DLC成膜（ダイヤモンドライクカーボン）
磨耗に強いダイヤモンドライクカーボンです
ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンド ライク カーボン・DLC）膜の優れた特長を広くご活用いただける、表面処理加工を行います。
- 企業：東製株式会社
- 価格：応相談
成膜 - メーカー・企業18社の業務用製品ランキング | イプロスものづくり
更新日： 集計期間:2026年02月11日～2026年03月10日
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成膜のメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2026年02月11日～2026年03月10日
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- 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所 東京都/その他
- 京浜ラムテック株式会社 神奈川県/製造・加工受託
- 株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン 東京都/その他
- 4 積水ナノコートテクノロジー株式会社 愛知県/製造・加工受託
- 4 ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課 東京都/製造・加工受託
成膜の製品ランキング
更新日： 集計期間:2026年02月11日～2026年03月10日
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- 次世代基板向け導体層形成『PVD装置』 世界初！銅ダイレクト成膜 株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- 独自技術のスパッタリング成膜でハイレベルなDLC成膜を実現！ 京浜ラムテック株式会社
- スパッタリング薄膜（フィルム/繊維） 受託加工/受託成膜/開発 積水ナノコートテクノロジー株式会社
- 4 DLC成膜（ダイヤモンドライクカーボン） 東製株式会社
- 4 用途募集中の新技術！『円筒内部成膜（コーティング）』 ジオマテック株式会社
成膜の製品一覧
1～22 件を表示 ／ 全 22 件
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用途募集中の新技術！『円筒内部成膜（コーティング）』
円筒内面への真空成膜を実現！金属薄膜をコーティングし、光の円筒内反射、通電による加熱などが可能。
■概要 世界でも珍しい長さ1,500mmまでの円筒内面への薄膜形成が可能
- 企業：ジオマテック株式会社
- 価格：応相談
導電性ダイヤモンド電極受託成膜
物質の酸化や還元反応が優先可能！従来方法では不可能であった物質の分解や合成ができます
ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、 強度等の特長を保持したまま様々な用途に使用できます。 電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が優先 できるため、従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能。 また、当社では、ダイヤモンド膜成膜時のプロセス条件や前処理を 最適化することで、オゾン水の生成に好適な導電性ダイヤモンド電極を 提供しています。 【特長】 ■物質の酸化や還元反応が優先できる ■従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社MPS
- 価格：応相談
薄膜微細加工『電極成膜』
スパッタリング技術で、高純度高精度な電極膜を形成！当社の薄膜微細加工をご紹介
シンコーの薄膜微細加工『電極成膜』についてご紹介いたします。 スパッタリング技術で、高純度高精度な電極膜を形成。磁性膜はFe/Ta系、 高純度Fe（パーメンジュール）、電極形成膜はAu、Cr、Ni/Crが形成可能です。 ターゲット純度や組成についてはお問合せください。 【スパッタリング技術で形成可能な薄膜種類】 ■磁性膜：Fe/Ta系、高純度Fe（パーメンジュール） ■電極形成膜：Au、Cr、Ni/Cr ■絶縁性膜：SiO2、Al2O3 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：シンコー株式会社
- 価格：応相談
『受託成膜サービス』のご案内
最大成膜エリア400mmΦ・315mm□！スパッタリングによる各種薄膜の成膜
当社では、各種金属材料、酸化膜材料等の受託成膜を行っており 特にプラスチック基板上への成膜を得意としております。 通常納期は1週間程度で、ご要望によりパターン成膜も可能。 まずは成膜したい材料、用いる基材をお知らせください。 お客様のご要望をもとに、前処理条件、成膜条件、膜厚等を決定いたします。 【可能な基材】 ■ガラス ■金属 ■セラミック ■Siウエハー ■各種プラスチック材料 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：アステラテック株式会社
- 価格：応相談
成膜加工部門
