【UV照射、高濃度オゾン、温度加熱】 それぞれの要素の相乗効果が期待できる乾式洗浄装置！ランニングコストが安く経済的！
UV照射、高濃度オゾン、温度加熱の相乗効果が期待できる乾式洗浄装置です。UVランプは長寿命と低価格のため、ランニングコストが安く経済的です。 【特長】 ■UV照射、高濃度オゾン、温度加熱の相乗効果が期待できる乾式洗浄装置 ■UVランプは長寿命と低価格のため、ランニングコストが安く経済的 ■オゾン濃度制御が可能 ■ｌＲヒーターによる基板加熱のため、洗浄反応効率をアップ ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
![UVオゾンアッシング装置[1].jpg](https://image.mono.ipros.com/public/product/image/0e3/42552003/IPROS84733464567518271577.jpeg?w=280&h=280)
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基本情報
○UVランプは長寿命と低価格のため、ランニングコストが安く経済的です。 ○オゾン濃度制御が可能です。 （UVランプによる低濃度オゾン雰囲気から、オゾナイザーによる高濃度雰囲気まで） ○IRヒーターによる基板加熱のため、洗浄反応率をアップします。 ○長年の技術開発で培われた技術データと納入実績を有します。 ○大型量産装置から小型実験装置まで、ユーザーの要求に応えます。 ◎その他機能は、カタログのダウンロード、もしくはお気軽にお問い合わせください。
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用途／実績例
【用途】 〇液晶用基板
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企業情報
技術開発企業を目指し、液晶・半導体市場における地歩を固めるべく、持てるパワーを注力しております。 市場ニーズの適切な把握と即応力で、お客様要望の商品を提供してまいります。 また、将来事業に向け環境関連商品の開発にも手がけて行く、社会貢献できる体制の構築に努めたいと思っております。