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コーティングによる長寿命化でコストメリット創出！半導体マスクのことなら竹田東京プロセスサービスへ。
【適用マスクとそのメリット】 ■クロムガラスマスク…防汚性・清掃性の向上 ■エマルジョンガラスマスク…耐久性向上(膜面保護・擦傷防止) ■フィルムマスク…耐久性向上(ESD対策) 【コーティングの特徴】 ◆透過率（波長：365nm）…95％以上(未コートガラスとの相対値) ◆UV照射耐性（10 000J/cm2照射）…低下なし ◆密着性（碁盤目試験）…剥がれなし ◆耐水性（純水で浸漬10分）…変化なし ◆耐溶剤性（アセトン・IPAで浸漬10分）…変化なし ◆耐薬品性（アルカリ液(希釈5%)・酸液(希釈5%)で10分浸漬）…変化なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガラス基材で湿度影響を低減し、高い寸法安定性と解像性を実現。CSP、FC-CSP、薄膜チップ部品等に！
『フォトマスク‐エマルジョンマスク‐』は、基材がガラスなので 湿度影響を受けにくいことから、寸法安定性が高く解像性に優れています。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品や、その他各種パッケージ、 タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精度な意匠成形を実現！優れた耐久性と微細性で、半導体チップや基板実装、各種パッケージ成形に好適。
『フォトマスク‐クロムマスク‐』は、耐久性および微細性が高く 高精度な意匠形成に有効です。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 ディスプレイ、タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 【仕様・規格（抜粋）】 ■最大マスクサイズ（mm）：800×800×12t ■ガラス材質：ソーダライム（SL）／石英（QZ） ■膜質：2層 低反射クロム膜／その他 ■膜厚（μm）：100～160／その他 ■環境温度による影響：0.8μm/℃/100mm（SL）0.05μm/℃/100mm（QZ） ■環境湿度による影響：なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
CAD設計からマスク製造まで行う一貫生産体制で高品質なフォトマスクをご提供いたします！
竹田印刷(株)ファインプロセス事業部と東京プロセスサービス(株)は、2023年4月に事業統合し、新たに「竹田東京プロセスサービス(株)」としてスタートしました！ 当社のフォトマスクは、工程ごとの厳しい品質管理を徹底するとともに、最新装置を駆使した短納期・低コストを実現することで、お客様の様々なご要求にお応えしています。 【製品ラインアップ】 ■クロムガラスマスク 高精細・高精度の画像形成が可能であり、マスク耐久性が高い ■エマルジョンガラスマスク フィルムマスクよりも環境影響を受けにくく、寸法安定性と解像性が良好 ■フィルムマスク コストパフォーマンスが高く、20～30μm程度の微細な画像形成も可能 【オプション加工】 表面コーティング / クロムガラスマスク向けコーティング / ペリクル付きクロムガラスマスク 【特殊対応製品】 ●静電破壊対応クロムガラスマスク ●精度校正用プレート ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
