1～2 件を表示 ／ 全 2 件
共に成長する研究開発向けALD装置
『Beneq TFS 200』は、学術研究および企業のR＆Dに適した、 高い柔軟性を誇るALD研究プラットフォームです。 マルチ・ユーザーの研究環境で起こり得るクロスコンタミを 最小限に抑えるよう特殊設計されています。 また、ウェーハや平面物体、粒子、多孔質バルク材、および非常に高いアスペクト比を 特長とする複雑な3次元物体に、上質の成膜をすることを可能にする 技術ソリューションを提供いたします。 【取扱製品(一部)】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■半導体装置 ■空間ALD装置 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ALD研究およびとバッチ生産向けのプラットフォーム
『Beneq TFS 500』は、薄膜成膜用途での様々な使用に適し、 マルチ・プロジェクト環境に好適なツールです。 手動操作のロードロックを搭載して、ウェハ処理能力を高めることが可能。 異なる種類の反応チャンバを真空チャンバ内部に取り付けることができ、 お客様の用途に合わせて各反応チャンバを最適化することができます。 また、工業的信頼性に関する厳しい要件と、R＆D業務の柔軟性へのニーズの両方を 満たすことが可能。プロセス構成部品はスペア・パーツの可用性が確保されます。 【取扱製品・サービス】 ■3Dおよびバッチ生産 ■研究設備 ■コーティングサービス ■研究開発サービス ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
