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炉(加熱) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

更新日: 集計期間:2026年03月25日~2026年04月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

211~240 件を表示 / 全 540 件

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【電気炉】 汎用高温水平チューブ炉 HTRH

カーボライトの高温チューブ炉HTRHは最高1800℃で水平使用できます。

低熱伝導率の高品質断熱材が、低エネルギー消費と高速加熱を実現します。断熱材と二珪化モリブデン(MoSi2)ヒータエレメントは長方形のハウジングに納められています。ヒータエレメントは垂直に吊り下げられており、そのため交換が簡単です。高温かつ酸素存在下ではMoSi2は酸化層(SiO2)を形成し、熱的、化学的腐食からヒータエレメントを保護します。 3ゾーンチューブ炉(HTRH-3)はシングルゾーン製品と比較しより高い均熱性を実現します。これらのモデルでは各加熱ゾーンに対して専用の熱電対と温調器が装備されており、システム内の反応に必要なガスを予熱するために特に便利です。 HTRHに作業管は内蔵されていません。作業管は追加アクセサリとして選択します。作業管の長さは用途によって異なり、修飾雰囲気のや真空の使用・不使用によって変化します。

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連続炉【高温・高速連続雰囲気焼成炉】

最高温度:1650℃『連続炉【高温・高速連続雰囲気焼成炉】』

電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『連続炉【高温・高速連続雰囲気焼成炉】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■連続炉は温度、処理目的、ワーク形状、雰囲気等に応じて 種々の搬送方式で製作 ■搬送形式はメッシュベルト式、台車式、ウォーキングビーム式、 プッシャー式、その他、目的温度に合わせて、遠赤外線、 熱風循環式も製作 ■テンパー、アニーリング、焼入れ、ブレージング、光輝焼鈍、 キュア、メタライジング、結晶化等の処理炉として数多くの実績をもつ ■対応セッターサイズ:W270mm×D270mm ■最高温度:1650℃ ■使用雰囲気:還元雰囲気 ■加熱ゾーン:14ゾーン ■冷却部:水冷ジャケット式 ■詳細は、お問い合わせ下さい。

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特殊電気炉・加熱装置の商社パートナー募集

標準機では難しい案件に対応する特殊電気炉メーカーの商社パートナー募集

株式会社サーモニックENGでは、技術商社・装置商社を対象に、特殊電気炉・加熱装置に関する商社パートナーを募集しています。 当社は、小型~パイロットスケールまでの各種電気炉をはじめ、メタル炉、カーボン炉、マルチ雰囲気炉、管状炉、小型塩素炉など、特殊条件に対応する加熱装置を取り扱っています。高温・高真空・不活性・還元・塩素系雰囲気など、標準機では対応が難しい案件についても、仕様検討段階からご相談いただけます。 【このような商社様を募集しています】 ■ 技術商社 ■ 装置商社 ■ 研究機関、材料メーカー、大学などとのネットワークをお持ちの企業様 【このような案件をご相談ください】 ■ 他社標準機では対応不可とされた特殊仕様案件 ■ 真空・不活性・還元・塩素系など特殊雰囲気を伴う熱処理案件 ■ 高温処理・特殊材料・複数工程を含むプロセス開発案件 ■ 研究開発・試作・量産検討など条件整理から進めたい案件 詳細はダウンロード資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 工業炉
  • 加熱装置
  • 電気炉・マッフル炉

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【電気炉】 分割チューブ炉 TS

カーボライトの新型分割チューブ炉TSシリーズ

TSの炉本体は2つに分割され、後部でヒンジで固定されています。端にあるガスダンパがスムーズな開閉動作を提供します。炉が分割出来ることにより、リアクターなどの容器を用いる場合に分割されていない炉への挿入が困難なエンドフランジを取り付けたまま装備することや、作業管の交換も簡単に行うことが出来ます。 TSシリーズは柔軟性を考慮して設計されています。スライドインアクセサリ作業管とアダプタの使用により、単一の炉でさまざまな直径のチューブに対応でき、プロセスの物理的または化学的要件に合わせて作業管自体を簡単に交換できます。オプションの作業管パッケージにより、ユーザーはTSを真空または修飾雰囲気下の加熱処理に使用することが出来ます。

