フォトプロセス解析用露光装置シリーズ
＜主なレジスト解析露光装置ラインナップ＞ ■UVES-2000 g線/h線/i線/248nmおよびブロード光対応解析露光装置） ■VUVES-4700i 248nm、193nm露光および193nm液浸露光に対応 ■EUVES-7000 EUV光源を搭載し、13.5nmオープンフレーム露光が可能
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基本情報
＜装置概要＞ ■1枚のウェーハに、露光条件を変えながらステップ露光することが可能 ■露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速 その他機能や詳細については、お問い合わせ下さい。
価格情報
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納期
用途／実績例
リソテックジャパン社は、設立以来リソグラフィのスペシャリストとして、 現像速度解析装置、リソグラフィ・シミュレータ、コーター、デベロッパ、 さらに最先端プロセス評価用露光システムに至るまで、 お客様のご要望に迅速に対応しています。 詳細は、お問い合わせ下さい。
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピン塗布コータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。