製造・加工機械の製品一覧
- 分類：製造・加工機械
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！
- その他半導体
- 加工受託
- ウエハー
研究現場で大活躍！試験管・シリンジやスクリュー瓶・バイアル瓶もキャップしたまま印刷貼付可
- 業務用プリンタ
- ラベラー
- ラベラー
工場の自動化ラインでの活用事例多数！防塵対応でラベルやインクが飛び散らない為、クリーンルーム環境でも活用ＯＫ
- 業務用プリンタ
- ラベラー
- ラベラー
機能材料・電子材料・粉体混合材料など工業化学原材料の焼成や仮焼などの受託焼成・委託焼成はテクノファイアリングにお任せください。
- 製造受託
- 加工受託
- 工業炉
必要な工程だけをピンポイントで。高速インデックスが生む、無駄のない搬送システムを実現
- 搬送・ハンドリングロボット
- その他搬送機械
溶かさず原子レベルで金属板を一体化。内部空間の自由設計も実現可能。航空・宇宙、医療機器、半導体関連で活用可能
- その他加工機械
- その他金型
- その他 試験 受託
金型製造で培った技術力をもとに、 研究開発から設計、製造、量産までトータルに対応します
- プラスチック金型
- 金型
- 食品包装機械
基板上下昇降・回転、RF/DC基板バイアスの機能を備える超高温基板加熱ステージ Max1800℃
- スパッタリング装置
【Lab6放電プラズマ生成 熱電子銃用ヒーター】
真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット） ご要望の仕様にて都度製作致します。 さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。 円筒状加熱範囲内に、試料を入れた坩堝の加熱、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応じてカスタムメイド致します。 ◎ 使用可能環境：真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体：Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲：ヒーター部（Φ150 x 100mm程度まで）導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途：各種真空装置プロセスチャンバー内での試料加熱、放電プラズマ生成ユニット熱電子銃（Lab6）用、ガス供給系統配管急速加熱（液体急速気化） その他ご要望に応じ、特注仕様製作致します。詳細は当社までお問い合わせ下さい。
CVD, PVD（蒸着, スパッタ等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用 プレートヒーター
- その他半導体製造装置
- アニール炉
- CVD装置
【Lab6放電プラズマ生成 熱電子銃用ヒーター】
真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット） ご要望の仕様にて都度製作致します。 さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。 円筒状加熱範囲内に、試料を入れた坩堝の加熱、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応じてカスタムメイド致します。 ◎ 使用可能環境：真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体：Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲：ヒーター部（Φ150 x 100mm程度まで）導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途：各種真空装置プロセスチャンバー内での試料加熱、放電プラズマ生成ユニット熱電子銃（Lab6）用、ガス供給系統配管急速加熱（液体急速気化） その他ご要望に応じ、特注仕様製作致します。詳細は当社までお問い合わせ下さい。
ＱＲラベルとクラウドで、複数拠点のパレットを管理。出荷・返却から積荷管理など、実用例もご案内！
- パレット
- パレット
- 生産管理システム
ク－ラントタンクユニット（クーラント装置）は、クーラントの種類／処理量／設置スペースなどの、使用条件や設置環境に適した構築が重要
- その他実装機械
クーラントタンクユニットの製作方法をご案内（具体例でご説明）
ク－ラントタンクユニット（クーラント装置）は、クーラントの種類／処理量／設置スペースなどの、使用条件や設置環境に適した構築が重要です （ご提案ポイント） ❶ お客様の加工内容に合わせた、最適なオーダーメイド対応 ❷ 他社製品との組み合わせにも、柔軟に対応 ❸ 多くの設置実績をベースに、コスト削減を実現 ★「カタログ」には、使用条件／設置環境が違う、具体的な「製作事例」を多数掲載！ ぜひダウンロードください
