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炉(真空 加熱) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年08月06日~2025年09月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

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雰囲気炉 工業炉内の雰囲気をガスで調整した熱処理が可能

材料の特性にあわせた雰囲気ガスで熱処理を行う『雰囲気炉』なら酸化、脱炭をはじめ材料の性質改善、後処理工程もスムーズに行えます

鋼は大気中で熱処理を行うと酸化や脱炭が起こるため、表面仕上げなどの加工が必要になる場合があります。そのため、後加工の手間を省いたり、酸化や脱炭を抑制したりするなどの用途に応じて雰囲気ガスを炉内に充填させて加熱処理する雰囲気炉が多く用いられています。充填する雰囲気ガスは、窒素やアルゴンなどの不活性ガスをはじめ、水素やAXガスなど、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります。 【特長】 ● 熱処理中にガスの切替が可能です。 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【導入事例】 ■ 酸化させずにアルミを焼鈍処理したい →『ローラーハース式軟化炉』 ■ 材料を浸炭させたい →『バッチ型雰囲気ガス浸炭炉』 ■ 粉体を窒化処理させたい →『レトルト回転式窒化炉』 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。

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雰囲気熱処理炉【バッチ型/連続式】

炉の出入口にエアの侵入を防ぐシール構造を採用しているため雰囲気ガスが漏れにくく特殊雰囲気ガスの使用も可能です

熱処理の用途に応じて雰囲気ガスを炉内に充填させて加熱処理する雰囲気炉が多く用いられています。充填する雰囲気ガスは、窒素やアルゴンなどの不活性ガスをはじめ、水素やAXガスなど、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります。 雰囲気炉メーカーであるサンファーネスでは、気密性が高い炉を仕様要件に沿って、オーダーメイドで製作いたします。 【特長】 ● 熱処理中にガスの切替が可能です。 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【製品例】雰囲気熱処理炉でつくられる身近な製品例 ■ エンジン部品 ■ カテーテル用マーカーパイプ ■ 表示管ガラス ■ フライパン ■ ドライブトレーン部品 ■ カーエアコン部品 ■ 磁性材料 ■ 通電検査機器用精密管 ■ CPUヒートパイプ 【おもな雰囲気熱処理炉】 ■ バッチ型還元炉 ■ 竪型還元ろう付け炉 ■ ベル型窒化炉 ■ ピット型滴注浸炭炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。

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『オールメタル・ホットゾーンによる金属熱処理』

航空宇宙・医療機器・3Dプリンターなどの分野で活躍。着色を防ぎ、高品質な熱処理を実現

チタンやニッケル超合金、PHステンレス鋼など、変色しやすい材質の 熱処理でお困りの方は、『オールメタル・ホットゾーン』をご検討ください。 炉内は、表面のみ金属材料で覆うのではなく、金属シールドを多層化した 断熱材によって表面積を小さくし、処理品の出し入れの際に 空気中の水蒸気が炉内に吸着するのを大幅に削減できます。 その結果、梅雨や夏場の湿度が高い環境下でも安定した処理が可能です。   【『オールメタル・ホットゾーン』での熱処理のメリット】 ■最高1315℃、最大昇温速度41℃/分での加熱が可能 ■3Dプリンターの微細で複雑な積層造形の後処理を削減 ■航空機用規格AMS2750 Fで謳われているオーバーシュートに対処しやすい ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

  • 工業炉
  • 加熱装置

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1,200℃チャンバー式マッフル炉『OSK 97TG 12CM』

エレガントなデザインの一体型構造!4グループ32セグメントのプログラムが可能

『OSK 97TG 12CM』は、金属材料、セラミック材料、ナノ材料等の 新材料の焼結・加熱に使用されているチャンバー式マッフル炉です。 エレガントなデザインの一体型構造で、最高温度は1,200℃。 発熱体はHRE合金抵抗線を使用。 また、チャンバー材料は高温多結晶アルミナセラミック繊維板で、 熱電対はNタイプとなっております。 【特長】 ■エレガントなデザインの一体型構造 ■チャンバー材質:セラミックファイバー真空成型により、  高温時の粉落ちがなく、50%以上の省エネ ■SHIMADENマイクロプロセッサーによるセルフチューニングPID制御により、  好適な温度制御が可能 ■RS485ポート、USBアダプタを内蔵し、コンピュータ制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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連続式 ステンレス光輝焼鈍炉 BCE(A)型

水素ガスを利用し、ステンレスの光輝処理が可能!

