更新日： 集計期間:2025年10月01日～2025年10月28日
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ステンレス容器のサニタリー性、耐食性を向上させる電解研磨仕上げ
〇各シリーズの仕上げは、一部の製品を除いて通常バフ研磨仕上げを行っていますが、サニタリー性、耐食性を向上させるために電解研磨仕上げが可能です。 〇電解溶液中で金属表面から化学的・電気的に金属イオンを溶出させることによってステンレスの表面を平滑にする研磨方法です。表面が均一で高品質な仕上がりとなります。 〇容器をはじめサニタリー部品類など接液するほとんどの部品類に電解研磨ができます。
Stop the 金属イオン
弊社は、溶融亜鉛メッキを祖業とし、時代の移り変わりに伴い、電解研磨他、表面処理を営む企業です。お困り事の、各種メッキのご相談とともに、昨今では、電解研磨をコアに、半導体業界課題の一つの、金属イオン溶出低減に取り組んでいます。また、現地での酸洗、電解研磨等の洗浄系の出張作業も行っており、お客様から、喜んで頂いています。
製品を薬品の中に浸漬させ、電気化学的反応により研磨します
電解研磨は製品を薬品の中に浸漬させ、電気化学的反応により研磨する方法です。製品とそれに対面する電極との間で電気分解を行うことによって金属表面を研磨します。加工変質がなく、熱の影響を受けず、平滑性・耐食性・洗浄性・清浄性・非付着性に優れています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
液体中または気体中の不純物を分離するために編まれた充填材として最適！
『ワイヤーメッシュデミスター』は液体中、または気体中の不純物を分離 （分留、精留）するために編まれた充填材として、また別にシールド材、 芯材としても利用されます。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ビトリファイト研磨石やプラスチック研磨石など！バレル研磨用消耗品をご紹介
当社で取り扱う『研磨石・コンパウンド』をご紹介いたします。 「研磨石」はワークと擦れ合い様々な研磨目的を果たします。研磨機の調整 機能が少ない為に、研磨目的や対象となるワークの材質、硬度、形状によって 使い分けが必要です。 また「コンパウンド」は研磨石の持つ性能を維持し、ワークの汚れや錆から 保護する働きをします。対象となるワークの材質も様々で、光沢、平滑仕上げに 貢献し、適度な潤滑性が切削性を向上させるといった効果があります。 【研磨石のタイプ】 ■ビトリファイト研磨石 ■プラスチック研磨石 ■アルミナ系研磨石 ■有機質研磨石 ■金属系研磨石 ■乾式研磨石 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ステンレス研磨の新精鋭 バフ研磨”高光沢”
ステンレス鋼コイル材に対し、連続研磨および、製品への洗浄をおこないます。 【品質】 ★ステンレス鋼コイル材を連続研磨を行うことで、研磨ムラを削減し安定した品質を保ちながら、大量生産が可能です。 ★研磨ラインと連動した洗浄装置を使用し、一般的なシート研磨品と比べて高い清浄性を確保しています。 ★シート研磨では対応が難しい板厚0.25mmから3.0mm迄対応し、薄～中厚板に高品質を維持しながら研磨が行えます。 ★バフ研磨の強みを生かしながら、求められる表面仕上げ（写像性）により、様々なバリエーションを提供可能です。 【生産】 ★研磨後にレベラーカットやスリットカットのワンストップが可能であるため、在庫管理や納期対応がスムーズです。 ★光沢材である「バフ研磨"高光沢”」でも、バフ研磨の特性から溶接加工後も手直し・仕上げ研磨が可能となるタッチアップ性を備えます。 ★ステンレス鋼コイル材の一部は「研磨」、残りは「2B」など、必要な量に応じて部分的に研磨することが可能です。 ★当社の3拠点を活用して、中継や各拠点での在庫保管、配送機能を提供しています。迅速かつ柔軟な対応が可能です
光学研磨技術を応用した技術！ガス関連装置などの各種分野でご利用いただいています
