従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやすく高い生産性を実現するソリューションです
〔特徴〕 ・マスターモールド、ソフトモールド、UVレジスト、転写装置全てをシステム化 ・解像度100nm ・スループット1~2分以内 ・ハイアスペクト(1:5)可能 ・残膜15nm以下
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基本情報
【特徴】 ○真空・加圧の無いシンプルな装置構成 ○耐久性に優れた独自素材のモールドを使用 ○フォトニックレベル(φ250nm)まで可能 ○120枚/時間の高速処理を実現 ○ドライエッチング後サファイア基板断面選択比:0.8を実現 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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あっというまに変化する情報化社会に寸時に対応できる会社、 それが協同インターナショナル。会社創立以来50年経ちました。 そして新たな挑戦!益々強く、荒々しく困難に立ち向かっていきます。 これからもよろしくお願いいたします。