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コーティングによる長寿命化でコストメリット創出！半導体マスクのことなら竹田東京プロセスサービスへ。
【適用マスクとそのメリット】 ■クロムガラスマスク…防汚性・清掃性の向上 ■エマルジョンガラスマスク…耐久性向上(膜面保護・擦傷防止) ■フィルムマスク…耐久性向上(ESD対策) 【コーティングの特徴】 ◆透過率（波長：365nm）…95％以上(未コートガラスとの相対値) ◆UV照射耐性（10,000J/cm2照射）…低下なし ◆密着性（碁盤目試験）…剥がれなし ◆耐水性（純水で浸漬10分）…変化なし ◆耐溶剤性（アセトン・IPAで浸漬10分）…変化なし ◆耐薬品性（アルカリ液(希釈5%)・酸液(希釈5%)で10分浸漬）…変化なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
とりあえず、これ！ たった5スワイプで理解できる！フォトマスク初心者のための、今さら聞けないフォトマスクの基本！
初心者のための『５スワイプでわかる！フォトマスクの基本』 本資料は、フォトマスクの基本を知りたい！という方のためのお役立ち資料です。 図やイラストを用いてわかりやすく解説しており、たった5スワイプで理解できてしまいます！ ［こんな時にぴったり！］ ◆知識の浅い若手社員への説明資料がほしい… ◆異動してきたばかりで情報収集したい… ◆今更基本的なことは社内で聞きづらい… ［当社について］ 高い品質と精度のフォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。 ※本資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
【技術資料公開】電機・電子・半導体業界の製造現場の静電気トラブルに！帯電・静電破壊（ESD）対策方法を事例を交えご紹介
本資料では、静電気が起きるメカニズムについて、 Crガラスマスクの例をもとに説明し、おすすめする4つの対策方法をご紹介しています！ これを読めば静電気による「作業不快・部品破壊・集塵による不良」等々のお悩みを解決できます。 特に、電機・電子・半導体業界の製造現場の方におすすめの内容となっております。 ［掲載内容］ ■静電気対策をしていないと、どうなるのか？ ■なぜCrガラスマスクで静電破壊が起きるのか？ ■どういうパターンで発生しやすいのか？ ■静電破壊を発生させないためには ■静電破壊を起こりにくくする『静電破壊対策用Crガラスマスク』もご紹介。 ⇒フォトマスクのプロだから分かるノウハウをおまとめしております。 ［当社について］ 竹田東京プロセスサービスでは、高い品質と精度のフォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。 ※本資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
ガラス、シリコン、セラミック、各種金属へ高精度な微細加工を実現するマイクロブラスト加工。ガラスマスクへの活用例をおまとめ
竹田東京プロセスサービス［ファインプロセス本部］では、ガラスマスクへのマイクロブラスト加工を承っております。 ～ 現在、技術資料「マイクロブラスト加工とガラスマスクへの活用」を公開中！ ～ 下部［PDFダウンロード］より、スグにご覧いただけます。 「マイクロブラスト加工」とは、微細粒子を圧縮エアー使用して高速で定量的に被加工物に噴射し、 脆性破壊原理により高精度な微細加工を実現する加工方法です。 ＊加工対象：ガラス（青板・石英）、シリコン、セラミック、各種金属など 【このようなご要望にお応えできます！ガラスマスクへの加工事例】※資料内容抜粋） ●カメラの視認性を上げたい… → 表面粗し加工による高コントラスト化で改善！ ●装置の位置合わせに時間がかかる… → 穴あけ加工を生かした工夫で改善！ ●部品実装後にガラスマスクを使って露光したい… → ガラスマスクへのザグリ加工で解決！ ⇒詳細は資料をダウンロードの上、PDFにてご参照ください。 ＊本資料は［PDFダウンロード］よりご覧いただけます。 ＊その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
ガラス基材で湿度影響を低減し、高い寸法安定性と解像性を実現。CSP、FC-CSP、薄膜チップ部品等に！
『フォトマスク‐エマルジョンマスク‐』は、基材がガラスなので 湿度影響を受けにくいことから、寸法安定性が高く解像性に優れています。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品や、その他各種パッケージ、 タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精度な意匠成形を実現！優れた耐久性と微細性で、半導体チップや基板実装、各種パッケージ成形に好適。
『フォトマスク‐クロムマスク‐』は、耐久性および微細性が高く 高精度な意匠形成に有効です。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 ディスプレイ、タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 【仕様・規格（抜粋）】 ■最大マスクサイズ（mm）：800×800×12t ■ガラス材質：ソーダライム（SL）／石英（QZ） ■膜質：2層 低反射クロム膜／その他 ■膜厚（μm）：100～160／その他 ■環境温度による影響：0.8μm/℃/100mm（SL）0.05μm/℃/100mm（QZ） ■環境湿度による影響：なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
CAD設計からマスク製造まで行う一貫生産体制で高品質なフォトマスクをご提供いたします！
竹田印刷(株)ファインプロセス事業部と東京プロセスサービス(株)は、2023年4月に事業統合し、新たに「竹田東京プロセスサービス(株)」としてスタートしました！ 当社のフォトマスクは、工程ごとの厳しい品質管理を徹底するとともに、最新装置を駆使した短納期・低コストを実現することで、お客様の様々なご要求にお応えしています。 【製品ラインアップ】 ■クロムガラスマスク 高精細・高精度の画像形成が可能であり、マスク耐久性が高い ■エマルジョンガラスマスク フィルムマスクよりも環境影響を受けにくく、寸法安定性と解像性が良好 ■フィルムマスク コストパフォーマンスが高く、20～30μm程度の微細な画像形成も可能 【オプション加工】 表面コーティング / クロムガラスマスク向けコーティング / ペリクル付きクロムガラスマスク 【特殊対応製品】 ●静電破壊対応クロムガラスマスク ●精度校正用プレート ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
お役立ち資料を無料公開中！半導体関連マスクのプロが解説する『フォトマスクの基本』と『静電気にもう悩まない！3つの対策』
竹田東京プロセスサービス ファインプロセス本部では、高い品質と精度のフォトマスク（ガラスマスク）、 スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 今回、長年のノウハウを元に、半導体マスクに関するお役立ち情報をおまとめ致しました！ ▼公開資料１【５スワイプでわかる！フォトマスクの基本】 ・フォトマスクの基本を知りたい！という方のためのお役立ち資料 ・図やイラストを用いてわかりやすく解説 ・たった5スワイプで理解できる ▼公開資料２【竹田東京プロセスサービスがおすすめする 静電気にもう悩まない！3つの対策】 ・静電気（静電破壊）が起きるメカニズムを、Crガラスマスクの例をもとに解説 ・静電破壊への３つの対策方法をご紹介 ※本資料は、下部「PDFダウンロード」よりご自由にダウンロードいただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
