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炉(焼結体) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

更新日: 集計期間:2026年05月27日~2026年06月23日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

1~29 件を表示 / 全 29 件

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【超高温真空・雰囲気炉導入事例】地球マントルの再現実験でのご活用

Mg2SiO4やCaSiO3、MgOからなる多結晶焼結体の焼成が可能となった事例

公益財団法人高輝度光科学研究センター様にて、超高温真空・雰囲気炉 「NEWTONIAN Pascal-40」を導入した事例をご紹介します。 同センターでは、地球マントルの組成や構造を明らかにすることを目的に 実験を行っており、候補物質の多結晶焼結体を安定して焼成するために 高温炉を調達する必要がありました。 導入後は、期待通りMg2SiO4やCaSiO3、MgOからなる多結晶焼結体の焼成が 可能となり、マントルの候補物質を用意することができるようになりました。 【事例概要】 ■目的:候補物質の多結晶焼結体を安定して焼成する ■成果 ・1cm3サイズの試料を加熱することができ、加熱後約1時間で100℃以下となる ・Mg2SiO4やCaSiO3、MgOからなる多結晶焼結体の焼成が可能となった ・再現性は高いため、高温炉の性能が安定している証拠であると評価 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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真空焼結炉 高温真空・加圧焼結炉

信頼性、品質性、経済性、生産性を兼ね備えた真空炉です

「真空焼結炉 高温真空・加圧焼結炉」は、超硬合金、希土類磁石、ファインセラミックスの焼結に適した高温真空焼結炉です。 減圧フローガスを利用して、脱脂から予備焼結、本焼結、冷却まで1バッチ完全自動処理が可能です。信頼性、品質性、経済性、生産性を兼ね備えた真空炉です。 適用材質は粉末ハイス、高合金鋼、超硬合金、ファインセラミック、有効寸法は300×300×600、500×500×1000、最高温度は1300℃、1600℃、2200℃、発熱体はグラファイトとなっています。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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真空焼結炉 NVF-S型

非常にコンパクトな設計で設置面積も最小!

設置面積も最小に押さえたコンパクト設計の真空焼結炉

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回転昇降機付縦型電気炉『VEF-1800-BR-AT』

真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易かつ安定に、作製することが可能!

光学式浮遊帯域溶融装置による単結晶育成は、融体を試料棒自身に 保持させながら試料の融解、凝固を継続させる方法である為、試料棒の 作製が第一の重要な作業になっております。 当製品は、試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成され、真っ直ぐで、同じ 焼結密度を持った試料棒の焼結を容易かつ安定に、作製することが可能です。 さらに、遅送り機能を付加し、上記回転昇降機能の他にブリッジマン法 結晶育成用としても使用することが出来ます。 【特長】 ■真っ直ぐで同じ焼結密度をもった、特にFZ法に適した  焼結原料棒が効率よく作製できる ■設定の容易さや操作性に優れたタッチパネルを採用 ■駆動系に遅送り機能を付加したことにより、ブリッジマン炉  としても使用が可能 ■発熱体には、MoSi2を使用しており最高温度は1800℃ ■炉内には1系統の雰囲気ガスをフローすることが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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メタル炉|高純度アニール・表面改質に対応

メタルホットゾーンで炉材由来コンタミを抑え、金属粉・薄膜材料をクリーンに熱処理

当社で取り扱う「メタル炉」は、小型・密閉構造のため、研究室・ 分析室レベルでも安全に設置可能です。 触媒担体や導電材料の還元処理、スパッタターゲット材・焼結体前処理の 高純度熱処理、高温での酸化・拡散・析出挙動の基礎研究などの用途に好適。 テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作可能です。 【特長】 ■炉材に金属(Mo/W/ステンレス等)を採用し、カーボン由来の汚染を抑制 ■真空雰囲気~還元雰囲気(H₂/N₂/Ar)まで対応し、高純度環境での熱処理が可能 ■高精度な温度制御(~1800℃)により、薄膜や微粒子のアニール条件を正確に再現 ■小型・密閉構造のため、研究室・分析室レベルでも安全に設置可能 ■量産機へのスケールアップ実績あり  (サーモニックENGでは大型メタル炉の製造実績もあり) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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堅型真空&加圧熱処理炉『CAVAC』

ダイレクト排気で処理物質内雰囲気がクリーンに!均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能!

