温調システムのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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温調システム - メーカー・企業5社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年11月26日~2025年12月23日
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温調システムのメーカー・企業ランキング

更新日: 集計期間:2025年11月26日~2025年12月23日
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  1. 株式会社エムアイティ 東京都/商社・卸売り
  2. 株式会社サンエイテック 千葉県/産業用電気機器
  3. エムエス機器株式会社 大阪府/産業用機械
  4. 4 株式会社SDK 神奈川県/産業用電気機器
  5. 4 株式会社朝日工業社 本店 エンジニアリング企画開発部 東京都/建材・資材・什器

温調システムの製品ランキング

更新日: 集計期間:2025年11月26日~2025年12月23日
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  1. エンジンベンチ用 温調システム 株式会社エムアイティ
  2. ペルチェ式高精度シリンジ温調システム 株式会社サンエイテック
  3. 薬液温調システム CLEANSTREAM エムエス機器株式会社
  4. 消費電力大幅削減!薬液温調システム エムエス機器株式会社
  5. 4 【熱制御】温調システム 株式会社SDK

温調システムの製品一覧

1~6 件を表示 / 全 6 件

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薬液温調システム CLEANSTREAM

薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比べ95%もの電力消費を削減できます!

半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。 別売の専用のコントローラーで温度制御します。

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エンジンベンチ用 温調システム

お客様のご要望に合わせて、各種温調システムを製作いたします!

お客様の要求仕様に合わせて設計を行う為、性能のみならず設置スペースなどより効率の良い装置をご提案させていただきます。 制御範囲が±5℃のリーズナブルなタイプから、±1℃の高精度なタイプまでご用意できます。 加熱・冷却タイプや加熱のみ冷却のみタイプも製作可能です。 また各種インターロックや警報等、装置側とのシステムの構築も可能です。 ブライン水(チラー液)対応可(エンジン冷却水)。 各種オリジナル制御組み込み対応可。

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ペルチェ式高精度シリンジ温調システム

シリンジ内の液剤粘度を 温調制御で一定保持。

ペルチェ式高精度シリンジ温調システムは、シリンジ内液剤を正確に 温調制御し液剤温度を一定に管理します。 短時間で設定温度まで到達し一定に保持します。 液剤粘度を一定に保持することで安定した塗布作業が実現します。 SET シリンジシステムとの組合せで、より高精度で安定した吐出が可能です。 ・ペルチェ方式による高精度温度制御 ・自動機への搭載が可能 ・メンテナンスフリー ・見やすい表示部

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【熱制御】温調システム

ご要望に応じてカスタムも可能!温調ステージと無風恒温槽の2つのタイプをご用意しました

当社の『温調システム』は、電子機器信頼性テスト環境の熱問題を解決します。 サーマルステージを温度変化させ、熱伝導でサンプルを温調。 温調ステージと無風恒温槽の2つのタイプがございます。 ご要望に応じてカスタムも可能です。 【特長】 ■電子機器信頼性テスト環境の熱問題を解決 ■サーマルステージを温度変化させ、熱伝導でサンプルを温調 ■温調ステージと無風恒温槽の2つのタイプがある ■-55℃~+150℃ ■カスタムも可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 恒温槽

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噴流式ガラス基板温調システム『クリスタルジェット』

温度管理の高精度化!大型基板への対応が可能な噴流式ガラス基板温調システム

『クリスタルジェット』は、液晶パネル生産を支えるキーデバイスとして 広く世界中で採用されている噴流式ガラス基板温調システムです。 新たな空調システム“高効率顕熱空調機”を採用し、冷却のみでの 精密温度制御を実現。 レイアウトに合わせたカスタマイズが可能なほか、全面層流タイプや 小風量タイプなど、様々なオプションもご用意しています。 【特長】 ■大型基板への対応 ■温度管理の高精度化 ■処理時間の短縮 ■省エネ・省スペース化 ■ガラス基板温度収束時間25秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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消費電力大幅削減!薬液温調システム

薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比べ95%もの電力消費を削減できます!

半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。 ●詳しくはお問い合わせください。

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