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金属線材連続熱処理炉

金属線材連続熱処理炉

【仕様】 真空チャンパー 600W×200D×650H 到達圧力 8×10-3Pa 線材径0.5パイ〜0.9パイ×5m 線材送り速度0.01m〜1.5m/sec 加熱方式 直接通電 max Temp 2000℃ Gaバスへ急冷却方式

  • 油圧機器
  • 電気炉
  • 加熱装置

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電気炉 時効炉(6連式)

電気炉 時効炉(6連式)

【仕様】 加熱温度:常用800℃ 最高1000℃ 均熱帯:90パイ×500L 500〜1000℃ ±2℃以内 ヒーター:カンタルヒーター プログラム調節計 温度記録計 電気炉:110パイ×1000L(3分割制御) 200V1パイ7KW/台

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工業炉/誘導溶解炉

先進の技術力と、最新の情報力で、開発ニーズに応える"株式会社三建アクセス"

工業炉/誘導溶解炉とは、 電磁誘導作用により、溶解物を直接加熱し溶解させるので、最も効率のよい溶解ができます。 また、キュポラ等の燃焼炉に比べて、煤煙の発生が少なく作業環境の改善に寄与します。 電気加熱で溶解するため、CO2の排出量が少なく、これからの低炭素化社会に最適な炉です。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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炉『小型開閉式加熱炉』

一般産業や大学・研究所などに使われる開閉型電気炉!

『小型開閉式加熱炉』は、各種の金属試験研究及び一般実験・分析等の 熱処理及び燃料電池評価装置の加熱源として多用途に使用できる実用的な 開閉型電気炉です。 本炉の耐火材は高純度アルミナファイバー質で構成され、軽量化されています。 また、耐熱構造、発熱体の配列など工夫を凝らし、均熱性を高めています。 【特長】 ■幅広いシーンで活躍 ■高純度アルミナファイバー質 ■軽量化 ■耐熱 ■均熱性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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熱硬化炉 (キュア炉・加硫炉)【実例紹介】

熱硬化性樹脂・熱可塑性樹脂の熱処理装置。樹脂の特性・生産能力・設置スペースに好適な加熱制御・搬送制御をご提案。国内外多数実績あり

◇樹脂の特性・生産能力・設置スペースに好適な加熱制御・搬送制御を採用。 ・ワークの形状に合わせた専用搬送機器(ゴンドラ・パレット・カート・回転ローラなど)を搭載。 ・限られた設置スペースでも樹脂の熱処理を最多で行える搬送経路を確保。 ・均一な熱処理を施すため、加熱器と循環ファンを好適配置。 【納入例 (1)】 制御温度:105±5℃ 装置寸法:W1850 × L4300 × H2500 mm 電気容量:70kW 処理物 :熱硬化性樹脂 (シリコン系) 搬送機器:ゴンドラ搬送 【納入例 (2)】 制御温度:220±5℃ 装置寸法:W3200 × L3350 × H2330 mm 電気容量:83kW 処理物 :ゴム硬化剤 搬送機器:カート搬送+専用パレット搬送 処理物の材質、用途、数量、重量、建屋等の条件に合わせてご提案いたします。 工業炉の設計、製作、据付、メンテナンスやアフターフォローまでトータルでサポートします。

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炉『エレベータ式炉』

用途に応じて冷却・加熱・乾燥・硬化に応用できる連続炉!