脱脂・脱ガス・焼結・冷却の省エネルギーでの連続処理を可能にした堅型真空&加圧熱処理炉! 超硬合金の焼結(脱脂)、MIM製品の焼結、ガス真空加圧焼入れ、磁性材料の焼結、高融点材料の熱処理などに使用されています。用途に合わせて3つのラインナップをご用意しております。 【特徴】 ○均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能 ○製品の装入作業性に優れる ○効率的排気・安定したクリーンな処理雰囲気 ○加熱・冷却負荷を低減し、省エネルギーを実現 ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。

  • 工業炉
  • 電気炉
  • その他表面処理装置

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多目的高温炉

多目的高温炉

仕様 温度:常用2200℃ 最高2300℃ 真空中最高2200℃ 昇温時間:常温〜2200℃ 60分 真空度:到達5×10-5Torr 試料ケース:焼結用φ150×φ130×120H モールド:ホットプレス用 φ60×120H 等方性黒鉛製 圧力:雰囲気加圧9.5kg/cm2 ホットプレス総圧 10TON 温度調節:熱電対、単色温度検出デジタル プログラムPID調節 記録:3PEN記録計(温度、プレス圧、試料厚変位) 加熱:黒鉛製抵抗発熱体加熱 40KW 冷却水:50L/min 2〜4KG/cm2 32℃以下

  • 油圧機器
  • 電気炉
  • 加熱装置

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メッシュベルト連続式焼結炉『TSFG-W』

粉末冶金の品質・効率向上&生産コスト低減に。鉄系・銅系粉末の還元炉としても使用可能

『TSFG-W』は、鉄系部品の1150℃前後での連続処理に対応した D.W.D.装置(脱脂装置)付の焼結炉です。 D.W.D.装置は、輻射型カップバーナーを天井蓋に配置しているため、 コンパクトな炉体でもワークの大小や密度に関係なく、均一かつ急速に脱脂可能。 汚れた雰囲気ガスは炉外へ排出させるため、常に安定して操業できます。 天井蓋と本体を容易に分割でき、点検、清掃、補修がしやすい点も特長です。 供給電圧が200V・220Vであればトランスがいらず、省スペース化が図れ、 急速冷却装置(コンベクール装置)の設置により冷却能力増強も可能です。 【特長】 ■鋳鋼製マッフルと高断熱材による均熱性と耐久性に優れた本焼結帯 ■D.W.D.装置(脱脂装置)のメンテナンスが容易 ■金属ヒータ・SiCヒータの選択が可能 ■雰囲気ガスはRXガス、N2ガス、AXガスのいずれも使用可能 ※当社ホームページにも是非お越しください。  カタログもご用意しております。(下記関連リンクよりダウンロード可能)

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工業炉/電気炉

先進の技術力と、最新の情報力で、開発ニーズに応える"株式会社三建アクセス"

工業炉/電気炉とは、 電気の発熱作用を利用した炉です。 温度調節が容易で廃ガスがなく、熱効率が良いです。 抵抗炉は抵抗体のジュール熱を利用したもので焼入れ、焼きなまし、焼結、浸炭、窒化など多方面に使用されております。 用途として、鉄鋼関連やアルミ関連他御座います。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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焼成炉『マイクロ波炉』

セラミックス成形体の焼成や電子部品材の乾燥に!長年培ったマイクロ波焼成技術を提供いたします

『マイクロ波炉』は、ガスや電気に替わる熱源として期待される焼成炉です。 マイクロ波は分子の摩擦熱を利用し、被焼成物を直接加熱することが可能。 材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱も可能です。 当社が長年開発し培ったマイクロ波焼成技術を提供いたします。 【特長】 ■被加熱物を直接加熱するため、加熱時間が短い ■材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱が可能 ■被加熱物を内部から加熱することができ、均一加熱が可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【電気炉】 高温垂直分割式チューブ炉 HTRV-A

