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制御(フロー) - 企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年04月02日~2025年04月29日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

製品一覧

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RS-232C変換アダプターでLANを介して機器を管理・制御

RS-232C搭載の機器がEthernet(PoE対応)経由で、パソコンから制御・管理できるシリアル変換アダプターです。

RS-ET62はRS-232C搭載の機器(計測器、レシート/ジャーナルプリンターなど)を接続し、Ethernet上のパソコンから制御・管理できるEthernet シリアル変換アダプターです。 【シリアル Ethernet 変換アダプター(PoE対応)の特徴】 ■ 構築済みのネットワーク環境に組み込んで使用可能 既存ネットワークに接続し、RS-ET62 ConfigTool を起動すれば、 自動的に検索を開始するので、その場で簡単にセッティングが可能です。 ■PoE対応で、PoE対応のHubやインジェクターを用意すれば、  電源が無い環境でも使用可能。 ■ 離れた場所にあるデジタル測定器などを管理 ■ PLCやマシニングセンターなどFA機器にも対応 ■ Ethernet設定・通信設定ユーティリティが付属 ■ 35mmDINレールに取り付け可能 ■各種サンプルプログラムを添付 COMポート版、WindowsSocketAPI版のアプリを添付しています。 詳細についてはカタログをダウンロードいただくか、お問い合わせください。

  • et60_connect550.jpg
  • et60_set550.jpg
  • 通信関連

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超高精度な温度制御を実現!『精密空調機(温度制御タイプ)』

加温、冷却、除湿、お任せください!温度コントロール±0.1℃の高精度で希望の温湿度環境を作り出します。

限られた空間のみを空調する「局所空調」により、省エネかつ高精度な温度管理を実現しました。 少しの温度変化も許されない恒温室や試験機、精密加工機などにおすすめです。 【特長】 ■温度コントロール制度 ±0.1℃ ■局所空調なので、コスト最小限! 精密空調機は、場所を区切る局所空調方式です。 温湿度管理したい空間のみを制御するので大掛かりな設備が不要です。 全体空調に比べて少ないコストで導入できます。 ■ノンフロン冷媒を採用しているため、フロンの管理コストが一切かかりません! 地球温暖化係数(GWP)が極めて低く、フロン排出抑制法の対象外となるため、 廃棄する際のフロン回収や破壊のコストが不要であり、使用時における精密空調機の定期点検義務も発生しません。 ■完全ヒーターレスとインバーター制御でMAX88%の省エネ(エコ) ※当社従来比 ■除湿用途に、ドライモード搭載 除湿能力を上げるドライモードが標準搭載されております。 そのため温度を一定にするだけでなく、同時に除湿することもできます。 ※詳細に関しましてはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問合せ下さい。

  • 温湿度制御

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乾燥・滅菌・冷却一貫工程制御!『乾熱滅菌機』

HEPAフィルターを用いた循環ラミナーフローによるクラス100清浄度の管理。乾燥・滅菌・冷却一貫工程制御可能!

GMP・FDAに対応するシステムで、温度精度・温度分布の高均一。 HEPAフィルターを用いた循環ラミナーフローによるクラス100清浄度の管理が可能です。 全工程陽圧保持管理で内部水洗可能な構造を実現しました。 半永久的なエロフィンヒーター使用し、乾燥・滅菌・冷却の一貫工程制御が可能です。 【特長】 ■温度精度・温度分布の高均一 ■乾燥・滅菌・冷却一貫工程制御可能 ■クラス100清浄度の管理      など ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。

  • 滅菌器
  • オートクレーブ

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WebブラウザによるR&S FSVのリモート・モニタリング/制御

スペクトラム・アナライザのリモート操作やリモート・モニタリングについて掲載

当アプリケーションノートでは、標準的なWebブラウザを使用した R&S FSV3、R&S FSV7、R&S FSV13、R&S FSV30 スペクトラム・ アナライザのリモート操作やリモート・モニタリングについて 説明しています。 ここでは、一般的なクロスプラットフォーム技術である VNC(VirtualNetwork Computing)を測定器のサーバとして使用します。 【掲載内容】 ■はじめに ■測定器へのVNCのインストール  ・TightVNCの設定 ■スクリーン更新レートの最適化 ■ファイアウォールの設定 ■測定器スクリーンの解像度の変更 ■ブラウザからのソフト・フロントパネルの起動 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他電子計測器

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プラスチック射出成形の基礎と成形不良防止対策、成形収縮制御

★第1部では基本知識とレジン、成形機、金型、不良現象の原因と対策 ★第2部で装置の使い方、シリンダー温度、射出速度、金型温度

川崎市教育文化会館  4F 第2学習室【神奈川・川崎】 平成25年2月19日(火) 10:30-15:30 第1部 杉崎技術士事務所 所長/サンアロマー(株) 顧問 杉崎 喬 氏    (日本包装コンサルタント協会 理事 技術士(化学部門))  第2部 神鋼リサーチ(株) 産業戦略情報本部 調査二部 主席研究員 長岡 猛 氏

  • 技術セミナー

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CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御

ゼータ電位でCMPスラリーの分散・安定性を評価

半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、粒子径を均一に制御することで、安定した加工性能が得ることができます。また、凝集物などの粗大粒子が含まれると、研磨レートの変化やスクラッチなどの表面欠陥の要因となるため、粒子径の管理が重要です。そこで、CMPスラリーでは、高い分散性が求められており、ゼータ電位測定から最適な添加剤などの分散条件を検討することができます。 今回は、SiO2スラリーに10~300mMのNaClを添加し、そのゼータ電位および粒子径測定を行いました。 CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

  • 分析機器・装置

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