『エレベータ式炉』は、ワークを目的の温度に到達させる、あるいは 目的の温度で一定時間保持させるためのエレベータ式の炉です。 炉内に熱風あるいは冷風を循環させることによりワークを加熱もしくは 冷却します。 ワークが炉内を昇降するので、空間を立体的に利用できて省スペースで、 温度管理された空間を無駄なく利用できるため、ランニングコストを低く 抑えられます。 【特長】 ■省エネ・省スペース ■昇温スピードをコントロール ■さまざまな用途に使用可能 ■タクトの短縮 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他 加熱・冷却機器
  • その他 乾燥装置

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卓上型電気炉 F48024-80

炉内容量はゆとりがある5.8L。迅速な加熱、最高設定温度1200℃。(※連続3時間未満)

■上面の排気ポートは炉内の汚染物質や水分を除去し発熱体の寿命を延ばします。 ■オープン型の発熱体により迅速な加熱を実現。 ■加熱・温度保持・温度勾配等のプログラムが可能。 ■エネルギー効率を高め、熱効率に優れたセラミック製チャンバー。 ■実温度と設定温度をデュアルディスプレイに表示。 ■ドア開口時に発熱体への電力供給をストップする安全ドア機能搭載。 ■発熱体への電力供給を止めて暴走状態を防止する熱電対保護機能搭載。 ■前に引き下げたドアは仮置用の棚として利用可能。 ■背面には炉内温度測定用ポートを配置。(φ0.8cm)

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自動真空・ガス置換電気炉「VF-5000」

過電流・ヒーター/熱電対断線検出・真空/昇降部異常検知!独立した温度管理素子による2重の安全機構

『VF-5000』は、保温性に優れたセラミックファイバーにヒーターを 埋込んだ一体成型により熱効率が良くスピーディーな昇温と最高到達 1100℃を実現する自動真空・ガス置換電気炉です。 7インチカラータッチパネルの採用により、プログラム入力など簡単設定。 工程の進捗状況も画面表示で一目で確認できます。 【特長】 ■保温性に優れたセラミックファイバーにヒーターを埋込んだ一体成型 ■熱効率が良くスピーディーな昇温と最高到達1100℃を実現 ■真空引き・ガス供給をプログラム制御 ■加熱前の面倒な真空・ガス置換と加熱中の雰囲気を自動制御 ■7インチカラータッチパネルの採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【超低価格】鉛フリープロファイル対応『コンパクト卓上リフロー炉』

<研究開発や実験、評価など、非生産用途での大幅にコストを抑えたい>という要望にお応え!最低限の機能が備わった搬送型卓上リフロー炉

超低価格を実現! 加熱3ゾーン+250mm幅メッシュ搬送、最低限の機能が備わった 『コンパクト卓上リフロー炉』の販売を開始しました。 【特徴】 ■一般的な鉛フリープロファイルから均一加熱プロファイルまで対応 ■研究開発・実験・試作・評価など非生産用途での使用環境に好適 ■各種カスタマイズ対応はお問い合わせください 価格・納期・プロファイル測定・実機見学・デモ実施などお気軽にお問い合わせください。 ※加熱炉の新規用途も募集中。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、当社までお問い合わせください

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【熱処理】ハイブライト

ハイブライトは薄物、小物の熱処理に好適です!

ハイブライトは薄物、小物の熱処理に最適です。 ハイブライトでしかできない完全なプレスクエンチ(焼入れ・急冷プレス)で歪を最小限に抑えます。 【特長】 ■搬送台+パージ室、加熱室、冷却室、パージ室+抽出台の4室構造の 全自動スルータイプなので連続した焼入れ処理が可能 ■冷却時間を調整することで、製品を熱いうちに取り出し完全な 急冷プレスが可能で歪を最小限に抑制 ■輻射熱+対流熱で加熱するので製品同士の干渉(カゲ)による温度ムラが生じない 全自動型雰囲気焼戻し炉で納期の短縮! 搬送台+冷却室、加熱室、冷却室+抽出台の3室構造の全自動スルータイプです。 製品をバスケットにセットしサイクル開始ボタンを押すと、自動的に焼戻しを2回繰り返し行ないます。最大3個のバスケットの挿入ができ、焼入れした製品は、翌朝自動的に抽出台に送られ、焼戻し工程時間を大幅に短縮します。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他

