ナノインプリントリソグラフィー。徹底的なコストダウンで、低価格実現
高微細化、低コスト、高スループットを実現した ナノインプリントリソグラフィー 【特徴】 ○低残膜、膜厚均一性の高いImpFlexと共通のインプリントエンジン搭載 ○徹底的なコストダウンにより低価格を実現 ○バブル消去ガスプロセス対応 ○多種モールドに対応可能 モールドサイズ□10ｍｍから最大90mmまでの転写が可能 また、モールド材料は石英の他にオプションで Ni電鋳などの他の材料も使用可能 ○豊富なオプションによりアップグレードが可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
高微細化、低コスト、高スループットを実現した ナノインプリントリソグラフィー 【特徴】 ○低残膜、膜厚均一性の高いImpFlexと共通のインプリントエンジン搭載 ○徹底的なコストダウンにより低価格を実現 ○バブル消去ガスプロセス対応 ○多種モールドに対応可能 モールドサイズ□10ｍｍから最大90mmまでの転写が可能 また、モールド材料は石英の他にオプションで Ni電鋳などの他の材料も使用可能 ○豊富なオプションによりアップグレードが可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
価格情報
-
納期
用途／実績例
詳細は、お問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
モーション・サーボ・システム・精密機械・筐体技術をコア技術として、今後、ますます多様化するニーズにお応えして行くため、弛まぬ努力をしてまいります。