加熱装置・炉の製品一覧

  • 分類:加熱装置・炉

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電池の基本概念から、利用目的・実現方法による分類までを体系化。複雑な電池選定の第一歩を、初心者目線で分かりやすくまとめました

  • 電池・バッテリー
  • 技術書・参考書
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静電式により高い捕集率を実現。大型から小型まで豊富なラインアップを展開。水溶性オイルミストにも対応

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  • 空調

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6ゾーンPID制御と窒素雰囲気で、均一な品質のろう付けを実現。均熱性・温度精度・酸化防止をすべて兼ね備え試作~量産まで対応可能。

  • 工業炉
  • アルミヒータ

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6ゾーンPID制御と窒素雰囲気で大型EV熱交換器も均一加熱。試作から量産まで高品質なろう付けを実現。

  • 工業炉
  • アルミヒータ

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磁気デバイスの基幹プロセスにベストな提案を。磁気専門メーカーが提供するアニール装置。

  • 加熱装置
  • 電気炉
  • 工業炉

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マイクロ波および高周波誘電加熱の加熱方式の違いを整理するとともに、これらの技術が応用されたプロセスの具体的な実用例をご紹介!

  • 高周波・マイクロ波部品
  • 加熱装置

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様々な形態に合わせシステム化されたマイクロ波加熱装置、特に大電力による量産システムをご紹介!

  • 加熱装置

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スマート保温でランニングコストを90%削減! 省人化&省エネ効果でヒーターとボイラーのお悩みを即解決

  • その他ヒータ

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優れた給気排気性能の高性能セラミック熱交換素子採用!日本の住宅のために設計、開発

  • 空調
  • その他ヒータ

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年中快適な空間!ヒートポンプ式の空調機なのでCO2の排出量が少なく、環境負荷の低減に貢献

  • 空調
  • その他ヒータ

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グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価

  • リチウムイオン電池
  • 2次電池・バッテリー
  • 電気炉

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《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献!高温下で内部構造の変化を直接観察

「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT(光コヒーレンストモグラフィー)を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。

集光加熱方式で約50℃/secの急速昇温、加熱ランプOFFで急冷も可能。各種雰囲気への対応

  • 電気炉

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【高温加熱炉予算申請用カタログ】\ 開発・研究費などの予算申請に /

世界中の様々な研究機関で使用されている、米倉製作所の加熱観察装置・IRイメージ炉をラインナップしました。 ▼ラインナップ▼ 高温炉 1.加熱観察型「MHO-300-2」お持ちの顕微鏡で観察!オプションで-100℃まで冷却も 2.小型「IR-TPS」お持ちの顕微鏡で高温(1500℃)その場観察 3.超高温加熱型「IR-18SP」高温(1800℃)まで加熱 4.小型「IR-TP」各種分析を可能とした設計 5.広域高温型「IR-QP」IRシリーズでは加熱範囲が広く、高温(1700℃)まで加熱 6.広域型「IR-HP」IRシリーズでは加熱範囲が広く、平板、ウエハ、基板などの加熱に 7.広域高温型「IR-HQ」IR-QPの上位機種。高温(1800℃)まで加熱 8.大面積「IR-OP」様々な加熱条件のシュミレーションに 9.長尺大面積「IR-HP5」専用設計の長尺加熱ランプ採用 詳細は各商品ページなどでご確認ください。試験に合わせたカスタマイズのご相談も承っておりますので、お気軽にお問い合わせください。

UHV Ceramic Washer or Parts

  • 分析機器・装置
  • セラミックヒータ
  • その他端子台

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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

  • 加熱装置
  • 電気炉
  • アニール炉

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1.jpg

4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】

Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

  • 加熱装置
  • 電気炉
  • その他ヒータ

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iPROS_560.jpg

高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲(るつぼ寸法) ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

分析・評価装置の温度制御を高精度で支援。安定した熱源を提供するフィルムヒーター。

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  • その他ヒータ
  • 表面処理受託サービス

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均一な熱で焼き上げ・乾燥・保温を実現。食品設備の品質を支えるシート状のポリイミドヒーター。

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