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頑固な汚れや手間のかかるラベル剥がしの洗浄に適している洗浄機
「高圧タイプ洗浄機」は、頑固な汚れや手間のかかるラベル剥がしの洗浄に適しています。 高圧ポンプを搭載し、5MPa以上の高圧洗浄水が落ちにくい頑固な汚れを確実に落とします。 バッチタイプ・コンベアタイプの洗浄方式で、洗浄ノズルの数・位置・回転方式・固定方式など、洗浄物に合わせてシステムを設計します。 【特徴】 ○SJM独自の回転ノズルを使用 ○毎分60回転以上の高速回転噴射で細かいところも隅々まで洗浄 ○洗剤消費量も削減可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
グリコール系洗浄剤使用 ２バッチ・ストッカー式 スクリーン洗浄装置
キョウワテマス社の、標準的な高機能機種として開発・納入されてきた ２バッチ・ストッカー式スクリーン洗浄装置 ■□■特徴■□■ ■スイッチを押すだけで投入ストッカーに置かれた版が自動的に 洗浄室に送り込まれ 洗浄・液切・水洗・水切を全自動で行う ■インキに適合した洗浄剤であれば洗浄時間の調節のみで殆どに対応可能 ■洗浄・液切と水洗・水切を別のバッチで行いますので、 洗浄剤の劣化が少なく経済的 ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード もしくはお問い合わせ下さい。
ISO14001対応！地球環境負荷低減！
『アルカリ性電解水（水系）洗浄装置』は、界面活性剤などの 科学合成物質を使用しない水系洗浄システムです。 アルカリ性電解水は、水道水と無機塩類を原料としており、 「高い安全性」と「低コスト」を誇ります。 地球環境への配慮はもはや、モノづくりに不可欠な要素です。 環境負荷の少ない洗浄装置で、モノづくりの新しいあり方を 追求していきます。 ※詳しくはお問い合わせ、もしくはPDFをダウンロードしてください。 ※総合カタログ進呈しております。お気軽にお申し付けください。
フィルムの両面を一度に洗浄・すすぎ・巻取りまで！そのまま抜取れ保管も楽々！
『クリンエース』は、果樹用反射フィルム・農ポリ等の長尺シート類を 洗浄とすすぎの作業でフィルムの両面(表裏)が一度におこなえ、 自動で巻取ることができる洗浄機です。 ブラシを螺旋状に配置しており、シートを中心から外に広げながら洗浄。 シャワーパイプにより水量を多くすることができ、ブラシ洗浄後の汚れを きれいにすすげます。 また、シート保管用パイプを巻取りパイプにセットする構造のため、 巻取ったシートが保管用パイプごと簡単に抜き取れます。 【特長】 ■フィルムの両面（表裏）を一度に洗浄・すすぎ作業 ■ブラシを螺旋状に配置しており、シートを中心から外に広げながら洗浄 ■シャワーパイプにより水量調節可能 ■巻取ったシートが保管用パイプごと簡単に抜き取れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
作業負担の軽減に貢献する食器洗浄機！
『EO型洗浄機』は、あらゆる扉や外装が開くことで、清掃が簡単な食器洗浄機です。 作業者の立場に立った設計で、作業者にも環境にも優しいこだわりが多数有ります。 また、用途によって、食器・食缶・食器食缶兼用・食器食缶トレイ兼用と 幅広いラインナップを揃えています。 コンベヤも3つのタイプから選択することができます。 【特長】 ■抜群の清掃性 ■安心(簡単操作と安全) ■節水・作業環境への配慮 ■立ててトレイを洗えるので処理効率アップ ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
《レンズ・プリズム・精密部品洗浄に》洗浄溶剤が常に再生・再利用され、高い洗浄精度が期待できます。その上、溶剤消耗量が激減します。
