更新日： 集計期間:2025年11月12日～2025年12月09日
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1200℃最高温度の真空管状炉 石英・セラミック炉心管対応
• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です • 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています
堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去！母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
