CVD-SiC（化学蒸着法）「膜単体製造技術」
厳しい環境下で多数の実績！適応可能が幅広い膜単体製造技術
コーティング技術を応用し、緻密なSiC膜のみで構成された製品を提供いたします。 平板をはじめ、複雑形状まで幅広く適応可能です。 半導体製造装置を中心に、超高温やプラズマの厳しい環境下での数多くの実績があります。 【製造工程(例)】 １．黒鉛基材を円板状に加工 ２．全面にCVD-SiCコーティング ３．外周加工により基材を露出 ４．高温酸化雰囲気中で基材除去 ５．2枚の膜単体円板となる ６．研削/研磨・面取り・洗浄・検査 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- Company：株式会社フェローテックホールディングス
- Price：応相談