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カーボン・セラミック・炉│株式会社三幸 総合カタログ

機械・電気・ソフト設計者が、社内に在籍!多様なニーズにお応えできます

当カタログはお客様のニーズに合わせた熱処理装置の設計と製造、設備の改善、改造工事に加えて、 セラミックス製耐火物の製造とカーボン加工を手掛ける株式会社三幸の総合カタログです。 真空中又は、ガス雰囲気中での製品の熱処理加工を行い、高品質の製品を 生産する装置「標準小型高温高真空雰囲気炉 1800STシリーズ」をはじめ、 円筒状ヒーターを縦方向に3ゾーンに配置し、角ゾーンを個別に 加熱制御することができる熱処理装置「縦型円筒ヒーターユニット」等、 多数製品をラインアップしています。 【掲載内容(抜粋)】 ■セラミックス製品 ■標準小型高温高真空雰囲気炉 1800STシリーズ ■結晶育成炉 ■高周波誘導加熱方式スカルメルト炉 ■真空高温抵抗合成炉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ギ酸水素還元真空はんだリフロー装置 RSS-210-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。『ユニテンプジャパン製』

『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • はんだ付け装置
  • リフロー装置

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ギ酸水素還元真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製

『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ギ酸水素還元真空はんだリフロー装置 /産業機械

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製

『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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電気加熱炉

金属の熱処理に!低温からの精密な昇温が可能

株式会社成田製作所で行った「電気加熱炉」の 製作事例についてご紹介いたします。 熱源は電気、処理温度は900℃。各種金属などの熱処理に 適しており、低温からの精密な昇温が可能。 当社では、工業用ガスバーナーや各種熱処理炉、乾燥炉、 それらに付随する加工用設備や投入搬送装置、各種省力化 装置などを、ご要望に応じた特注品の設計製造を中心に 事業を営んでいます。 【事例概要】 ■熱源:電気 ■処理温度:900℃ ■用途:金属の熱処理 ■特長:低温からの精密な昇温可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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低温用真空炉『TITAN LT』

TITANシリーズのプラットフォームを流用した低温用真空炉!

『TITAN LT』は、Ipsenの独自のフロー生産プロセスで製造された低温用真空炉です。 生産性・短納期・操作性における費用対効果の高い真空炉で、特に真空加熱による光輝処理に最適です。 【用途】 焼鈍、ろう付け、光輝時効処理、応力除去、焼き戻し 【特長】 ■独自の制御用ソフトウェア搭載 ■物温測定、物温管理が容易 ■Ipsen独自のヒーター構造 ■昇温用の対流加熱では2barまで加圧可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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小型精密テスト炉

ハイレックスヒーターを使用した小型精密テスト炉

熱源にハイレックスヒーターを使用した、高効率の遠赤外線炉です。テスト炉として、温度設定、処理速度、照射距離、昇温カーブなどすべてが可変のオールマイティタイプです。小型であるため、設置場所が自由に選べます。小規模の生産工程への使用も可能です。

  • その他ヒータ
  • 電気炉

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千住金属工業 リフロー炉 SNR-850MB

マイクロボール専用微風循環式N2リフロー炉

SNRシリーズで好評の機能を搭載したマイクロボール実装用リフロー炉です。

  • その他半導体製造装置

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プッシャー式焼結炉

電力の大幅削減・使用雰囲気量の大幅低減を達成し、少スペースにも対応出来ます

当社では、精密な温度制御の状態において処理物を各種雰囲気中で 焼結する事を目的として使用される全自動プッシャー炉を取り扱っております。 駆動装置・出口置換室・高温焼成部・冷却部・制御盤自動温度調節装置 からなり、処理物トレイを充填したうえで連続的に処理されます。 【仕様内容】 ■常用温度:加熱部・1150℃ ■最高温度:加熱部・1180℃ ■雰囲気:H2+N2 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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真空ガス焼入れ炉『TVG』 

高品質、高性能、デザイン性に優れた次世代の真空ガス焼入れ炉!