分割式管状炉、 HTRV-Aモデルは、縦置、または横置での使用で最高温度1700℃の熱処理が可能です。

分割式の加熱モジュールにより、作業管の搭載や固定式エンドフランジ 付の反応容器の搭載が容易です。分割可能な構造のため、試料の冷却 速度を高めることもできます。制御用熱電対は加熱域の中央に搭載さ れています。冷却用の溝がハウジングに施されており、外部ケーシング の対流冷却を促進します。2 分割する炉本体は、ハイグレードの断熱プ レートと垂直に設置された二珪化モリブデン製発熱体で構成されてい ます。炉本体が開くと安全スイッチが作動して発熱体の電源が切れるの で、操作者の安全が確保されます。 自前の装置に取り付けられるよう、スタンド無しが標準となっています。 オプションのL型スタンドで自立させることが可能です。

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【電気炉】 汎用水平/垂直チューブ炉 FST/FZS

FST / FZS ? 水平・垂直両用分割式チューブ炉(最高温度 1300°C)

FST(1 ゾーン)および FZS(3 ゾーン)は、最高 1300°Cに対応し、 水平・垂直の両方で使用可能な分割式チューブ炉です。 分割式の加熱モジュールにより、作業管の搭載や固定式エンドフランジ 付の反応容器の搭載が容易です。分割可能な構造のため、試料の冷却速 度を高めることもできます。冷却用の溝がハウジングに施されており、外 部ケーシングの対流冷却を促進します。炉本体の上半分にハンドルが搭 載されているほか、ワンタッチ式のクランプにより安全に施錠・解錠でき ます。炉本体はセラミックファイバー製モジュールで、高品質の APM 製 ワイヤ式発熱体が埋め込まれた断熱材はセラミック製リッジで保持され ています。炉本体が開くと安全スイッチが作動して発熱体の電源が切れ るので、操作者の安全が確保されます。

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CO2を削減!対象を内部より加熱 焼成炉『マイクロ波炉』

【テスト焼成可能】セラミックス成形体の焼成や電子部品材の乾燥に!短時間・内部からの加熱を実現。※他各種電気炉など取り扱い有

『マイクロ波炉』は、ガスや電気に替わる熱源として期待される焼成炉です。 マイクロ波は分子の摩擦熱を利用し、被焼成物を直接加熱することが可能となっており、 一般的なガス・電気炉のような外側から熱を加えるのではなく、内部から温めることで、“短時間”“品質向上”を実現します。 また、材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱も可能。 環境問題が叫ばれる現代において、CO2の排出を削減する事が可能であり、 環境に配慮した焼成ができることも特徴です。 現在、自社工場内の取り扱い炉を増やし、今まで以上に様々なテスト焼成をできる環境を整えております。 マイクロ波以外にも、焼成炉・電気炉など、材料や製品に合った焼成方法に柔軟に対応ができますので、 試作・量産などにご興味のある方はお気軽にお声がけください。 【特長】 ■被加熱物を直接加熱するため、加熱時間が短い ■材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱が可能 ■被加熱物を内部から加熱することができ、品質向上が可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ストランド炉(線材光輝焼鈍炉) 各種線材の熱処理が可能

設計、製作、据付、メンテナンスやアフターフォローまでトータルでサポートする工業炉メーカーの 線材光輝焼鈍炉

線材光輝焼鈍炉 とは、線材(針金の材料)をコイル状に巻いたものを伸ばした状態で加熱し、巻き取りながら加熱(または冷却など)する熱処理炉のことです。 サンファーネスでは連続式の『線材光輝焼鈍炉(ストランド炉)』を得意としています。 ヒータ交換や定期メンテナンス作業の簡略化、焼鈍管の炉内への出し入れがスムーズに行えるような築炉構成をいたします。制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 【サンファーネス 線材光輝焼鈍炉の特長】 ■炉体、焼鈍管を自由設計 処理スピードや線径、導入ガスの処理条件による炉の長さや大きさ、前後装置との兼ね合いや、設置場所による炉のメンテナンスを考慮した形状等、全ての条件が満たされるよう、柔軟に対応することが可能です。 ■コスト低減 通常運転時のランニングコストを抑えられる設備の提案が可能です。放熱を抑えた好適な築炉構成にて施工します。週末など炉を使用しない場面でも自動での温度制御、供給ガス制御が可能でコスト低減します。 ■品質 ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定いたします。