2種類の洗浄溶剤で洗浄と乾燥を行うコ・ソルベント方式。 炭化水素系洗浄溶剤（HC溶剤）で洗浄し、HFE/HFC溶剤（リンス溶剤）でリンス・乾燥する洗浄システムです。 HC溶剤中で溶解された汚れはHC真空蒸留機で蒸留再生され装置外へとたされます。 リンス溶剤に持ち込まれたHC溶剤は溶剤分離装置を経て、HC溶剤とリンス溶剤は其々の洗浄槽に戻され、再利用されます。 【特徴】 ○経済的 HC・HFEの蒸留装置とHC/HFE分離装置により 洗浄溶剤は再利用される（溶剤消耗量が激減） 溶剤の予想使用量は見積時に算出・提示します。 ○安全 引火点の高い安全な第4類・第3類石油類の溶剤が使用可能 非洗浄物はフッ素系洗浄溶剤の沸点温度以上には上りません ○洗浄精度 表面張力約25nN/mの炭化水素系洗浄溶剤洗浄後 表面張力約13.6nN/mのフッ素系洗浄溶剤でリンス・乾燥 精度の高い洗浄結果が期待できます ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
省スペース・低ランニングコスト・低価格の超音波洗浄機！安全・簡単乾燥を実現
炭化水素（HC)系洗浄溶剤で洗浄⇒HFE溶剤蒸気でリンス洗浄⇒乾燥工程で速乾性のあるHFE溶剤を回収（乾燥・洗浄終了）⇒取り出し HC溶剤は洗浄中、HFE蒸気に覆われ、直接空気に触れる事が無い為、引火の心配が不要。 リンス洗浄工程で使用するHFE溶剤の沸点は56℃で洗浄物の表面温度は56℃以上には上昇しません。 洗浄後の製品取り扱いが非常に簡単になります。 本装置で使用します溶剤は全て回収・再利用が可能（オプション）。 300型と600型の2機種の販売を開始します。 其々の洗浄冶具寸法は 200mm×300mm×200mmH、290mm×350mm×250mmHです。
基材を痛めずに洗浄やコーディング膜の削除を可能とした噴流加工
SIRIUS-Oは、噴流加工技術を搭載した洗浄装置です。 噴流加工とは、弾性体であるメディアを噴射し、スベリながら被加工物に アタックすることで面ダレ・梨地などが発生しない加工技術です。 被加工物へのダメージも無く、コーティング膜のみを落とすことができるので、精密部品の洗浄などに適しています。
洗浄槽にはフィルター循環方式を採用
【特長】 ●汎用性の高い洗浄槽+リンス槽（２槽）の組み合わせ ●超音波発振器は洗浄槽とリンス槽（１槽）に装備（38ｋＨｚ/600Ｗ） ●洗浄槽にはフィルター循環方式を採用 ●リンス槽は２槽のフロー方式でヒーター（ＭＡＸ５０℃）が付属 ※詳細は【資料請求】まで
ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減！ウェット洗浄に比べて大幅な時間短縮！
GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。 ★☆★【無料デモ】実施中！！★☆★ 【特徴】 ●ＧａＮ成膜装置に使用する各種冶具のドライ洗浄に最適 ●洗浄可能な冶具は、ＳｉＣコートカーボン、石英等。 ●ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 。 ●ウェット洗浄に必要な高価な大量の予備部品は不要 ●本装置導入でメンテナンス費用の削減に貢献可能！ ●作業者に負担のかからない安全設計。 ★【無料デモ】ご希望の方は≪お問い合わせ≫よりご連絡ください★
精密部品、光学ガラス部品から自動車・衛星まで。幅広く利用可能の蒸気洗浄機
精密部品、光学ガラス部品をはじめとして電子部品や自動車関係、衛生関係部品に至るまで幅広い分野で使用する事が可能。 真空装置で問題となる「出ガス」を大幅に取り除く事も可能とした蒸気洗浄機です。
【無料デモ実施中！】新開発・高性能設計で大幅なコストダウンを実現！作業者の負担も軽減されます
「MDC8540L」は、パワーデバイスや青色レーザーダイオード、青色LED等の化合物半導体製造用MOCVD装置の治具に、成膜時に堆積するGaN、AlN等のドライエッチング方式で洗浄するMDCシリーズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコートカーボンサセプター、石英治具等 ■ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 ■ウエット洗浄や、大量の予備部品不要 ■本装置導入による、メンテナンス費用の削減 ■作業者に負担のかからない、安全設計 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