《Thermalの連続炉は国内外に数百基の実績があり、様々な分野で活躍しています。》 ステンレスは還元性雰囲気(水素、水素+窒素、アンモニア分解ガス)にて処理する事により 表面の若干の酸化物も還元し、光輝(光り輝く状態の銀白色)処理が可能です。 水素系のガスを使用しますが安全に使用できるような安全装置がセットされております。 製品サンプルの実験・試作を行い、最適条件をご提案致します。 ◆ Thermal ステンレス光輝熱処理炉の特徴 ◆  ・ステンレスを還元性雰囲気にて処理することにより表面の微量の酸化物も還元し、   光輝処理ができます。   また、オプションで雰囲気循環式冷却機構(急冷機構)を装備可能です。  ・真空炉と違いクロムなどの蒸発・蒸着がなく、加熱時間が短く冷却時間が速いので、   機械的性質と耐食性が優秀です。 【当社 那須工場(栃木県)に設置している本装置を使用し、受託加工も承っております。】

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  • ステンレスサンプル.jpg
  • ステンレス
  • アニール炉
  • 電気炉

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ストランド式炉(線材光輝焼鈍炉) 

水冷パイプや冷却管の交換も可能。

サンファーネスでは連続式の『ストランド式炉(線材光輝焼鈍炉)』を得意としています。加熱パイプの交換はもちろんのこと、水冷パイプや冷却管の交換も可能です。また冷却帯(水槽)にもシール機構を組み込むことで1本単位で交換することも可能です。 【製品例】ストランド式炉でつくられる身近な製品例 ■ステープル ■眼鏡フレーム材 ■CPUヒートパイプ ■釣針 ■ばね用線材 ■ボルト・ナット用線材 ■金網 ■カテーテル用マーカーパイプ ■補償導線素材 ■溶接棒材 ■熱電対素線 制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

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多室型ガス冷却・油冷却炉『CF/QFシリーズ』

冷却処理でさまざまな悩みを抱えるお客様のご要望にお応えし、ラインアップを充実!

『CF/QFシリーズ』は、工具鋼、合金鋼、ステンレス鋼の焼入れおよび 焼結、ろう付け、溶体化などに広く使用されている真空炉です。 標準化したベスチブル(ガスクエンチ室)、加熱室、オイルクエンチ室を 組み合わせて、処理材・処理目的に適した炉構成を選定可能。 当シリーズには、ガス冷却専用の「CF型」、ガス冷却と油焼入れが 一室でできる「QF型」、ガス冷却と油焼入れを別室で処理する「CF-Q型」、 ガス冷却専用のストレートスルータイプの「CF-C型」、ガス冷却と油焼入れ 兼用のストレートスルータイプの「QF-C型」があります。 【特長】 ■工具鋼、合金鋼、ろう付け、溶体化などに広く使用されている ■処理材・処理目的に適した炉構成を選定可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉
  • 加熱装置
  • その他表面処理装置

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【導入事例】砥石の処理に採用「プッシャー式焼結炉」

砥石の処理に、当社のプッシャー式焼結炉(ホットプレス)を導入いただいた事例をご紹介!

脱脂、雰囲気ガスの純度調整などのカスタマイズも可能です。サンファーネスは 処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も 含めて好適な焼成炉・焼結炉をご提案いたします。 【導入事例】 ■温度:300~800℃ ■有効寸法:φ200×H90 ■雰囲気:窒素 ■用途:焼結(加圧式) ■処理物:砥石 ■処理量:加熱 80min/個、冷却 50min/個 ■電気容量:32kW ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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アルミ熱処理炉 航空宇宙産業にも対応可能

急速溶体化システムの採用によりAMS規格を満たすことが可能です

アルミ製品の用途は多岐にわたりさまざまなところで活用されでいます。 使用する製品によっては、基準や規格が設けられています。 加熱後、溶体化までの仕組みを考慮した設計でAMS規格(米国航空宇宙規格)に適応が可能となりました。 【仕様】 ● 温度:溶体化550℃、時効105℃ ● 雰囲気:大気 ● 用途:溶体化・時効 ● 処理物:アルミ構造品 ● 処理量:300kg/チャージ 【その他の導入事例】 ■ 酸化させずにアルミを焼鈍処理したい →『ローラーハース式軟化炉』 ■ アルミを熱処理したい →『アルミ溶体化炉(T4)』『アルミ時効炉(T5)』『アルミ溶体化時効炉(T6)』 ■ アルミを光輝焼鈍したい →『DXガス発生装置』 省エネ化、自動化、環境配慮、安全性など新しい課題やご相談がありましたら、お気軽にお声がけください。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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連続式ストランド炉 線径にかかわらず1台で多品種小ロットにも好適