真空ガス焼入れ炉『TVG』は加熱室と冷却室を中間真空ドアで仕切る2 室型真空熱処理装置です。 高砂工業の真空炉は、通常の真空炉製品と比べ、デザイン(意匠)にこだわっています。デザインにこだわる事で、導入されたお客さまの中には、 工場見学ツアーのメインとして、好評を博していると評判いただいています。 また、機械がむき出しの製品に比べ、ゴミや埃などを防ぐ事もできるので、メンテナンスの頻度を下げる事ができます。もちろん、すぐに取り外しができるので、メンテナンスの邪魔になる事はありません。 【特長】 ■加熱室構成部品はグラファイト材料を使用! ■炉内の搬送は電動モータのプッシュプラー式でインバータ制御! ■搬出入時に加熱室が大気に触れないので無酸化処理に最適! ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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超高温真空 雰囲気炉『NEWTONIAN Pascal-40』

急速昇温・急速降温が可能なため、試験サイクル時間の短縮に貢献!事務デスク1台分のスペースで設置できるほど小型で、移動も簡単です。

『NEWTONIAN Pascal-40』は、発熱体にC/Cコンポジット (炭素‐炭素複合材)を使用した真空及びガス雰囲気で最高2,000℃まで 昇温が可能な高温炉です。 急速昇温(500℃⇒2,000℃を1分程度)・急速降温(2,000℃⇒100℃を60分以内) が可能で、難しい条件での焼成や試験サイクル短縮を実現します。 【特長】 ■発熱体に強固なC/Cコンポジット素材を採用し本体の長寿命化を期待 ■C/Cコンポジット素材はX線の透過性が高く被加熱物溶融の様子をX線に より観察可能 ■(オプション)放射温度計により被加熱物の温度測定が可能 ■小型化により事務デスク1台分のスペースで設置可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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るつぼ炉『ENX-POT』

省エネルギーバーナ搭載。やさしい加熱のるつぼ炉。

『ENX-POT』は「エコネクスト」シリーズのるつぼ炉です。熱交換器搭載バーナENXによる排熱回収に加え、高機能断熱材による断熱性能向上、バーナの配置最適化などにより、省エネルギーおよびCO₂削減を実現しています。 【特徴】 ■排熱回収による省エネルギー ■高温空気燃焼でるつぼの局所加熱を抑える ■独自の高温空気燃焼技術による低NOx ■バーナ配置最適化によるメンテ性向上 ■オーダーメイド可能な多彩なオプション ■IoT対応 視える化&予防保全

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透明電気炉 ゴールドファーネス

断熱材不要!低熱容量で、抜群の昇降温速度の電気炉

ゴールドファーネスは、ガラス管内面に金の薄膜を塗布することで、ヒーターからの赤外線を95%以上反射する、エネルギー効率、加熱レスポンスの高い電気炉です。昇降温速度が抜群に速く、消費エネルギーを低減。

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炉型式真空炉

金属非鉄の真空熱処理や金属焼結粉末の熱処理などに使用可能!炉型式真空炉

炉型式真空炉は、金属非鉄の真空熱処理や金属焼結粉末の熱処理などに 使用することができます。 横置型、ポット型、ベル型などがあります。なお、横置型には予熱室、 加熱室、冷却室を設置する3室真空炉も設計製作致します。 【特長】 ■横置型には予熱室、加熱室、冷却室を設置する3室真空炉も設計製作可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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メッシュベルト式焼結炉

イニシャルコストだけではなくランニングコストも安くなるよう設計、製作されています

当社では、精密な温度制御の状態において処理物を各種雰囲気中で 焼成する事を目的として使用される連続式メッシュベルト炉を取り扱っております。 脱バインダー部・高温焼成部・冷却部・リターン部・制御盤自動温度調節装置 からなり処理物トレイを充填したうえで連続的に処理されます。 【仕様内容】 ■常用温度:予熱部・550~700℃ 加熱部・950~1120℃ ■最高温度:予熱部・700℃ 加熱部・1140℃ ■雰囲気:H2+N2 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ギ酸水素還元卓上型真空はんだリフロー装置VSS450300

300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 ユニテンプジャパン製

当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発~量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと、抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2.5℃のスピード昇温、水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度450℃対応(オプションで650℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • はんだ付け装置
  • リフロー装置

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