プラズマCVD装置 Concept-150/200
省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールから最大18ｍ離して設置することができます。
本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール（高周波 低周波各 1Set ）、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。
- 企業：株式会社インターテック販売 東京本社（拠点－関西営業所、熊本営業所）
- 価格：応相談
