン銃や全反射測定用の高精度ステージなどを 装備しており、幅広い試料への応用が実現できます。 【主な応用範囲】 ■材料表面近傍の深さ方向評価 ■材料表面の腐食、変色、酸化などの調査 ■各種未知化合物の化学結合状態の推定 ■半導体表面などの汚染物質調査 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

    分光分析装置受託解析受託測定
川重2.png

X線光電子分光分析『XPS』

川重2.png
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●研究・開発と品質保証のパートナー ●製品の「開発・設計」から「計測・評価・生産」「品質保証・メンテナンス」までのあらゆる技術的課題を「迅速かつ的確」に解決 ●129年の歴史を誇る川崎重工グループの研究開発支援企業 ●川崎重工業技術研究所などの研究開発部門との協調による確かな技術力 ●先端技術分野への積極的取り組み

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