日本エクシードは、金属材料などの精密研磨加工及び洗浄を 行っております。 光学研磨技術を応用した技術で、試作加工を行っており真空装置、 ガス関連装置などの各種分野でご利用いただいています。 また、磁性体材料・超伝導材料・新素材など、磨くことに関しては、 すべての材料に対してチャレンジします。 【特長】 ■光学研磨技術を応用した技術 ■試作加工を行っている ■真空装置などの各種分野で利用されている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
量産～一個・試作までお受け致します。まずはご相談下さい！
電解研磨とは、電解研磨溶液に研磨素材を浸漬させ電気を流して研磨する処理方法です。金属表面の平滑化、光沢化された仕上がりになります。 【電解研磨 特徴】 ・耐食性の向上 ・平滑化、光沢化 ・洗浄性 ・微小のバリ除去 ・溶接焼け取り 弊社では、前処理としてバレル研磨・バフ研磨からと一貫対応できます。 後処理として不動態化処理（パシペート）対応できます。 まずはご相談ください！ お客様に合った処理方法をご提案させて頂きます。
CMPプロセス開発・試作・請負受託加工！確かな技術力や経験で、お客様のニーズにお応え
当社のCMP／ダイシング事業「MAT課」についてご紹介します。 「平坦化」「平滑化」「薄片(薄膜)化」、また、半導体分野に限らず、 SiCパワーデバイス・SOI・マイクロマシン(MEMS)・光学系デバイス、 LEDサファイア・有機ELなど。 先端テクノロジーで使われる「研削」「Lapping」「Polishing」「CMP」 「洗浄」等、確かな技術力や経験で、お客様のニーズにお応えします。 【特長】 ■CMPプロセス開発・試作・請負加工 ■「平坦化」「平滑化」「薄片(薄膜)化」 ■半導体分野に限らない ■確かな技術力や経験で、お客様のニーズにお応え ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
様々な成型品の研削研磨加工を行う事が可能！国内全ガラスメーカー様の試作を受け賜りました
当社の凸面レンズは、研磨後に最終形状加工を行うので面精度には 自信があります。 主に光学ガラスを使用し、両面凸R品、片面凸R・片面凹R品も対応可能。 処理能力はサイズ・精度によるのですがスタンダードに3kp/M程度です。 【硝材例】 ■白板B270 ■BK7 ■青板 ■テンパックス ■テンパックスRなど ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
光学「研磨」で磨かれた高精度技術
当社は、ガラス、結晶、金属の外周研磨や面取り研磨を承っており 実績のある機械や治具の設計から製作まで行っております。 加工方法、測定方法、加工装置などお客様に合わせ提案させていただきます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■外周研磨 ・湿式加工を用いて、Φ20～Φ80まで高い精度で加工可能 ■面取り研磨 ・希望の角度に合わせて加工可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
循環ポンプでの使用に向け開発された添加剤！スラリー廃棄・砥粒の使用量が減少
『VECTOR HTN』は、ハイスピード循環用スラリーの添加剤で、 循環ポンプで使用できる様に開発されました。 アルミナ、セリウム、ジルコニア、SiC、B4C、人造/天然ダイヤモンド、 ガーネットなどの様々な砥粒を均一に分散して持続。 循環スラリーとして連続的に使用できスラリー廃棄、また砥粒の使用量は 減少します。 【特長】 ■分散性の向上 ■材料のダメージ（加工変質層）低減 ■高ラップレート ■スクラッチ無し ■研磨後の洗浄性の効果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
バリ取り・光沢出しなどに好適な研磨方法の加工事例をご紹介します！
当社では、黒染め（四三酸化鉄被膜処理）、パーカーライジング （リン酸塩被膜処理）、バレル研磨処理、脱脂・洗浄処理、 ショットブラスト処理、プレス加工などを行っています。 バレル研磨は、バリ取り・光沢出しなどに使われる研磨です。 当社では、回転バレル・遠心バレル・流動バレル・振動バレルなどがあり、 製品の形状により細かく使い分けています。 【加工事例】 ■使用した機械 ・回転バレル 200L 5台 ・遠心バレル 7.5L 1台 ・振動バレル 150L 2台 ・流動バレル 150L 1台 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
