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ダイレクト式の大気圧プラズマ装置でフィルム両面を連続で表面処理が可能。空気をプラズマ化し大面積処理が可能(～1000mm)！
ダイレクト式の大気圧プラズマ装置！ 高い処理能力で空気をプラズマ化する事でランニングコストが安価です。図に示すようロールtoロールでフィルムの連続処理が可能になります。その他コンベアーなどと組み合わせる事によりガラスや樹脂成型品等、様々な材料にご利用頂けます。大面積処理が可能１m幅の処理も可能です。 まずは無償デモ処理にて効果をお試し下さいませ。 ※詳細はカタログをダウンロード頂くか直接お問い合わせください。
【表面改質】濡れ性向上、接着強化、ナノ洗浄！最先端プラズマ処理で新技術の開発実験が簡単に行えます！今なら無償デモ実施中!!
『樹脂』『金属』『ガラス』の『基板』『チューブ』『繊維』『粉体』など様々な材質の『濡れ性向上』『接着強化』『洗浄』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂けます！ ワンタッチ機能で真空機器初心者でも簡単に取扱いでき、ラボレベルで効果を試すのに適した安価な価格帯です。 【R&D実用例】 ・異材料の接着力を強化 有機薄膜の除去 ガラスの洗浄 ・フィルムの接着強化 電子部品の洗浄 薄膜の密着強化 ・各種塗工の濡れ性UP など・・・ 【大学・研究機関実用例】 ・PDMSとガラスの貼り合せ ・MEMSの接着強化 ・歯科医療 ・医療用チューブの洗浄 ・繊維の濡れ性向上 ・細胞培養の前処理 など・・・ 【粉体の表面改質】 ・カーボンナノチューブ・炭素粉体・セラミック・シリカなど μ～nm粒径まで親水性を向上致します！
表面改質・洗浄に優れた低温電荷ダメージ無し！真空・大気圧プラズマを安価な価格帯で提供！
詳しくはカタログをダウンロード下さい。 『樹脂』『金属』『ガラス』の『基板』『チューブ』『繊維』『粉体』など様々な材質の『濡れ性向上』『接着強化』『洗浄』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂けます！ 【実用例】 ・異材料の接着力を強化 有機薄膜の除去 ガラスの洗浄 ・フィルムの接着強化 電子部品の洗浄 薄膜の密着強化 ・各種塗工の濡れ性UP など・・・ 【大学・研究機関実用例】 ・PDMSとガラスの貼り合せ ・MEMSの接着強化 ・歯科医療 ・医療用チューブの洗浄 ・細胞培養の前処理 など・・・ 【粉体の表面改質】 ・カーボンナノチューブ・炭素粉体・セラミック・シリカなど μ～nm粒径まで親水性を向上致します！ 無償デモ処理実施中！
一括処理で時間短縮&コスト削減！ 少量の粉体・微小な部材の表面改質に！
ご要望の多かった、回転式卓上プラズマ装置の小型版がついに登場！ 『粉体や固体全面』など様々な材料の『親水化』『洗浄』『密着強化』などプラズマの持つ高い反応性を利用し、多岐にわたる表面処理用途にご活用頂ける回転式真空プラズマ装置！ 通常のプラズマ装置はサンプルとプラズマが触れていない底面などの接触部分は処理できず裏返す工程が必要となっていました。 本製品はチャンバーが回転する事によりサンプル全面に均一なプラズマ処理一括処理する事ができます。 【特徴】 ・小型チャンバーφ80を搭載 ・回転チャンバー搭載で全面を一括処理が可能 ・一括処理で処理時間の短縮！コスト削減 ・サンプル間の接触部もムラ無く処理 ・脱着式チャンバーでサンプルの取り出しも容易 ・回転速度と印加電力の調整機構を保有 【用途】 ・Oリングなど各種樹脂成型品の密着力強化 ・医療針やチューブなど全面への均一な表面改質が可能。 ・各種粉体の親水化・分散性を高める用途全般 ・コンデンサーなどの微粒子へのコーティング密着力強化 只今無料デモ処理受付中！
外部からガスを供給することなくプラズマ処理が可能です。 表面処理（塗装、接着、印刷等の前処理）、バイオ・医療分野にも。
製品の特徴 ペンタイプで扱いが容易 ガス供給が不要、AC100V の電源接続のみで使用可能 簡単操作 小型コントロールボックス コロナ放電タイプと違い、対向電極不要 処理対象への電荷ダメージなし
面状の大気圧プラズマで表面クリーニング！直径50mm内の平面で均一に処理可能！
