更新日： 集計期間:2026年02月18日～2026年03月17日
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各種材料、基材の加工実績が豊富！基材×薄膜＝光学調整・導電・抗菌/ウイルス
積水ナノコートの『スパッタリング技術』をご紹介します。 多様な用途/機能での実績があり、各種材料、基材の加工実績が豊富。 化学繊維、炭素繊維など、独自の繊維へのスパッタ加工に対応しています。 また、最大3400mm幅、スパッタ源10台まで対応可能なスパッタ装置を所有。 薄膜製品開発/販売、成膜受託加工、試作など、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■3つの技術軸：光学調整・導電・抗菌/ウイルス ■多様な用途/機能での実績 ■各種材料、基材の加工実績が豊富 ・材料：各種金属、合金、化合物 基材：フィルム、金属箔、紙など ■独自の繊維へのスパッタ加工 ・例：化学繊維、炭素繊維、ガラス繊維、不織布、など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
クリーンルーム内での成膜により安定した品質と高い信頼性を実現しております
当社は、硝子加工一筋に取り組み、現在は超精密研磨加工の取り扱いを 主力とする企業です。 反射膜(成膜加工)は、用途に応じた金属膜・多層膜を、当社では設計から 成膜まで徹底した品質管理を行い、より高品質かつ高信頼の製品を 提供させて頂いております。 ITO膜(成膜加工)は、透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・ 高密着・高強度膜を蒸着法・スパッタリング法で対応。また、 クリーンルーム内での成膜により安定した品質と高い信頼性を実現しております。 【特長】 ■用途に応じた金属膜・多層膜を、設計から成膜まで徹底した品質管理 ■より高品質かつ高信頼の製品を提供 ■透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・高密着・高強度膜を 蒸着法・スパッタリング法で対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スパッタリング技術で、高純度高精度な電極膜を形成！当社の薄膜微細加工をご紹介
シンコーの薄膜微細加工『電極成膜』についてご紹介いたします。 スパッタリング技術で、高純度高精度な電極膜を形成。磁性膜はFe/Ta系、 高純度Fe（パーメンジュール）、電極形成膜はAu、Cr、Ni/Crが形成可能です。 ターゲット純度や組成についてはお問合せください。 【スパッタリング技術で形成可能な薄膜種類】 ■磁性膜：Fe/Ta系、高純度Fe（パーメンジュール） ■電極形成膜：Au、Cr、Ni/Cr ■絶縁性膜：SiO2、Al2O3 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
柔らかい素材にめっきができる！ねじってもOK、曲げてもOK！
※カタログは『イプロス ものづくり』からダウンロード可能です。 軟質材への『真空蒸着成膜技術』を用いることで柔らかい素材でできた製品にもめっき光沢を付与することが可能。 外観を金属のようにでき、デザイン性が向上します。 また、六価クロムを使用していないため、環境に優しいめっきとなっています。
反射防止コート、反射膜、各種成膜可能です。 御支給材への成膜、材料～加工～成膜完品でのご提供も可能です。
レンズ、基板等へのARコート、露光装置等に使われる平面鏡用反射膜等、 各種成膜可能です。 お客様材料御支給での成膜、またレンズ、平面基板等も加工可能な為、 図面頂戴出来れば、成膜まで行った完品での納品も可能です。 完品での提供が可能な為、お客様の仕入れと売上のタイムラグを軽減するお手伝いが可能です。 異形物への蒸着も可能です。 蒸着でお困りの事が御座いましたら、 何でもご相談下さいませ。
円筒内面への真空成膜を実現！金属薄膜をコーティングし、光の円筒内反射、通電による加熱などが可能。
■概要 世界でも珍しい長さ1,500mmまでの円筒内面への薄膜形成が可能
ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。
プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。 現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。
磨耗に強いダイヤモンドライクカーボンです
ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンド ライク カーボン・DLC）膜の優れた特長を広くご活用いただける、表面処理加工を行います。
薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。
一般的にナノレベルの成膜を行うことが多い薄膜ですが、弊社では厚膜のご依頼も多くございます。 1ミクロンから数ミクロン、ご案件によっては10ミクロン以上のご相談もいただきます。 もちろん、どのような基材に何の膜をつけるのかによって変わってまいりますが、まずはお気軽にご相談ください★（もちろん薄い膜も得意です） 東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置まで豊富なラインナップと、35年以上の確かな実績をもとに、お客様のご要望に柔軟にお応えします！
熱Si酸化成膜、CVD成膜、メタル成膜は当社にお任せください！
株式会社M.T.Cで行っている加工受託サービスについてご紹介いたします。 当社は半導体加工で培った豊富な知識と経験で、MEMS受託加工サービスを 提供しており、成膜工程では熱Si酸化成膜、CVD成膜、メタル成膜を実施。 また、その他にも前処理やフォトリソグラフィー、エッチング、電界メッキ、 接合も行っています。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【加工内容】 ■熱Si酸化成膜 ■CVD成膜 ・SiO2、SiN ■メタル成膜 ・Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
【新技術】溶射、CVDと異なる新工法で複雑構造でも全面コーティング可能！ ※ケース別コーティング事例集進呈中
ナラサキ産業は限りなく精密に膜厚コントロールを実現する セラミックスDIPコーティングを開発しました。 多くの材質に対して自由度の増したセラミックスコーティングが 可能になります。 【４つの特長】 ◆形状自由度が高くメーター級での3D形状にもコーティング可能 ◆大半の高機能素材へのコーティング可能 ◆平均 50μ の厚膜が可能 ◆コーティング面の面粗度が良く円滑性に優れる (Ra0.8 以下も） 【コーティング可能対象材質】 ■ファインセラミックス（アルミナ、ジルコニア、窒化アルミなど） ■石英ガラスなどの耐熱ガラス ■黒鉛、高融点金属 ※現在、膜の緻密度のさらなる向上の改良テスト実施中です。 ※コーティング事例集をダウンロードしてご覧ください。 用途に応じ複合セラミックス膜を駆使し最適化を実現します。 お気軽にお問い合わせ下さい。