クリーンルーム内での成膜により安定した品質と高い信頼性を実現しております
当社は、硝子加工一筋に取り組み、現在は超精密研磨加工の取り扱いを 主力とする企業です。 反射膜(成膜加工)は、用途に応じた金属膜・多層膜を、当社では設計から 成膜まで徹底した品質管理を行い、より高品質かつ高信頼の製品を 提供させて頂いております。 ITO膜(成膜加工)は、透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・ 高密着・高強度膜を蒸着法・スパッタリング法で対応。また、 クリーンルーム内での成膜により安定した品質と高い信頼性を実現しております。 【特長】 ■用途に応じた金属膜・多層膜を、設計から成膜まで徹底した品質管理 ■より高品質かつ高信頼の製品を提供 ■透明導電膜はニーズに合わせて高抵抗～低抵抗・高密着・高強度膜を 蒸着法・スパッタリング法で対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：東京特殊硝子株式会社
- 価格：応相談
独自技術のスパッタリング成膜でハイレベルなDLC成膜を実現！
DLC成膜(膜質:ta-C領域, 表面粗度Ra0.16nm, 透過率：88％)を 従来では課題の多かったスパッタで実現
RAM CATHODE（4面対向式カソード）により、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、ta-C領域を得るには、HIPIMS電源を使用し、 強制的にイオン化率を上げなければなりませんでした。 【当社が開発したRAMカソード】 ４面に対向するターゲットを配することでターゲット間の磁界により プラズマの拘束を高めることが可能となり、高密度プラズマが形成されます。 拘束されたプラズマ内において電子、反跳アルゴン、C fluxは、 互いに衝突を繰り返すことでArイオン及びCfluxのイオン化が促進され、 DLC膜においてC-C結合を容易に形成することができます。 その結果、HIPIMS電源を使用することなく、高硬度で平滑度の高いDLC形成を実現化しました。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：京浜ラムテック株式会社
- 価格：応相談
スパッタリング薄膜（フィルム/繊維） 受託加工/受託成膜/開発
各種材料、基材の加工実績が豊富！基材×薄膜＝光学調整・導電・抗菌/ウイルス
積水ナノコートの『スパッタリング技術』をご紹介します。 多様な用途/機能での実績があり、各種材料、基材の加工実績が豊富。 化学繊維、炭素繊維など、独自の繊維へのスパッタ加工に対応しています。 また、最大3400mm幅、スパッタ源10台まで対応可能なスパッタ装置を所有。 薄膜製品開発/販売、成膜受託加工、試作など、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■3つの技術軸：光学調整・導電・抗菌/ウイルス ■多様な用途/機能での実績 ■各種材料、基材の加工実績が豊富 ・材料：各種金属、合金、化合物 基材：フィルム、金属箔、紙など ■独自の繊維へのスパッタ加工 ・例：化学繊維、炭素繊維、ガラス繊維、不織布、など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：積水ナノコートテクノロジー株式会社
- 価格：応相談
導電性ダイヤモンド 受託成膜
従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です
当社では、導電性ダイヤモンド コーティングサービスを行っております。 シリコン、ニオブ、タングステン、モリブデンなどの基板の上にダイヤモンド膜をコーティングする受託成膜をこなっています。 ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、強度等の 特長を保持したまま様々な用途に使用可能。 また、電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が 優先できるため、従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です。 【用途範囲】 ■電解合成 ■電気分解 ■センサー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：DIAM株式会社
- 価格：応相談
低温成膜で高硬度のDLC(TAC)膜を提供
部品の傷付き、摩耗にお困りの方必見。水素フリーDLC（ta-C）膜は高硬度・高密度で、高い耐摩耗性！熱による基材の変形なし
フィルタードアーク方式（FCVA）による水素フリーのDLC膜（ta-C）は、 既存のPVD方式やCVD方式と異なり、電磁フィルターにより不純物を除くため、 パーティクルが少なく、優れた密着性と高い耐摩耗性を実現します。 また室温成膜であるためプラスチックやゴム等の低融点材料への成膜や、 セラミックス等の様々な材料への成膜も可能です。 更に10um以上の厚膜も作成可能となり、自動車部品の高品質化、長寿命化による付加価値を高めます。 DLC膜のみならず、金属膜の作成も可能です。 受託成膜、装置販売も承っております。 【特長】 ■ 高硬度 (~50GPa) ■ 高密度 ■ 高密着性 ■ 耐摩耗性 ■ 低温成膜 (＜100℃) ■ DLC(TAC)＋装飾膜が可能 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。
