Last Updated： Aggregation Period:2026年02月25日～2026年03月24日
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薄い膜だけじゃない！厚く成膜することもできます。
一般的にナノレベルの成膜を行うことが多い薄膜ですが、弊社では厚膜のご依頼も多くございます。 1ミクロンから数ミクロン、ご案件によっては10ミクロン以上のご相談もいただきます。 もちろん、どのような基材に何の膜をつけるのかによって変わってまいりますが、まずはお気軽にご相談ください★（もちろん薄い膜も得意です） 東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 小型装置から大型装置まで豊富なラインナップと、35年以上の確かな実績をもとに、お客様のご要望に柔軟にお応えします！
部品の傷付き、摩耗にお困りの方必見。水素フリーDLC（ta-C）膜は高硬度・高密度で、高い耐摩耗性！熱による基材の変形なし
フィルタードアーク方式（FCVA）による水素フリーのDLC膜（ta-C）は、 既存のPVD方式やCVD方式と異なり、電磁フィルターにより不純物を除くため、 パーティクルが少なく、優れた密着性と高い耐摩耗性を実現します。 また室温成膜であるためプラスチックやゴム等の低融点材料への成膜や、 セラミックス等の様々な材料への成膜も可能です。 更に10um以上の厚膜も作成可能となり、自動車部品の高品質化、長寿命化による付加価値を高めます。 DLC膜のみならず、金属膜の作成も可能です。 受託成膜、装置販売も承っております。 【特長】 ■ 高硬度 (~50GPa) ■ 高密度 ■ 高密着性 ■ 耐摩耗性 ■ 低温成膜 (＜100℃) ■ DLC(TAC)＋装飾膜が可能 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。
部品の傷付き、摩耗にお困りではありませんか。水素フリーDLC（ta-C）膜は高硬度・高密度で、高い耐摩耗性を示します。
フィルタードアーク方式（FCVA）による水素フリーのDLC膜（ta-C）は、既存のPVD方式やCVD方式と異なり、 電磁フィルターにより不純物を除くため、パーティクルが少なく、優れた密着性と高い耐摩耗性を実現します。 また室温成膜であるためプラスチックやゴム等の低融点材料への成膜や、セラミックス等の様々な材料への成膜も可能です。 更に10um以上の厚膜も作成可能となり、自動車部品の高品質化、長寿命化による付加価値を高めます。 DLC膜のみならず、金属膜の作成も可能です。 受託成膜、装置販売も承っております。 【特長】 ■ 高硬度 (~50GPa) ■ 高密度 ■ 高密着性 ■ 耐摩耗性 ■ 低温成膜 (＜100℃) ■ DLC(TAC)＋装飾膜が可能 【適用分野】 ■ 樹脂材料、セラミックス材料 ■ 光学部品 ■ 自動車部品 ■ プリンター産業 ■ ガラスレンズ、プラスチック等の成形用精密金型の離型膜 第26回 機械要素技術展【大阪】に出展いたします。 会場：インテックス大阪 ホール名 : 6号館A 小間番号 : 32-5
柔らかい素材にめっきができる！ねじってもOK、曲げてもOK！
※カタログは『イプロス ものづくり』からダウンロード可能です。 軟質材への『真空蒸着成膜技術』を用いることで柔らかい素材でできた製品にもめっき光沢を付与することが可能。 外観を金属のようにでき、デザイン性が向上します。 また、六価クロムを使用していないため、環境に優しいめっきとなっています。
従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です
当社では、導電性ダイヤモンド コーティングサービスを行っております。 シリコン、ニオブ、タングステン、モリブデンなどの基板の上にダイヤモンド膜をコーティングする受託成膜をこなっています。 ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、強度等の 特長を保持したまま様々な用途に使用可能。 また、電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が 優先できるため、従来方法では難しかった物質の分解や合成が可能です。 【用途範囲】 ■電解合成 ■電気分解 ■センサー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
物質の酸化や還元反応が優先可能！従来方法では不可能であった物質の分解や合成ができます
ダイヤモンドは通常絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで 導電性を付与することができ、ダイヤモンドの化学的安定性、 強度等の特長を保持したまま様々な用途に使用できます。 電位窓が広く、通常電気分解しにくい物質の酸化や還元反応が優先 できるため、従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能。 また、当社では、ダイヤモンド膜成膜時のプロセス条件や前処理を 最適化することで、オゾン水の生成に好適な導電性ダイヤモンド電極を 提供しています。 【特長】 ■物質の酸化や還元反応が優先できる ■従来方法では不可能であった物質の分解や合成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板や膜の素材(種類)、厚さをご要望に合わせて成膜可能！透過率８０％以上と高い性能のFTO透明導電膜 ※持ち込み受託テスト可
液晶・電子部品・太陽電池に使われるガラス基板でうまく電気を流したい、 ガラス基板を発熱させてヒーターとして使いたいなどのご要望ございませんか？ ＳＰＤ研究所なら、シート抵抗と膜厚を要望に合わせた数値に成膜可能！透過率も８０％以上と高い高性能のガラス基板を受託で成膜できます。 ※自社開発した成膜装置を使った持ち込みテスト可能。大手電機メーカーや大手化学メーカーなどの多数実績有り！ 【こんなご要望ございませんか？】 ■薄いガラス0.2ｍｍから2.5ｍｍまでの幅広い板厚で実験したい ■ガラスだけではなく、メタル（SUS/アルミなどの金属基板）基板にも成膜したい ■特定のパターンニングした箇所でかつ、スポット的に成膜したい ■膜の種類を変えて試してみたい ※例：ＦＴＯ、ＩＴＯ、Ｔ:O²、ＡＴＯ、ＡＺＯ、ＣuＩ²、ＰＴＯ…など SPD研究所では、自社開発で成膜装置を製造しているからこそ、ご要望に沿った成膜を実現できます。お気軽にお問い合わせください。 ※ガラス、金属、セラミック等の薄膜コーティングなどの情報はPDFダウンロードいただくか、お問い合わせ下さい。
【新技術】溶射、CVDと異なる新工法で複雑構造でも全面コーティング可能！ ※ケース別コーティング事例集進呈中
ナラサキ産業は限りなく精密に膜厚コントロールを実現する セラミックスDIPコーティングを開発しました。 多くの材質に対して自由度の増したセラミックスコーティングが 可能になります。 【４つの特長】 ◆形状自由度が高くメーター級での3D形状にもコーティング可能 ◆大半の高機能素材へのコーティング可能 ◆平均 50μ の厚膜が可能 ◆コーティング面の面粗度が良く円滑性に優れる (Ra0.8 以下も） 【コーティング可能対象材質】 ■ファインセラミックス（アルミナ、ジルコニア、窒化アルミなど） ■石英ガラスなどの耐熱ガラス ■黒鉛、高融点金属 ※現在、膜の緻密度のさらなる向上の改良テスト実施中です。 ※コーティング事例集をダウンロードしてご覧ください。 用途に応じ複合セラミックス膜を駆使し最適化を実現します。 お気軽にお問い合わせ下さい。
最大成膜エリア400mmΦ・315mm□！スパッタリングによる各種薄膜の成膜
当社では、各種金属材料、酸化膜材料等の受託成膜を行っており 特にプラスチック基板上への成膜を得意としております。 通常納期は1週間程度で、ご要望によりパターン成膜も可能。 まずは成膜したい材料、用いる基材をお知らせください。 お客様のご要望をもとに、前処理条件、成膜条件、膜厚等を決定いたします。 【可能な基材】 ■ガラス ■金属 ■セラミック ■Siウエハー ■各種プラスチック材料 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
