各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』
“サセプタ不用 の高スループットSiCウェハアニール！4-8インチウェハに対応
『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スループット、 プロセスの柔軟性も向上(当社サセプタ使用装置と比較) ■新モデルでは2チャンバ構成に対応し、シングルからダブルチャンバへの 将来のアップグレードも可能 ■Plasma-Therm独自のユーザーフレンドリーな制御システム「Cortex」 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