卓上大気圧アッシャーとは、水や洗剤を使わず、大気圧プラズマにより有機物を除去可能な小型のプラズマ処理装置です。 搬送機で動かすことなく、直径50mm内の平面で均一に処理可能です。 大気圧での有機物除去とクリーニング用途等【面】状のワークに適しています。 【特徴】 ■点でもなく線でもなく『面』を一気に処理可能 ■実験に適している小型卓上サイズ ■ガス供給と真空排気設備が不要 【用途】 ■接着・コーティング前処理 ■機械用品の洗浄 ■光学部品（レンズ・ミラー）の洗浄 ■細胞培養容器などの前処理 ※詳細はカタログのダウンロードもしくはお気軽にお問い合わせください。
装置寸法：560W×850D×1300H
基板をマニュアルでチャックにセットし、スプレー現像、リンス、スピン乾燥します。
等方性プラズマを利用 微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最適！
バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液（Ｗｅt）を使用すること無く行える装置です。良環境性（クリーンな作業環境、無廃液）と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ばない自由な処理（円筒形処理室／等方性プラズマ） ■多様なプロセス：Ａｓｈｉｎｇ（洗浄）、Ｅｔｃｈｉｎｇ、表面改質等 ■部品は全てクリーンルーム対応（半導体製造装置として使用可能） ■廉価、小フットプリント設計 ■量産装置としてお使い頂ける安全仕様 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性向上。など）を化学的結合により付与することが出来ます。
「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理 ○リアクティブイオンエッチング（RIE） その他詳細は、PDFをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。
ロール状フィルム基材の処理に対応。 減圧プラズマ処理により、アッシング・エッチングの他、表面改質処理（官能基付与）が可能。
『PR Series』は、減圧下でプラズマ処理が可能なロールtoロールタイプの処理装置です。 レジストアッシング、絶縁膜エッチングをはじめ、 用途に応じた様々な官能基（親水, 親油, 密着性向上,など）を 基材表面に強固に付与することができます。 本社にデモ機を完備し、随時プロセス評価処理をお請けしております。 詳しくはお問い合わせください。 【特長】 ■ロールtoロールタイプ ■減圧下でプラズマ処理 ・大気圧装置と比べて有機物除去効果や表面改質効果が高い ・大気圧装置では出来なかったプロセスも対応（各種官能基修飾など） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンタミレスでクリーンなプラズマ改質を実現
＜特長＞ ●石英ガラス管内でプラズマを発生させるため、パーティクルなどの不純物が、被処理物に降りそそがれることなく、クリーンなプラズマ処理を行うことができます。 ●プラズマ発生部に消耗部品が少なく、定期的なメンテナンスを実施していただければ、10,000時間以上もの長寿命が得られます。 ●大気圧下でプラズマ処理を行えるため、減圧装置が不要で、設備投資が軽減できます。 ●本装置はプラズマ発生部と、コントローラ部の二つに分離されているため、プラズマ発生部のみをお客様の既存設備や新規設備に組み込むことで、容易にインライン設備を構築することができます。 ●狙いを定めたエリアを、ピンポイントで高速プラズマ処理することができます。 ●標準でお客様側設備との入出力制御機能を有していますので、お客様側設備からの信号で、プラズマ照射のON/OFFなどを制御することができます。
冷却方式は自然空冷(時間定格20分において)！当社の電源をご紹介
『PS-HB0097』は、手動のスライダックと電流発生トランスをケースに 組込んだ大電流発生電源です。 入力電源のON/OFFや過電流保護としてブレーカを設け、電源ランプ及び 電流計を備えています。 また、交流定電流電源「CCFTシリーズ」もご用意しております。 【仕様(抜粋)】 ＜一般仕様＞ ■外形寸法：362(W) × 350(D) × 466(H)(突起部除く)据え置き型ケース、 2次側端子はトランス口出し線による(圧着端子2-R150-16) ■冷却方式：自然空冷(時間定格20分において) ＜電気的仕様＞ ■出力：単相AC5V-400A、スライダックによる手動調整 ■過電流保護：入力ブレーカによる ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
