理化学機器の製品一覧
- 分類：理化学機器
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電池の基本概念から、利用目的・実現方法による分類までを体系化。複雑な電池選定の第一歩を、初心者目線で分かりやすくまとめました
- 電池・バッテリー
- 技術書・参考書
- 技術書・参考書
アプリケーションに応じた塗布システム 使い勝手の良さを追求したディスペンサーコントローラ
- ディスペンサー
- 分注器
- シリンジポンプ
パワーアンプ等の部品損傷に効果を発揮！5G/4G用向け超広帯域デジタルステップアッテネータ
- その他理化学機器
- その他光学部品
- その他機械要素
嫌気性接着剤を高精度に微少量吐出！ 長時間連続運転でも安定した吐出が可能！
- その他ポンプ
- ディスペンサー
- 分注器
紫外線硬化（UV硬化）製品の取り扱いを開始しました
ウェーブクレスト株式会社は、Uvitron International社の製品の取り扱いを開始しました。 Uvitronは、高性能な紫外線照射装置の開発と製造において業界をリードしています。Uvitronの製品は、幅広い用途に対応し、効率的で均一な硬化を実現します。 【主な製品ラインアップ】 ・NovaRay：高輝度UVランプを搭載し、効率的かつ精密な硬化を提供します。 ・LuminaPro：多機能で使いやすいインターフェースを備えたUV照射システム。 ・OptiCure：特に医療・工業用途向けに設計された高出力UV硬化装置。 【製品の特長】 ・高効率：エネルギー消費を抑えつつ、高効率な硬化を実現。 ・精密制御：最新のマイクロプロセッサー技術により、精密な制御が可能。 ・多様な用途に対応：3Dプリント、医療機器製造、エレクトロニクスなど、さまざまな業界で利用されています。 Uvitronの製品は、品質、信頼性、そして性能において業界の最前線を走り続けます。お客様のニーズに合わせたカスタマイズも可能で、個別のプロジェクトに最適なソリューションを提供いたします。
ＢＤ社 ゲージ圧 絶対圧 高温用圧力センサＤＭＰ３３１Ｐシリーズは、媒体温度１５０℃又は３００℃まで使用可能です。
- 油圧機器
- オートクレーブ
- 圧力制御
ＢＤ社 超高圧用 圧力トランスミッタ ＤＭＰ３３４
- 水圧機器
- その他の自動車部品
- オートクレーブ
±0.1％FSの高精度、媒体温度:150℃まで(絶対圧/負圧)又は300℃まで(ゲージ圧)
- 油圧機器
- オートクレーブ
- 圧力制御
ＢＤ社 高温高精度 圧力トランスミッタ DMP331Pｉシリーズのカタログを新規登録しました
● ±0.1％FSの高精度 ● 媒体温度150℃(絶対圧/負圧)または300℃(ゲージ圧)まで ● オプションで本質安全防爆タイプ、RS232 出力も可能 ● 40kPa~４MPa FS まで豊富な圧力レンジ ● ゲージ圧、絶対圧、連成圧の３モード ● 4～20mA または0～10V 出力 詳細は、カタログダウンロード下さい。
ＢＤ社 超高圧用 高精度圧力センサ ＤＭＰ３３４ｉ
- 水圧機器
- その他の自動車部品
- オートクレーブ
媒体温度:-40℃～150℃(絶対圧)又は-40℃～300℃(ゲージ圧)、圧力レンジ:6MPa/10MPa/16MPa
- 油圧機器
- オートクレーブ
- 圧力制御
ＢＤ社 高温高圧用 圧力トランスミッタ DMK331P のカタログを新規登録しました
● 媒体温度 ー４０℃～１５０℃（絶対圧）又はー４０℃～３００℃（ゲージ圧） ● 6MPa、10MPa、16MPa の３レンジ ● ゲージ圧、絶対圧の２モード ● 4～20mA または0～10V 出力 ● オプションで本質安全防爆タイプも可能 詳細は、カタログダウンロード下さい。
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
- ガスフィルタ
- フィルタユニット
- 窒素ガス発生装置
最高使用温度 400℃対応の高性能メンブレンガスフィルター
- ガスフィルタ
- フィルタユニット
- 窒素ガス発生装置
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
- ガスフィルタ
- フィルタユニット
- 窒素ガス発生装置
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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- 窒素ガス発生装置
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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- 窒素ガス発生装置
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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- 窒素ガス発生装置
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
- ガスフィルタ
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- 窒素ガス発生装置
【選定ガイド進呈中】4ステップで簡単選定！様々なガスフィルターからご状況に適したモデルを選定できます！
- ガスフィルタ
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- 窒素ガス発生装置
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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- 窒素ガス発生装置
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
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- 窒素ガス発生装置
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガスフィルターです。
- ガスフィルタ
- フィルタユニット
- 窒素ガス発生装置
省エネ革命！PSA(Pressure Swing Adsorption)式窒素ガス発生装置でコスト削減と環境負荷低減を同時に実現
- 窒素ガス発生装置
消耗品キャンペーン； 2026年6月1日（月）～2026年9月30日（水）ご注文分まで ICP発光分光分析装置、マイクロウェーブ試料分解装置
日頃のご愛顧に感謝し、消耗品をお得にお求めいただけるキャンペーンを実施いたします。 高精度で安定した分析や安全な分解作業のために、定期的に交換が必要な各種消耗品を20％OFFの特別価格にてご提供いたします。 詳しい内容はそれぞれのリーフレットをご覧ください。
