LC社製高出力極短パルスレーザ(PHAROS、CARBIDE)用のOPAで、高い出力安定性を有し高ビーム品質の極短パルスを発生
幅広い波長域において高い出力安定性を有し、ビーム品質の高い極短パルスを発生出来る。波長変換オプションにより紫外光から中赤外光までPC制御で波長チューニング可能で、しかも最大2MHzの高繰返しを実現。また励起光源の基本波と第2高調波を本体から出射可能。 ORPHEUS-NEO簡単に使用出来る最新型 ORPHEUSは基本型 ORPHEUS-HEは最大5mJ励起エネルギータイプ ORPHEUS-VISは広帯域超短パルス型 ORPHEUS-MIRは中赤外広帯域型 ORPHEUS-Nはノンコリニアタイプ ORPHEUS-PSは狭帯域ピコ秒タイプ
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基本情報
◆ORPHEUS 特長 ●高繰返し：シングルショット～最大2MHz ●最大入力パワー：80W ●入力パルスエネルギー：0.4ｍJ ●自動波長チューニングレンジ：190nm～16000nm ●波長域： 630～1030nm (シグナル光 ）, 1030～2600nm (アイドラー光 ）, 315～630nm (SHG), 210～315nm (FHG) 2200～4200nm (DFG1), 4000～16000nm (DFG2) ●パルス幅:120～400fs（ORPHEUS） 100～300fs (ORPHEUS-ONE）
価格情報
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納期
用途／実績例
PHAROS / ORPHEUSの組み合わせは、高繰返し、高出力、高ビーム品質、PC制御波長チューニング可能なフェムト秒パルスを得ることが出来るため、マルチフォトン顕微鏡、微細構造加工、分光分析等の応用に最適。 一台のPHAROSで複数台のOPA励起が可能。
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企業情報
当社はレーザ発振器及び光学機器・部品の輸入販売からスタートし、世界の革新的で独創的な電子光学機器の輸入販売と高度な技術サービスの提供を通して発展してまいりました。 主要商品としては、半導体レーザからナノ・ピコ・フェムト秒レーザまで各種のレーザ光源を取り扱い、それらを調整・制御する各種機器及び計測機器を取り揃えております。光分光・分析の分野では高性能マルチスペクトルファイバー入射分光器とその応用計測システム（カラー・発光・吸収・ラマン分光・蛍光・プラズマ・LIBS等)と、IRレンズを提供しています。さらに薄膜技術の発展に対応して、薄膜密着強度試験機や光学干渉式膜厚モニタなど、薄膜計測機器を取扱っております。 今後は、ユーザーの要求に迅速に応えるべく、各種アプリケーション及びアフターサービスを充実させてまいります。今後も光とナノテクノロジーの分野にしっかりとした軸足を置き、市場の動向に対応して、皆様のお役に立つフロンティア商社として、更なる発展を目指してまいります。
