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最終更新日:2012年07月10日

日本電子工業株式会社 本社
日本電子工業株式会社 本社
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プラズマCVD法により、複雑形状の製品や内径内面へ密着力の優れたDLCーSi被膜をコーティングできます。

「プラズマCVD NEO-Cコーティング」は、真空中で得られる低柵プラズマを利用して種々の製品にトライボロジー特性に優れたDLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜を高い密着力でコーティングします。 処理後の製品では、2000Hv前後の高硬度で低摩擦係数な平滑性に優れた高性能表面が得られます。 また、これまでのDLCの弱点だった付き回り性の悪さも大幅に改善し、複雑な形状を持つ金型、機械部品の凹凸面や内径内面の処理にも対応が容易です。 アルミ・銅など非鉄金属やハンダの凝着防止に効果があり、非鉄金属のプレス金型や摺動性の機械部品などのメンテナンス性が大幅に向上するとともに、耐久性も向上させる事ができます。 また、摩擦抵抗の低減や耐焼付き性の改善により加工時の潤滑油や離型剤の使用量を低減できることから、環境調和型の表面改質技術としても注目されています。

    真空ポンププレス金型組立治具
neo.jpg

ドライな潤滑被膜 DLC/NEO-Cコーティング

neo.jpg
neo.jpg

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基本情報

【特徴】 ○ 高密着性 ○ 低摩擦係数 ○ 耐凝着性 ○ 優れた付き回り性 ○ 複合処理 ○ 適用材質 ● その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。

価格情報

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用途/実績例

【使用例】 ○ 非鉄金属プレス金型(パンチ、ダイ) ○ 冷間プレス(穴加工パンチ、せん断工具、カシメ工具) ○ アルミダイキャスト(中子ピン、その他ピン) ○ 機械部品(裁断刃、圧縮機部品、摺動部品、動力伝達部品) ● 詳細は、お問い合わせ下さい。

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当社は、1957年4月東京・三鷹において、高周波誘導技術を 応用した高周波焼入れのジョブ・ショップとして操業を 開始しました。 また1973年には、独自のプラズマ熱処理装置「イオン窒化」を 国内で最初に開発・実用化いたしました。 今日では、セラミックコーティング、プラズマ熱処理そして 高周波誘導加熱を基にし、時代の最先端技術を駆使する熱処理の プロフェッショナル集団として産業界のニーズに お応えしています。 また、プラズマ熱処理装置「イオン窒化装置」をはじめ、 独自技術を応用した熱処理設備の販売では、アジアをはじめ 海外においても高い評価を得ています。 弊社は、これからも創造性とチャレンジ精神を持って熱処理を 通し、産業の発展と豊かな社会の実現に向けて努力を 続けてまいります。  

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