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連続式ストランド炉 炉の電力コスト削減と作業効率アップ

タイマー機能を用いて炉内の温度制御を自由自在に設定し、スタートアップも待ち時間がありません。

週末や炉設備を稼働しない場合は、炉を完全に停止するよりも低温域で温度キープしたままのほうがコスト面や装置劣化の面でよい場合があります。盤内の機器組み合わせ次第で週末は低温で温度キープし、週明け操業時には自動で炉内を設定使用温度にすることが可能です。 【仕様】 ● 温度:1150℃ ● 有効寸法:20A×L2000×4本 ● 雰囲気:水素 / 窒素 ● 用途:各種パイプ焼鈍 ● 処理物:ステンレス / 真鍮パイプ ● 処理量:160kg/h ● 電気容量:13kW 【サンファーネス 線材光輝焼鈍炉の特長】 ■炉体、焼鈍管を自由設計 処理スピードや線径、導入ガスの処理条件による炉の長さや大きさ、前後装置との兼ね合いや、設置場所による炉のメンテナンスを考慮した形状等、柔軟に対応することが可能です。 ■コスト低減 通常運転時のランニングコストを抑えられる設備の提案が可能です。 ■品質 ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定いたします。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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新材料開発用カーボン炉|高温焼成・炭化・黒鉛化・雰囲気制御対応

最高3000℃の高温焼成と雰囲気制御で、新材料開発・試作評価をサポート

新材料開発や研究用途では、材料の熱処理条件を幅広く検討できる高温炉が必要です。 特に、2000℃以上の高温焼成、炭化・黒鉛化、セラミックス焼結、粉末材料の熱処理では、温度だけでなく、真空・不活性ガス・低酸素雰囲気などの雰囲気制御が重要になります。 弊社のカーボン炉は、最高3000℃クラスの高温加熱に対応し、真空引き後にAr・N2などの不活性ガスへ置換することで、酸化を抑えた高温処理が可能です。 研究開発用の小型炉から、試作評価・量産前検討用の設備まで、処理物のサイズ、温度、雰囲気、処理量に応じてカスタム設計します。 以下のような研究開発テーマに対応できます。 ■ 新材料の高温焼成・熱処理 ■ 2000℃以上の高温プロセス検討 ■ 炭素材料の炭化・黒鉛化 ■ SiC、AlN、BNなどの非酸化物セラミックス焼成 ■ 電池材料、負極材、導電材の焼成 ■ 粉末成形体、ペレット、焼結体の評価 ■ 真空、Ar、N2などの雰囲気制御下での焼成 ■ 研究室スケールから量産前評価までのスケールアップ検討

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セラミックス高密度化カーボン炉|最高3000℃・不活性雰囲気対応

最高3000℃の高温焼成と低酸素雰囲気で、セラミックスの高密度化・焼結をサポート

セラミックス材料の高密度化では、脱脂・仮焼・焼結・加圧焼結・雰囲気制御など、材料ごとに最適な熱処理条件の検討が必要です。 特に、酸化を抑えながら高温処理を行いたい場合や、一般的な電気炉では到達温度・雰囲気・炉内寸法が合わない場合には、カーボン炉の活用が有効です。 弊社のカーボン炉は、最高3000℃クラスの高温加熱に対応し、真空引き後にAr・N2などの不活性ガスへ置換することで、低酸素雰囲気での焼成を実現します。 セラミックスの高密度化、焼結促進、相形成、脱脂後の高温処理など、研究開発から量産設備まで目的に応じたカスタム設計が可能です。 以下のような課題に対応できます。 ■ セラミックスの密度を上げたい ■ 焼結温度を高温側まで検討したい ■ 脱脂後の焼成・高密度化を一貫して行いたい ■ 酸化や組成変化を抑えて焼成したい ■ Ar、N2、真空などの雰囲気で処理したい ■ 既製炉では炉内サイズや温度条件が合わない ■ ラボ試験から量産炉まで相談したい

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熱処理炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

  • 工業炉
  • アニール炉
  • 加熱装置

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焼鈍炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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電気炉 『ヒーター リフレクター シールド キャリア』

タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。

真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。

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マルチ雰囲気炉|セラミックス焼結・緻密化条件の再現性向上

露点・酸素濃度を管理し、セラミックス焼結・緻密化条件を再現性よく評価

セラミックスの焼結・緻密化では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、昇温条件が、密度・気孔率・粒成長・表面状態に影響します。 特に、湿潤雰囲気での焼成、酸化・還元雰囲気の切替、乾燥→湿潤→乾燥などの雰囲気履歴を管理したい場合、通常の電気炉や管状炉では条件再現が難しくなることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理したセラミックス焼成条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ セラミックスの焼結・緻密化・高密度化条件を検討可能 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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焼成テストの進め方|サンプル別に炉・治具・容器を選定

粉末・基板・治具・部品に合った焼成テスト条件を整理

焼成テストでは「何を焼くか」によって、適した炉種・治具・容器・回収方法が変わります。 粉末、基板・板材、治具・部品、成形体・ペレットでは、確認すべきポイントや評価すべき項目が異なります。 例えば、粉末では飛散性・吸湿性・回収方法、基板では反り・歪み・面内温度差、治具・部品ではガス流れや死角部、成形体では割れ・収縮・接触跡などの確認が重要です。 本資料では、サンプル別に焼成テスト前に確認すべき項目、治具・容器選定の考え方、炉種選定の観点を一覧で整理しています。 ■設備導入前の焼成テスト検討に ■粉末・基板・治具・部品の条件整理に ■炉種・治具・容器選定の初期検討に

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小型カーボン炉|なぜ極低酸素・3000℃級が可能なのか

残留酸素を抑えながら3000℃級へ。小型カーボン炉の構造と原理を解説

小型カーボン炉は、極低酸素雰囲気と3000℃級の超高温処理を両立できる点が特長です。 本資料では、なぜ低酸素環境を維持できるのか、なぜ3000℃級の高温処理が可能なのかを、炉材・真空置換・不活性ガスパージ・熱設計の観点から解説します。 炉内をグラファイト部材で構成することで、高温域で残留O2、CO2、H2Oなどの酸化性成分の影響を抑えやすくなります。 また、真空引きとAr/N2などの不活性ガス置換を組み合わせることで、粉末内部や炉内に残る空気を排出し、酸化を嫌う材料処理に適した雰囲気を形成します。 【解説内容】 ■ なぜ極低酸素雰囲気を形成できるのか ■ 真空置換+不活性ガスパージの役割 ■ グラファイト炉材による酸素影響の低減 ■ なぜ3000℃級の超高温処理が可能なのか ■ 黒鉛化・炭化・高温焼成に適する理由 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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カーボン炉|極低酸素・3000℃級の高温焼成テストに対応

真空置換とカーボンゲッタリングで、3000℃級の高温処理を再現評価

設備導入前の極低酸素・超高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、黒鉛化、再結晶化、粒成長、相形成、酸化影響などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社で取り扱う「カーボン炉」は、条件出しに時間がかかり、 短サイクルでの再現が難しいなどといった課題を解決します。 真空引きで試料内部の空気を事前に排出、置換時間を短縮。 また、トレイ自由度/棚構成で角型サヤなどを並列配置し、 厚みムラの影響評価も可能です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧での焼成 ・真空→Ar/N2へ段階置換 ・炉材カーボンのゲッタリング効果で残存O2/酸化性種を低減 ■超高温プロセス ・常用~2800℃、最大~3000℃クラスでの長時間安定運転 ・1200~2600℃帯の緩昇温→保持で粒成長や再配列を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|露点制御・湿潤雰囲気による金属表面処理

露点・酸素濃度を管理し、金属表面の酸化防止・改質・前処理に対応

金属部品や粉末材料の表面処理では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、処理時間が表面状態や品質に大きく影響します。 特に、酸化防止、表面改質、コーティング前処理、親水化・疎水化処理などでは、乾燥雰囲気・湿潤雰囲気・還元雰囲気を切り替えながら、再現性よく条件を検討することが重要です。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理した表面処理条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ 金属表面の酸化防止、表面改質、前処理に適用 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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連続式ストランド炉 線径にかかわらず1台で多品種小ロットにも好適