さまざまな太さのワークを一度に処理することができます

異なる太さ(径)や加熱パイプを配置して同時に熱処理をすることが可能です。また、個々のパイプごとに窒素や水素などガスの切替や流量の調整も行うこと可能なため、1台で多種多様な熱処理が実現します。 【仕様】 ● 温度:1150℃ ● 有効寸法:10A×L5000×4本、15A×L5000×4本、25A×L5000×4本 ● 雰囲気:水素 / 窒素 / アルゴン ● 用途:軟化焼鈍 ● 処理物:ステンレス鋼線 ● 処理量:線速DV12(D:線径mm、V:速度m) ● 電気容量:48kW 【サンファーネス 線材光輝焼鈍炉の特長】 ■炉体、焼鈍管を自由設計 処理スピードや線径、導入ガス、前後装置との兼合や、設置場所による炉のメンテナンスを考慮した形状等、柔軟に対応することが可能です。 ■コスト低減 通常運転時のランニングコストを抑えられる設備の提案が可能です。 ■品質 ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定します。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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DOWAサーモテック【工業炉事業紹介】

熱処理技術のトータルサポート体制を築き、顧客の発展と物づくりの進化を支え続ける、総合熱処理設備メーカー。

DOWAサーモテックでは、お客様の熱処理工程を含む生産環境全域も視野に 入れた事業を展開。ニーズにお応えする優れた工業炉の開発・製造はもちろんのこと、プラントの設計やFAシステムの構築も行い、生産効率や安全性の向上にも貢献しています。 また、工業炉がその性能を末永く発揮できるように、アフターメンテナンスなどのサポート体制も整備。熱処理事業との関連も図りながら、お客様の熱処理工程を全てカバーして、品質への満足と確かな安心をお約束します。 ※詳しくは下の動画をご覧ください。

  • 工業炉

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高温簡易雰囲気電気炉(SICヒーター) FT-1700-SIC

拡張性に優れた加熱実験用電気炉。CADによる標準設計、標準部品の採用、大量生産によりコストパフォーマンスに優れる

最大1650℃・常用(RT→1600℃)までのN2/Ar/O2/Air雰囲気が手軽に実現! 各種オリジナルパーツ開発・一貫生産によるコストダウンによる低価格・高性能が実現! オプション選択で酸素分圧の測定が出来、酸化雰囲気及び還元雰囲気におけるPO2調整することで最適値での安定した各種実験が可能。各種実験に対応している。 16プログラム×16セグメントの大容量を持つ高性能プログラム・コントローラーを使用することでパソコン通信(WindowsXP/7/8対応)にて自由自在のコントロール管理が可能。 (16×16プログラムコントローラーはオプション選択時による。通常は4プログラム×7セグメントコントローラー標準装備)

  • 電気炉
  • 加熱装置
  • セラミックス

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ギ酸還元真空リフロー炉/マルチモジュールタイプ『MPXシリーズ』

専用タンクへのギ酸の移し変えが不要!お客様がご準備した瓶やタンクをそのままご使用いただけます

『MPXシリーズ』は、MPXシリーズは加熱冷却一体型の独立チャンバー モジュールを複数基設置可能なギ酸還元真空リフロー炉で、大量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を組み合わせた 当社独自の加熱冷却機構を搭載しています。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を  組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • リフロー装置

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ギ酸還元真空リフロー炉/バッチタイプ『モデル:SQ1』

当社独自の分解処理ユニットを搭載!排気中のギ酸を完全に無害化します

『モデル:SQ1』は、1チャンバーに加熱冷却機構を備えたコンパクトな バッチタイプのギ酸還元真空リフロー炉で、研究開発や少量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 専用タンクへのギ酸の移し変えが不要なため、お客様がご準備した瓶や タンクをそのままご使用いただけます。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を  組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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真空リフロー炉【卓上型、ギ酸還元プロセス対応】

最大450℃までの加熱設定、ギ酸還元プロセス対応、基板冷却機能標準装備

プロセスチャンバー内の圧力を変化させることでハンダ内部のボイドを大幅に減少させ、高品質なボイドレスはんだ付けが可能な卓上型の真空リフロー炉です。 加熱エリアは200mmx200mmx高さ50mm、上下からの加熱に対応しており、圧力は大気圧から10Paの範囲で任意に設定可、対象ワークに応じて柔軟に圧力・加熱プロファイルを設定できます。 保温機能付のギ酸バブラーユニット(オプション)を使用することで、安定した濃度でギ酸と窒素の混合ガスを生成し、還元反応によってワークの酸化膜を除去、フラックスを使用しないフラックスレスはんだ付けプロセスにも対応可能です。

  • はんだ付け装置
  • リフロー装置

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