更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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最高温度1 650℃！コーナジェット式で炉内の温度差を小さくする焼成炉
『高温シャトルキルン（ガス燃焼）』は、燃焼方式としてバーナを4隅に配置したコーナジェット式で、炉内の温度差を小さくする焼成炉です。 焼成台車が炉から積載／降し場の間を行ったり来たりするところから「シャトル（SHUTTLE）キルン」と呼ばれています。 各種ファインセラミックス成形体、各種粉体原料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○最高温度1 650℃で多種多様な製品の焼成が可能 ○高性能燃焼方式により低温域での制御を行い、均一加熱が可能 ○自動温度制御による安定した温度制御が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
カーボンヒータユニット、試料移載ユニットを装着した真空高温抵抗合成炉
『真空高温抵抗合成炉』は、不活性ガス雰囲気で、高温に加熱し試料を 合成するための抵抗加熱装置です。 装置は上下分割チャンバーを採用しておりますので、試料の合成を 効率よく行えます。 ヒータ温度、バルブ動作、流量制御をレシピにて管理し、自動制御にて 運転をする事が可能です。 【特長】 ■装置は上下分割チャンバーを採用 ■試料の合成を効率よく行える ■加熱効率の良い抵抗加熱方式を採用 ■最大1 800℃まで昇温可能 ■視認性・操作性に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
800℃雰囲気で高真空1×10-³Paが可能
本装置は、高真空及びガス雰囲気によりサンプルをプログラム運転により熱処理する装置で800℃で1×10⁻³Paの高真空での熱処理が可能です。
アルミ連続溶解保持炉 プレザーブ炉
炉体構造がより強化され、優れた燃焼制御を発揮！ 死角の無い構造でメンテナンスが容易なアルミ連続溶解保持炉 【特徴】 ○保持室の燃焼スペースが広く、輻射熱が大きい ○溶湯保持深さが浅く広い為、熱の吸収が良い ○特殊耐火物の選定により、湯離れが良い ○溶解室床部には、特殊高アルミナ質煉瓦を使用し、高い強度・耐摩耗性を実現 ○保持室の熱気は湯路から溶解室を通り 投入口から排出される為、材料予熱への利用が可能 ○冷材が溶湯に直接入らない構造の為、溶湯温度の降下が少ない ○溶湯温度及び炉内雰囲気温度制御の為、酸化物発生温度域以下で安定 ○多量の赤外線を含む輝炎バーナーの採用により アルミに対する熱吸収が大きく、炉内雰囲気温度を低く設定する事が可能 ハードスポットの原因ともなる酸化物の発生を低減 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
SCRを介したPID自動制御、位相角始動！電流制限抵抗による電力制御
『OSK 75YU RTシリーズ』、無機化合物を焼成、特にリチウムイオン 電池の負極材料の焼成に適した回転式雰囲気炉です。 二層強制空冷構造により、表面温度を60℃未満に保ちます。単一の 加熱ゾーンとチューブの直径はカスタマイズ可能。 炉管は、310sステンレス管、石英管、アルミナ管を使用しています。 【オプション】 ■複数加熱ゾーンの選択 ■タッチスクリーンコントロール ■50セグメントPID自動制御機械式ポンプ ■混合ガスタンク ■KF整形ベローズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉内雰囲気（酸素濃度）の再現性を実現！構成材の軽量化により低燃費・迅速焼成
『シャトルキルン』は、製品を積載した台車を炉内へ装入し、所定の温度で 処理する形式の炉です。 生産量の調整と、焼成温度のパターン変更が容易。 自社開発のバーナー（スーペリオバーナー）と温度制御システムにより、 約100℃から2℃/hの精密な温度コントロールと均一焼成を実現します。 【特長】 ■約100℃から2℃/hの精密な温度コントロールと均一焼成を実現 ■炉内雰囲気（酸素濃度）の再現性を実現 ■荷姿や限られた設置スペースに応じた好適な燃焼方式をご提案 ■特殊な炉材構成によるメンテナンスが軽減 ■セラミックスファイバー等、構成材の軽量化により低燃費・迅速焼成を実現 流量制御システムでは、空燃比をコントロールしながら温度を制御するため、 炉内雰囲気の再現性を確立します。 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電気炉 時効炉（6連式）
【仕様】 加熱温度：常用800℃ 最高1000℃ 均熱帯：90パイ×500L 500〜1000℃ ±2℃以内 ヒーター：カンタルヒーター プログラム調節計 温度記録計 電気炉：110パイ×1000L(3分割制御) 200V1パイ7KW／台
良好な真空フランジシールにより漏れがない！個性的なカスタマイズが可能
