加熱装置・炉の製品一覧
- 分類:加熱装置・炉
601~630 件を表示 / 全 4473 件
用途はアイデア次第! 重い物が 楽に 軽く 回せる 小型旋回ベアリング「楽っかる(らっかる)」!
- 金属軸受・ベアリング
炉内用ヒーターの耐久性・温度ムラにお悩みの方はご相談ください。黒鉛(グラファイト)のような加工性と高い耐熱衝撃性と耐衝撃性を両立
- その他ヒータ
電力の入れ具合で昇温スピードも設計可能!面でしっかりと確実に熱を伝えます!医療機器で活用いただいた際の改善点をご紹介中
- シリコンヒータ
お客様の製品とプロセスに応じて精密に調整可!赤外線技術を用いて解決策をご提案しています
- 加熱装置
- その他ヒータ
自動車製造プロセスにおけるプロセス時間の短縮、コスト削減、省エネルギー等、プロセスの高効率化をもたらします!
- 加熱装置
- 乾燥機器
- その他ヒータ
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置(Φ8"対応)1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング )搭載!コンパクトサイズ!
多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。