加熱装置・炉の製品一覧

  • 分類:加熱装置・炉

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用途はアイデア次第! 重い物が 楽に 軽く 回せる 小型旋回ベアリング「楽っかる(らっかる)」!

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JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案!デモキット無料貸出。

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  • その他安全・衛生用品

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炉内用ヒーターの耐久性・温度ムラにお悩みの方はご相談ください。黒鉛(グラファイト)のような加工性と高い耐熱衝撃性と耐衝撃性を両立

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急速加熱に好適!エッチングを採用したラバーヒーターをご紹介します

  • その他ヒータ

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電力の入れ具合で昇温スピードも設計可能!面でしっかりと確実に熱を伝えます!医療機器で活用いただいた際の改善点をご紹介中

  • シリコンヒータ

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ポンプ凍結防止ヒーターや大型サイロ防湿保温用ヒーターなど!ヒーター応用例のご紹介

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従来品と比べ3割の効率アップが望めます。

  • その他ヒータ

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超薄形(0.2mm)・超軽量の工業用ヒーター。1枚から製作可能です

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水がかかっても大丈夫な素材を使用した防滴タイプ!結露による絶縁抵抗値を保つことが可能です

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  • その他ヒータ

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オイルポンプやオイル配管などに!余計な管理や変更がなくなり工程も安定した事例

  • シリコンヒータ

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ラバーヒーター周辺部品のアッセンブリまで可能!組立工程の短縮に繋がります!

  • シリコンヒータ

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防滴タイプも新登場!同じものを追加するよりも1枚からの自由設計で万一に備えて対策を

  • シリコンヒータ

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大型サイロ防湿保温用ヒーター、集塵機ホッパーなどに!形に合わせてオーダー可能

  • シリコンヒータ

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ラバーヒーター素材を改良!防水加工が別途必要だった部品などにも適用可能です

  • シリコンヒータ

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シリコンラバーヒーターをパイプやタンク内面に接着する加工も可能!

  • シリコンヒータ

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部分的な保温も簡単にカスタム可能!標準タイプ、防滴タイプ、MGタイプ等が適応

  • シリコンヒータ

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材料タンク、ハンドガンなど!管理したい容器やシリンジにも合う様々な形状が可能

  • シリコンヒータ

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すべての温度調整用に、オールインワンでの使用に!決まった時間にON/OFF可能です

  • シリコンヒータ

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電波塔溶接予熱用ヒーターなどに!必要な箇所に必要な分だけ簡単取り付けできます

  • シリコンヒータ

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耐熱性を生かし加熱釜や電気炉の中での補助加熱用にも!標準タイプ、MGタイプなどが適応

  • シリコンヒータ

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ヒーター容量を10%程削減!組立方式で簡単メンテナンス

  • 電気炉
  • 工業炉
  • コンベヤ

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LF設備の溶鋼鍋6基、鍋台車、炉蓋2基、その他付帯設備を製作いたしました!

  • 工業炉

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数十秒以内で900℃の高速加熱!高いエネルギー密度も得ることができます

  • その他ヒータ
  • 加熱装置
  • 電気炉

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お客様の製品とプロセスに応じて精密に調整可!赤外線技術を用いて解決策をご提案しています

  • 加熱装置
  • その他ヒータ

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非接触で加熱可能!複雑な形状をしたワークのバリ取りでもプロセスを自動化できます

  • 加熱装置
  • その他ヒータ

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1工程で乾燥と焼結の両方のプロセスが可能!赤外線ヒーターによる活用例をご紹介

  • 加熱装置
  • その他ヒータ

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自動車製造プロセスにおけるプロセス時間の短縮、コスト削減、省エネルギー等、プロセスの高効率化をもたらします!

  • 加熱装置
  • 乾燥機器
  • その他ヒータ

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中国最大級の生産能力。工業級の他、飼料向けにも実績あり。

  • 化学薬品
  • その他
  • 工業炉

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データセンター向け新製品 パッケージ型蒸気発生器 CIRCULATIC 登場!

  • 加熱装置

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データセンター向け新製品 電気蒸気ボイラー PCWシリーズ 登場!

  • 加熱装置

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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

  • アニール炉
  • 加熱装置
  • 電気炉

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ML-S125-iPROS_550-1.jpg

【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置(Φ8"対応)1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング )搭載!コンパクトサイズ!

多元マルチスパッタリング装置(Φ8inch基板対応) ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード(Source1, 2, 3)へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード(4)で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃(SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能) ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作:操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法:1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

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