洗浄＆乾燥装置 「レンズ・ガラス基板の水切洗浄・乾燥システム」
比重差で“水”を浮かせるHFE乾燥の新基準。『3つのゼロ』で品質を決める――― それが私たちの仕事です。
従来のIPA乾燥や温風乾燥で課題となっていた「水染みゼロ」「乾燥ムラゼロ」「引火リスクゼロ」を実現。 弊社独自の水分除去装置により、HFE溶剤中の微量水分を常時管理し、乾燥品質を安定化させます。 ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる水の大半は、比重分離により装置外へ排出されます。 HFE溶剤に溶け込んだ微量水分も、水分除去装置によって確実に除去します。 HFE溶剤による水切り・乾燥システムは、洗浄後のガラスや金属製品に付着した水を比重差と超音波作用で素早く分離し、水染みを完全に防止します。 ガラス・レンズ・金属部品などの精密乾燥工程で、安全・省エネ・量産対応を実現します。 【特徴】 ○ IPAを使用しないため、引火・安全面のリスクを回避 ○ 乾燥に必要なエネルギー消費量を大幅削減→CO₂排出抑制 ○洗浄スピード向上により量産ラインにも対応 ○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く ○ 微量水分を常時除去する「水分除去装置（オプション）」 により水染み“ゼロ”を維持
- 企業：大川興産株式会社 本社
- 価格：応相談