- 企業：株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン
- 価格：応相談
低温成膜で高硬度のDLC(TAC)膜を提供
部品の傷付き、摩耗にお困りではありませんか。水素フリーDLC（ta-C）膜は高硬度・高密度で、高い耐摩耗性を示します。
フィルタードアーク方式（FCVA）による水素フリーのDLC膜（ta-C）は、既存のPVD方式やCVD方式と異なり、 電磁フィルターにより不純物を除くため、パーティクルが少なく、優れた密着性と高い耐摩耗性を実現します。 また室温成膜であるためプラスチックやゴム等の低融点材料への成膜や、セラミックス等の様々な材料への成膜も可能です。 更に10um以上の厚膜も作成可能となり、自動車部品の高品質化、長寿命化による付加価値を高めます。 DLC膜のみならず、金属膜の作成も可能です。 受託成膜、装置販売も承っております。 【特長】 ■ 高硬度 (~50GPa) ■ 高密度 ■ 高密着性 ■ 耐摩耗性 ■ 低温成膜 (＜100℃) ■ DLC(TAC)＋装飾膜が可能 【適用分野】 ■ 樹脂材料、セラミックス材料 ■ 光学部品 ■ 自動車部品 ■ プリンター産業 ■ ガラスレンズ、プラスチック等の成形用精密金型の離型膜 第26回 機械要素技術展【大阪】に出展いたします。 会場：インテックス大阪 ホール名 : 6号館A 小間番号 : 32-5
- 企業：株式会社ナノフィルムテクノロジーズ ジャパン
- 価格：応相談
次世代基板向け導体層形成『PVD装置』 世界初！銅ダイレクト成膜
中真空域でのスパッタリング技術を使用し、世界で初めて銅ダイレク成膜によるめっきシード層形成技術を開発！ 従来以上の生産性を実現！
【特徴】 ■ 真空プロセスで無電解めっきなど従来工法同等以上の高い生産性を実現 ■ 新しいプラズマソースによる高密度プラズマ改質処理が可能 ■ 有機絶縁材やガラスなどへ銅のダイレクトスパッタリングにより高密着プロセスが可能 ■ スパッタリングでは難しいとされる高アスペクト率のTHやBVHへの成膜を実現 ■ 従来のスパッタリング装置に比べ圧倒的な装置コスト競争力がある 【密着強度（ピール強度）】 無アルカリガラス ：～10 石英 ：～7 エポキシ樹脂 ：～6 ポリイミド ：～12
- 企業：株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- 価格：応相談
スパッタリング成膜
高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術！
スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子（アルゴン）を成膜材料（ターゲット）に衝突させ、 その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成する方法です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 スパッタリング法によるコーティングサービスも行っております。 現在、スパッタリング法での対応膜種は、Ti、TiN、TiCの３膜種とさせていただいております。
- 企業：東邦化研株式会社
- 価格：応相談
プラズマＣＶＤ成膜
ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。
プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコーティングサービスも行っております。 現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC（Diamond-Like Carbon）、SiO2、SiN、SiCの４膜種とさせていただいております。
- 企業：東邦化研株式会社
- 価格：応相談
イオンプレーティング成膜
50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術から生まれたイオンプレーティング
イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 用途に応じて部品・素材に新たな機能を施すことが可能です。 【イオンプレーティングの特長】 ■真空蒸着より密着力が強い ■低温でのコーティングが可能（極一部の膜種除く） ■幅広い膜種に対応可能 ■成膜条件の多様性が得られる ■酸化膜・窒化膜・炭化膜など反応膜への応用が可能 ■真空蒸着より影への膜の付きまわりが良い ■合金膜が可能
- 企業：東邦化研株式会社
- 価格：応相談
厚膜成膜
薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。
一般的にナノレベルの成膜を行うことが多い薄膜ですが、弊社では厚膜のご依頼も多くございます。 1ミクロンから数ミクロン、ご案件によっては10ミクロン以上のご相談もいただきます。 もちろん、どのような基材に何の膜をつけるのかによって変わってまいりますが、まずはお気軽にご相談ください★（もちろん薄い膜も得意です） 東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置まで豊富なラインナップと、35年以上の確かな実績をもとに、お客様のご要望に柔軟にお応えします！
