プラズマ関連製品 RFラジカルビーム源 IRFS-504
ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し、差圧によりフラックスを引き出しています。
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作しており、活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることができます。特に窒素ラジカル源として、多くの実績を有しています。
- 企業：アリオス株式会社
- 価格：応相談
イオン源×アリオス株式会社 - メーカー・企業と製品の一覧
イオン源の製品一覧
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マイクロ波イオン源 EMIS-221C
マイクロ波イオン源 EMIS-221C
ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で 金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置など 各種超高真空装置に使用可能 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により、イオン加速が可能 （ラジカル源、プラズマ源としての使用も可能） ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 面倒な導波管接続が不要 ○シーケンサやパソコンによる外部制御が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
- 企業：アリオス株式会社
- 価格：応相談
