CVD装置(半導体) - 企業1社の製品一覧

プラズマCVD装置『SHUTTLELINE(R)シリーズ』

小型で多用途に応用可能！デバイス評価プロセスにも適応できる高機能装置です

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応フレキシブル半導体製造装置です。 RIE/ICP-RIE PECVD/ICP-CVDに対応し、コンパクトな機体に多様なオプションで多用途に使えるフレキシブル装置。企業及びアカデミアのR&D、研究室にラボスケールのコンパクトな装置が必要な方や、1台で成膜・エッチングとマルチに使用可能な装置をお探しの方などにおすすめです。【特長】 ■高精度でダメージフリーなエッチングプロセス ■ダイパッケージ化ダイウェハ片およびフルウェハに多様なウェハサイズ・形状に対応 ■シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要 ■1台で成膜/エッチング装置とマルチに対応 ■世界中で採用実績があり、Plasma-Therm LLCのグローバルネットワークで現地サポート ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。