さまざまな太さのワークを一度に処理することができます

異なる太さ(径)や加熱パイプを配置して同時に熱処理をすることが可能です。また、個々のパイプごとに窒素や水素などガスの切替や流量の調整も行うこと可能なため、1台で多種多様な熱処理が実現します。 【仕様】 ● 温度:1150℃ ● 有効寸法:10A×L5000×4本、15A×L5000×4本、25A×L5000×4本 ● 雰囲気:水素 / 窒素 / アルゴン ● 用途:軟化焼鈍 ● 処理物:ステンレス鋼線 ● 処理量:線速DV12(D:線径mm、V:速度m) ● 電気容量:48kW 【サンファーネス 線材光輝焼鈍炉の特長】 ■炉体、焼鈍管を自由設計 処理スピードや線径、導入ガス、前後装置との兼合や、設置場所による炉のメンテナンスを考慮した形状等、柔軟に対応することが可能です。 ■コスト低減 通常運転時のランニングコストを抑えられる設備の提案が可能です。 ■品質 ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定します。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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管状炉|金属・合金の熱処理条件を見える化

温度・流量・圧力を同期記録し、金属・合金の熱処理条件を最適化

当社では、金属・合金材料の熱処理条件検討に適した「管状炉」を取り扱っております。 金属・合金の焼成や熱処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気条件が、合金組成、組織変化、酸化・還元挙動、品質ばらつきに影響します。 汎用管状炉では焼成前後の評価に留まり、熱処理中の温度変化、圧力変動、ガス流れを把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、熱処理中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで記録できます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力を同期ロギング ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気ラインを設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ 金属・合金の熱処理条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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メタル炉|極真空・高純度雰囲気でO・C・H₂O由来の影響を低減

酸化物・窒化物材料の脱ガス・脱水・脱炭を、極真空〜還元雰囲気で制御

当社で取り扱う「メタル炉」は、極真空雰囲気での高純度熱処理に対応した電気炉です。 炉内のホットゾーンをメタル材で構成することで、黒鉛材・断熱材・有機物由来のアウトガスやカーボンコンタミを抑制し、 酸素・炭素・水分の影響を低減したクリーンな熱処理環境を形成します。 メタル炉では、金属ヒーター・金属チャンバー構造により、極真空からAr/N₂/H₂などの雰囲気制御まで対応し、 高純度粉末やセラミック部材の脱ガス、脱水、脱炭、還元処理に適用できます。 【特長】 ■ 極真空雰囲気に対応 ・10^-3〜10^-5 Paの真空到達に対応 ■ メタルホットゾーン構成 ・金属ヒーター、金属チャンバー構造により、炉材の混入を抑制 ■ 高精度な温度・雰囲気制御 ・真空、Ar、N₂、H₂など、目的に応じた雰囲気制御に対応 ■ 小型から大型へのスケールアップに対応 ・小型機で条件確認後、大型炉への展開も検討可能 また、設備導入前の条件確認として、実サンプルを用いた焼成テストにも対応可能です。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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小型塩素炉|セラミックス粉の金属不純物を乾式除去

SiO2・Al2O3・Si3N4粉末中の金属不純物を、母材を残して選択除去

セラミックス粉末の高純度化では、Fe、Ni、Cr、Naなどの金属不純物が、製品特性・焼結性・絶縁性・歩留まりに影響する場合があります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた選択塩素化により、SiO2、Al2O3、Si3N4などのセラミックス粉に混在する金属不純物を、揮発性塩化物として乾式除去する条件を検討できます。 湿式処理と異なり、洗浄水・廃液処理・乾燥工程を抑えられるため、水分を嫌う粉末や再汚染を避けたい高純度材料の処理に適しています。 少量サンプルで温度、ガス種、ガス濃度、処理時間を比較できるため、高純度セラミックス粉末の試作・条件探索に活用できます。 【特長】 ■ Cl2/HClによる選択塩素化に対応 ■ Fe、Ni、Cr、Naなど金属不純物の乾式除去を検討可能 ■ SiO2、Al2O3、Si3N4などセラミックス粉末に適用検討 ■ 湿式処理に伴う廃液・乾燥工程を低減 ■ 少量サンプルで温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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