ナノインプリント装置「TEXシリーズ」*デモ相談可能
従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやすく高い生産性を実現するソリューションです
〔特徴〕 ・マスターモールド、ソフトモールド、UVレジスト、転写装置全てをシステム化 ・解像度100nm ・スループット1~2分以内 ・ハイアスペクト(1:5)可能 ・残膜15nm以下
- 企業:株式会社協同インターナショナル
- 価格:応相談
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従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやすく高い生産性を実現するソリューションです
〔特徴〕 ・マスターモールド、ソフトモールド、UVレジスト、転写装置全てをシステム化 ・解像度100nm ・スループット1~2分以内 ・ハイアスペクト(1:5)可能 ・残膜15nm以下