- 企業：東邦化研株式会社
- 価格：応相談
【表面処理】軟質材への『真空蒸着成膜技術』
柔らかい素材にめっきができる！ねじってもOK、曲げてもOK！
※カタログは『イプロス ものづくり』からダウンロード可能です。 軟質材への『真空蒸着成膜技術』を用いることで柔らかい素材でできた製品にもめっき光沢を付与することが可能。 外観を金属のようにでき、デザイン性が向上します。 また、六価クロムを使用していないため、環境に優しいめっきとなっています。
- 企業：株式会社タカシマ 締結部品・加工部品 ものづくり総合商社
- 価格：応相談
フッ素成膜『CS1』
基板を擦りつけることにより、瞬時にフッ素のバリアが完成！
『CS1』は、特殊な溶液を染み込ませやシートで基板を拭くことにより、 基盤が自分自身で表面にフッ素の結晶を生み出すフッ素成膜です。 自己組織化法による成膜は化学反応による結合のため耐久性に優れます。 また、原子・分子レベルの単層でバリアが出来るため、誰でも簡単に均一な フッ素膜を成膜できます。 【特長】 ■汚れがつきにくい ■汚れが落ちやすい ■素早く簡単にできるフッ素成膜 ■タッチパネルの操作性にほとんど影響しない ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社NAZCA
- 価格：応相談
成膜
反射防止コート、反射膜、各種成膜可能です。 御支給材への成膜、材料～加工～成膜完品でのご提供も可能です。
レンズ、基板等へのARコート、露光装置等に使われる平面鏡用反射膜等、 各種成膜可能です。 お客様材料御支給での成膜、またレンズ、平面基板等も加工可能な為、 図面頂戴出来れば、成膜まで行った完品での納品も可能です。 完品での提供が可能な為、お客様の仕入れと売上のタイムラグを軽減するお手伝いが可能です。 異形物への蒸着も可能です。 蒸着でお困りの事が御座いましたら、 何でもご相談下さいませ。
【加工受託サービス】成膜
熱Si酸化成膜、CVD成膜、メタル成膜は当社にお任せください！
株式会社M.T.Cで行っている加工受託サービスについてご紹介いたします。 当社は半導体加工で培った豊富な知識と経験で、MEMS受託加工サービスを 提供しており、成膜工程では熱Si酸化成膜、CVD成膜、メタル成膜を実施。 また、その他にも前処理やフォトリソグラフィー、エッチング、電界メッキ、 接合も行っています。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【加工内容】 ■熱Si酸化成膜 ■CVD成膜 ・SiO2、SiN ■メタル成膜 ・Al、Al-Si、Al-Cu、Cu、Ti、W、Mo ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社M.T.C
- 価格：応相談
新技術！イットリアコーティング アルミナ部材への成膜
【新技術】溶射、CVDと異なる新工法で複雑構造でも全面コーティング可能！ ※ケース別コーティング事例集進呈中
ナラサキ産業は限りなく精密に膜厚コントロールを実現する セラミックスDIPコーティングを開発しました。 多くの材質に対して自由度の増したセラミックスコーティングが 可能になります。 【４つの特長】 ◆形状自由度が高くメーター級での3D形状にもコーティング可能 ◆大半の高機能素材へのコーティング可能 ◆平均 50μ の厚膜が可能 ◆コーティング面の面粗度が良く円滑性に優れる (Ra0.8 以下も） 【コーティング可能対象材質】 ■ファインセラミックス（アルミナ、ジルコニア、窒化アルミなど） ■石英ガラスなどの耐熱ガラス ■黒鉛、高融点金属 ※現在、膜の緻密度のさらなる向上の改良テスト実施中です。 ※コーティング事例集をダウンロードしてご覧ください。 用途に応じ複合セラミックス膜を駆使し最適化を実現します。 お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課
- 価格：応相談
【研究・開発向け】電気がとおるガラス基板でのお困りの方必見！
基板や膜の素材(種類)、厚さをご要望に合わせて成膜可能！透過率８０％以上と高い性能のFTO透明導電膜 ※持ち込み受託テスト可
液晶・電子部品・太陽電池に使われるガラス基板でうまく電気を流したい、 ガラス基板を発熱させてヒーターとして使いたいなどのご要望ございませんか？ ＳＰＤ研究所なら、シート抵抗と膜厚を要望に合わせた数値に成膜可能！透過率も８０％以上と高い高性能のガラス基板を受託で成膜できます。 ※自社開発した成膜装置を使った持ち込みテスト可能。大手電機メーカーや大手化学メーカーなどの多数実績有り！ 【こんなご要望ございませんか？】 ■薄いガラス0.2ｍｍから2.5ｍｍまでの幅広い板厚で実験したい ■ガラスだけではなく、メタル（SUS/アルミなどの金属基板）基板にも成膜したい ■特定のパターンニングした箇所でかつ、スポット的に成膜したい ■膜の種類を変えて試してみたい ※例：ＦＴＯ、ＩＴＯ、Ｔ:O²、ＡＴＯ、ＡＺＯ、ＣuＩ²、ＰＴＯ…など SPD研究所では、自社開発で成膜装置を製造しているからこそ、ご要望に沿った成膜を実現できます。お気軽にお問い合わせください。 ※ガラス、金属、セラミック等の薄膜コーティングなどの情報はPDFダウンロードいただくか、お問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社SPD研究所
- 価格：応相談
