“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8インチウェハに対応
『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スループット、 プロセスの柔軟性も向上(当社サセプタ使用装置と比較) ■新モデルでは2チャンバ構成に対応し、シングルからダブルチャンバへの 将来のアップグレードも可能 ■Plasma-Therm独自のユーザーフレンドリーな制御システム「Cortex」 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■4-8インチウェハに対応 ■DTC(Direct Thermocouple)で基板温度を直接測定 ■デュアルチャンバ(最大2チャンバ、2クーリングステーション、2カセット対応) ■自動3軸アライナ ■フットプリント80"×52"(203cm × 132cm) ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■SiCウェハの熱処理工程でのRTP(Rapid Thermal Processing)に対応 ■Si,SiC,Sapphire(サファイア),GaAsウェハの加熱処理 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、48年間プラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