『OSK 75YU 12HV』は、金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、 高温合金、硬質合金、非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気 での真空焼結とアニールの熱処理に対応する高真空炉です。 炭酸化の開発プロセスにおける炭素製品のような材料の特殊な熱処理 にも対応可能。 温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御を搭載しております。 【特長】 ■1700℃まで操作できる ■温度均一 5℃以内 ■良好な真空フランジシールにより漏れがない ■断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用 ■温度の増減が速い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用！1700℃まで操作可能
当社が取り扱う、ラボ用真空熱処理炉『OSK 75YU 14HV』を ご紹介いたします。 金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、高温合金、 硬質合金、非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気 での真空焼結とアニールの熱処理に対応。 炭酸化の開発プロセスにおける炭素製品のような材料の特殊な 熱処理にも対応できます。 【特長】 ■温度均一 5℃以内 ■良好な真空フランジシールにより漏れがない ■断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用 ■温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御 ■温度の増減が速い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
均一な温度での電子部品の連続熱処理に！多品種・小ロットにも対応した熱処理炉
大村技研の『連続式熱処理炉』は、均一な温度による電子部品の 連続熱処理に用いることが出来る装置です。 あらゆる電子部品の熱処理に対応可能で、多品種・小ロットの電子部品の 熱処理に適しています。 高精度な温度コントロールにより歩留まり向上に貢献します。 【特長】 ■均一な温度による電子部品の連続熱処理に ■多品種・小ロットの電子部品に対応 ■高精度な温度コントロール ■要求仕様により設計製作が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
常用/最高温度：900℃/1000℃！連続炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『連続炉【10ゾーン制御型メッシュベルト炉】』 のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■連続炉は温度、処理目的、ワーク形状、雰囲気等に応じて 種々の搬送方式で製作 ■搬送形式はメッシュベルト式、台車式、ウォーキングビーム式、 プッシャー式、その他、目的温度に合わせて、遠赤外線、 熱風循環式も製作 ■テンパー、アニーリング、焼入れ、ブレージング、光輝焼鈍、 キュア、メタライジング、結晶化等の処理炉として数多くの実績をもつ ■ベルト:W180mm SUS310S製メッシュベルト ■常用/最高温度：900℃/1000℃ ■加熱ゾーン：10ゾーン ■冷却部：水冷ジャケット式 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
φ240 x H180mmのチャンバーのるつぼ炉にステンレス鋼のフランジが追加された、真空つるぼ炉。最大温度1200°C。
直径240 x H180mmの大きなチャンバーサイズ ＊角型も承ります。 最大温度 は1 200 °C（作業温度は 1100°C ） 30セグメントPID制御による温度管理 真空は－0.1Mpaで保護ガスを挿入することもできます。
粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能な雰囲気制御一方向凝固炉
『VFK-1800-BR』は、空気中で1800℃までのニ硅化モリブデン発熱体を 用いた高温電気炉に炉芯管及び、坩堝の昇降機構を加えた縦型昇降炉です。 炉芯管及び坩堝の昇降機構により、雰囲気を制御しながら、粉体焼成から 結晶成長（ブリッジマン法）までの多目的な使用が可能です。 プログラムコントローラからのイベント出力により、遅送りモータの駆動の 自動運転、停止ができ、温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に 操作できます。 【特長】 ■粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能 ■遅送りモータの駆動の自動運転、停止が可能 ■温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に操作可能 ■制御温度と炉内温度はPC画面上でモニターできる ■データ取りも簡単に操作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
材料の出し入れが便利な箱型構造を採用した、マッフル炉です。空冷システムが装備されており、庫内温度の冷却、上昇を迅速に行います。
最高温度1 200℃、1 400℃及び1 700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。
